一种采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法、基材及贮藏罐技术

本发明专利技术涉及一种采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法、基材及贮藏罐，包括如下步骤：S1.预处理纯铜粉末；S2.预处理基材；S3.采用激光熔覆将纯铜粉末熔覆在基材表面进行熔化和凝固，形成纯铜涂层，其中所述激光采用如下工艺参数:光斑直径D、激光功率P、激光扫描速度V，且其中E为激光功率密度；S4.打磨熔覆有纯铜涂层的基材表面，去除纯铜浮粉，完成激光熔覆纯铜涂层的制备。本发明专利技术采用的激光熔覆与电镀和冷喷涂技术相比，涂层与基材呈冶金结合，结合强度高，成型效率高且制备过程中不会生成废气废水，不污染环境，由基材制成的贮藏罐在服役过程中涂层不会发生脱落。罐在服役过程中涂层不会发生脱落。罐在服役过程中涂层不会发生脱落。

【技术实现步骤摘要】
一种采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法、基材及贮藏罐


[0001]本专利技术属于激光熔覆领域，具体涉及一种采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法、基材及贮藏罐。

技术介绍

[0002]核废料贮藏罐的服役环境对材料的强度和耐腐蚀等性能都有着很高的要求，若使用不锈钢、碳钢和铸铁制造的核废料贮藏罐，材料的结构强度虽满足服役要求。但在深层地质环境中，不锈钢、碳钢和铸铁的长期腐蚀损耗严重，降低了罐体的服役安全性能并导致服役寿命下降。若使用纯铜制造核废料储藏罐，虽然材料的耐腐蚀性能好，但纯铜的强度刚度欠佳，罐体不能承受足够的载荷。并且纯铜的自身成本很高，不适用于广泛地推广应用。贮藏罐罐体表面制备涂层成为普遍的做法，目前多使用电镀和冷喷涂工艺在低碳钢表面制备纯铜涂层。冷喷涂工艺是指在常温或较低的温度下，以压缩气体作为加速气流，带动粉末高速撞击到基材上，使粉末发生强烈的塑性变形而沉积形成致密的涂层。冷喷涂技术依靠的是撞击的动能而不是热能，涂层通过局部冶金结合和机械互锁来实现沉积，引起粉末粒子间和粒子与基体界面处的局部塑性变形，避免高温沉积过程中经常遇到的氧化，残余热应力和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：S1.预处理纯铜粉末；S2.预处理基材；S3.采用激光熔覆将纯铜粉末熔覆在基材表面进行熔化和凝固，形成纯铜涂层，其中所述激光采用如下工艺参数:光斑直径D、激光功率P、激光扫描速度V，且其中E为激光功率密度；S4.打磨熔覆有纯铜涂层的基材表面，去除纯铜浮粉，完成激光熔覆纯铜涂层的制备。2.根据权利要求1所述的采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法，其特征在于，所述S1包括将粒度为10～350μm的纯铜粉末进行干燥，去除粉末中的水分，得到干燥的纯铜粉末。3.根据权利要求1所述的采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法，其特征在于，所述基材包括不锈钢、碳钢或铸铁。4.根据权利要求3所述的采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法，其特征在于，所述S2包括：采用乙醇擦拭清理基材表面的油污以及氧化物。5.根据权利要求1所述的采用激光熔覆制备纯铜涂层的方法，其特征在于，所述S3采用激光熔覆设备来实现激光熔覆，...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾本利，聂宝贤，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：发明
国别省市：