三维数字服装的印花嵌入方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:37678395 阅读:14 留言:0更新日期:2023-05-26 04:44
本发明专利技术涉及三维数字服装领域,公开了一种三维数字服装的印花嵌入方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:检测到印花嵌入指令时,确定印花嵌入指令针对的三维数字服装;获取三维数字服装对应的版型数据;对印花嵌入指令携带的印花进行数字化采样,得到采样点;将采样点投射到二维坐标系,得到位图;根据嵌入指令携带的预设嵌入位置将位图与版型数据投射至同一二维坐标系,得到位图在版型数据中对应的二维坐标;确定二维坐标在三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置;根据印花嵌入位置嵌入印花。本发明专利技术提高了嵌入的印花的真实性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
三维数字服装的印花嵌入方法、装置、设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及三维数字服装领域,尤其涉及一种三维数字服装的印花嵌入方法、装置、设备及存储介质。

技术介绍

[0002]三维数字服装的展示中,往往会在三维数字服装嵌入印花。常规的印花嵌入方式使用3D贴图技术,该技术将原本正常2D显示的印花图片嵌入三维数字服装,其中,由于印花嵌入位置难以把控,可能会出现畸变或者不精准的情况,使得嵌入的印花的真实性低。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的在于解决嵌入的印花的真实性低的技术问题。
[0004]本专利技术第一方面提供了一种三维数字服装的印花嵌入方法,所述三维数字服装的印花嵌入方法包括:
[0005]检测到印花嵌入指令时,确定所述印花嵌入指令针对的三维数字服装;
[0006]获取所述三维数字服装对应的版型数据;
[0007]对所述印花嵌入指令携带的印花进行数字化采样,得到采样点;
[0008]将所述采样点投射到二维坐标系,得到位图;
[0009]根据所述嵌入指令携带的预设嵌入位置将所述位图与所述版型数据投射至同一二维坐标系,得到所述位图在所述版型数据中对应的二维坐标;
[0010]确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置;
[0011]根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花。
[0012]可选的,在本专利技术第一方面的第一种实现方式中,所述确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置的步骤包括:
[0013]根据预设映射算法确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的所述三维坐标,得到所述印花嵌入位置。
[0014]可选的,在本专利技术第一方面的第二种实现方式中,所述根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花的步骤包括:
[0015]根据所述位图生成3D印花;
[0016]根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装。
[0017]可选的,在本专利技术第一方面的第三种实现方式中,所述根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装,得到目标三维数字服装的步骤包括:
[0018]在GPU中根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装。
[0019]可选的,在本专利技术第一方面的第四种实现方式中,所述根据所述位图生成3D印花的步骤包括:
[0020]根据所述位图进行空间反演变换,得到所述3D印花。其中,在平面内设有一半径为r,中心为O的圆,对任一异于O点的P点,将其变换成该射线OP上一点P',且使OP'
·
OP=r2,
这个变换叫做平面反演变换。圆O叫做反演基圆,圆心O叫做反演中心或反演极,R叫做反演半径或反演幂。从定义可知,反演变换将过反演中心的射线变成自身,且在此射线上建立对合对应,它使位于圆内的点变成圆外的点,位于圆外的点变成圆内的点,反演中心变成平面内的无限远点。而反演圆上的点则保持不变。空间反演变换可以看作是平面反演变换绕反演基圆的直径旋转而得。反演变换下,将不过反演中心的直线或平面,分别变成过反演中心的圆或球面;将过反演中心的圆或球面,分别变成另一个不过反演中心的圆或球面。反之也成立。反演变换是反向保角的,即使两线(或两面)所成的角度的大小保持不变,但方向相反。
[0021]可选的,在本专利技术第一方面的第五种实现方式中,所述确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标的步骤括:
[0022]根据预设映射算法确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的所述三维坐标。
[0023]可选的,在本专利技术第一方面的第六种实现方式中,所述对所述印花进行数字化采样,得到采样点的步骤包括:
[0024]通过CAD对所述印花进行所述数字化采样,得到所述采样点。
[0025]本专利技术第二方面提供了一种三维数字服装的印花嵌入装置,包括:
