光学装置和光学装置计量的方法制造方法及图纸

本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和光学装置计量的方法以提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。光学装置包括一个或更多个目标特征。本文描述的目标特征提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。在计量工艺中，目标特征允许计量工具确定具有宏观尺度的表面面积的光学装置的一个或更多个位置。目标特征对应于合并在一起的一个或更多个结构、被已移除的一个或更多个结构环绕的合并在一起的一个或更多个结构、或具有一个或更多个轮廓的已移除的一个或更多个结构，由与目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。一个或更多个轮廓。一个或更多个轮廓。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学装置和光学装置计量的方法
[0001]背景


[0002]本公开内容的实施方式总体涉及光学装置和光学装置计量的方法。更具体地，本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和提供计量工具位置识别而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计的光学装置计量方法。

技术介绍

[0003]光学装置可用于操纵光的传播。光学装置的一个范例是平坦光学装置，诸如超表面之类。光学装置的另一范例是波导合成器(waveguide combiner)，诸如增强现实波导合成器之类。可见光和近红外光谱中的光学装置可能需要设置在具有宏观尺度尺寸的基板表面上的结构，诸如纳米结构之类。光学装置的光学性能取决于纳米结构的特性。所述特性包括纳米结构的尺寸以及纳米结构相对于其他纳米结构的位置。
[0004]作为一种新兴技术，处理基板以形成光学装置既复杂又具有挑战性。为了确认纳米结构的尺寸在可接受的容限内，需要计量来验证尺寸。相应地，本领域中需要的是具有一个或更多个计量特征的光学装置和提供计量工具位置识别而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计的光学装置计量方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学装置，包含：基板；和多个结构，所述多个结构设置于所述光学装置的所述基板的表面上，所述多个结构具有小于一个微米的临界尺寸，所述多个结构包括对应于合并在一起的一个或更多个结构的一个或更多个目标特征，其中一个或更多个目标特征对所述多个结构的比率在约1：100,000与约1：1,000,000,000之间。2.如权利要求1所述的光学装置，其中能通过计量工具来读取所述一个或更多个目标特征。3.如权利要求2所述的光学装置，其中所述计量工具包括扫描电子显微镜(SEM)、临界尺寸扫描电子显微镜(CDSEM)、或透射电子显微镜(TEM)。4.如权利要求3所述的光学装置，其中合并在一起的所述结构包括能通过所述计量工具来读取的交叉、矩形、正方形、圆形、半圆形、三角形、和/或其他图案。5.如权利要求3所述的光学装置，其中所述一个或更多个目标特征对应于被已移除的所述多个结构的一个或更多个结构环绕的合并在一起的所述多个结构的一个或更多个结构。6.如权利要求3所述的光学装置，其中所述一个或更多个目标特征对应于具有一个或更多个轮廓的已移除的所述多个结构的一个或更多个结构，由与所述目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。7.如权利要求6所述的光学装置，其中所述一个或更多个轮廓包括能通过所述计量工具来读取的交叉、矩形、正方形、圆形、半圆形、三角形、和/或其他图案。8.如权利要求1所述的光学装置，其中所述多个结构包括包含以下项目的结构：宽度或直径，所述宽度或直径对应于所述多个结构的临界尺寸；间隙，所述间隙在所述结构中的每个结构之间；和节距，所述节距对应于所述多个结构的相邻结构的前导边缘之间的距离。9.如权利要求8所述的光学装置，其中在两个或更多个阵列中布置所述多个结构。10.如权利要求9所述的光学装置，其中第一阵列的所述多个结构的所述临界尺寸或所述节距中的至少一者与第二阵列的所述多个结构的所述临界尺寸或所述节距不同。11.如权利要求8所述的光学装置，其中在一个或更多个阵列中布置所述多个结构，且非周期性地布置所述一个或更多个阵列。12.如权利要求8所述的光学装置，其中所述多个结构的所述临界尺寸小于1微米(μm)。13.一种光学装置，包含：基板；和多个结构，所述多个结构设置于所述光学装置的所述基板的表面上，所述多个结构具有小于一个微米的临界尺寸，所述多个结构包括一个或更多个目标特征，其中一个或更多个目标特征对所述多个结构的比率在约1：100,000与约1：1,000,000,000之间，能通过计量工具来读取所述一个或更多个目标特征，且所述一个或更...

【专利技术属性】
技术研发人员：赛捷，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：