[0026]确定模块,用于检测到印花嵌入指令时,确定所述印花嵌入指令针对的三维数字服装;
[0027]获取模块,用于获取所述三维数字服装对应的版型数据;
[0028]采样模块,用于对所述印花嵌入指令携带的印花进行数字化采样,得到采样点;
[0029]第一投射模块,用于将所述采样点投射到二维坐标系,得到位图;
[0030]第二投射模块,用于根据所述嵌入指令携带的预设嵌入位置将所述位图与所述版型数据投射至同一二维坐标系,得到所述位图在所述版型数据中对应的二维坐标;
[0031]确定模块,用于确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置;
[0032]嵌入模块,用于根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花。
[0033]本专利技术第三方面提供了一种三维数字服装的印花嵌入设备,包括:存储器和至少一个处理器,所述存储器中存储有指令,所述存储器和所述至少一个处理器通过线路互连;所述至少一个处理器调用所述存储器中的所述指令,以使得所述三维数字服装的印花嵌入设备执行上述的三维数字服装的印花嵌入方法。
[0034]本专利技术的第四方面提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质中存储有指令,当其在计算机上运行时,使得计算机执行上述的三维数字服装的印花嵌入方法。
[0035]本专利技术实施例中,检测到印花嵌入指令时,确定所述印花嵌入指令针对的三维数字服装;获取所述三维数字服装对应的版型数据;对所述印花嵌入指令携带的印花进行数字化采样,得到采样点;将所述采样点投射到二维坐标系,得到位图;根据所述嵌入指令携带的预设嵌入位置将所述位图与所述版型数据投射至同一二维坐标系,得到所述位图在所述版型数据中对应的二维坐标;确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置;根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花。由于三维数字服装的印花嵌
入设备在接受到印花嵌入指令时可基于其携带的印花以及目标确定印花嵌入位置,然后将印花嵌入该位置,实现了将二维印花体现在三维数字服装上的印花嵌入技术,其中,印花的嵌入位置是其坐标关联的版型数据的二维坐标进行确定的,实现了一一对应的嵌入,杜绝了将二维印花嵌入三维数字服装导致的显示畸变的问题,可使得印花的尺寸、大小、和形态完全的仿真与还原,并且支持所见即所得(一种系统,它使得用户在视图中所看到文档与该文档的最终产品具有相同的样式,也允许用户在视图中直接编辑文本、图形、或文档中的其他元素)的印花编辑方式,提高了嵌入的印花的真实性。
附图说明
[0036]图1为本专利技术实施例中三维数字服装的印花嵌入方法的一个实施例示意图;
[0037]图2为本专利技术实施例中三维数字服装的印花嵌入装置的一个实施例示意图;
[0038]图3为本专利技术实施例中三维数字服装的印花嵌入设备的一个实施例示意图。
具体实施方式
[0039]本专利技术实施例提供了一种三维数字服装的印花嵌入方法、装置、设备及存储介质。
[0040]本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述三维数字服装的印花嵌入方法包括:检测到印花嵌入指令时,确定所述印花嵌入指令针对的三维数字服装;获取所述三维数字服装对应的版型数据;对所述印花嵌入指令携带的印花进行数字化采样,得到采样点;将所述采样点投射到二维坐标系,得到位图;根据所述嵌入指令携带的预设嵌入位置将所述位图与所述版型数据投射至同一二维坐标系,得到所述位图在所述版型数据中对应的二维坐标;确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置;根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花。2.根据权利要求1所述的三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的三维坐标,得到印花嵌入位置的步骤包括:根据预设映射算法确定所述二维坐标在所述三维数字服装中对应的所述三维坐标,得到所述印花嵌入位置。3.根据权利要求1所述的三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述根据所述印花嵌入位置嵌入所述印花的步骤包括:根据所述位图生成3D印花;根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装。4.根据权利要求3所述的三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装,得到目标三维数字服装的步骤包括:在GPU中根据所述印花嵌入位置将所述3D印花嵌入所述三维数字服装。5.根据权利要求3所述的三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述根据所述位图生成3D印花的步骤包括:根据所述位图进行空间反演变换,得到所述3D印花。6.根据权利要求1

5任一项所述的三维数字服装的印花嵌入方法,其特征在于,所述确定所述二维坐标在所述三维数字服装中...

【专利技术属性】
技术研发人员:沈庆
申请(专利权)人:深圳艺特珑信息科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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