新型含氟二胺单体及制备方法与其在制备聚酰亚胺中的应用技术

本发明专利技术公开了一种新型含氟二胺单体及制备方法与其在制备聚酰亚胺中的应用。所述含氟二胺单体具有如下结构表达式。所述含氟二胺单体可用于制备含蒽光敏聚酰亚胺。体可用于制备含蒽光敏聚酰亚胺。体可用于制备含蒽光敏聚酰亚胺。体可用于制备含蒽光敏聚酰亚胺。

【技术实现步骤摘要】
新型含氟二胺单体及制备方法与其在制备聚酰亚胺中的应用


[0001]本专利技术涉及一种含氟二胺和聚酰亚胺，尤其涉及一种新型含氟二胺单体及制备方法与其在制备聚酰亚胺中的应用。

技术介绍

[0002]聚酰亚胺(PI)是指主链上含有酰亚胺环的一类聚合物，其作为一种性能突出的尖端材料，以优异的电绝缘性、耐磨性、抗高温辐射和物理机械性能，已经获得广泛应用。传统的非光敏性聚酰亚胺作为集成电路或各种电子微电子器件的钝化涂层或层间绝缘介质等使用时，必须在其膜上涂一层光刻胶，然后曝光得到光刻图形，以光刻胶图形作掩蔽层，利用腐蚀剂腐蚀下层的聚酰亚胺，再除去光刻胶层，才能得到聚酰亚胺图形。这个工艺过程繁琐，三废多，效率低下。
[0003]而光敏聚酰亚胺优异的热稳定性、力学稳定性和化学稳定性以及良好的电气绝缘性能和感光性能，使其作为射线屏蔽材料、牺牲层材料、绝缘介质材料、缓冲材料、液晶定向材料等高分子功能材料和工艺材料，被广泛应用于光学器件、光电子器件、微电子器件及相应的器件加工工艺。
[0004]目前应用较为广泛的聚酰亚胺光敏材料，实际上大多是光敏性的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型含氟二胺单体，其特征在于，所述含氟二胺单体的结构表达式如式I所示：2.一种如权利要求1所述的新型含氟二胺单体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：氮气保护下，将式II所示的腈基多氟二胺加入至碱液中反应，生成式I所示含氟二胺单体；3.根据权利要求2所述的新型含氟二胺单体的制备方法，其特征在于，反应条件为：90
‑
120℃下反应8
‑
14h。4.根据权利要求2或3所述的新型含氟二胺单体及制备方法与其在制备聚酰亚胺中的应用，其特征在于，所述碱液为氢氧化钾和/或氢氧化钠的水溶液；优选地，所述碱液的用量以氢氧化钾和/或氢氧化钠的质量计，为式II所示的腈基多氟二胺质量的2
‑
4倍。5.一种权利要求1所述的新型含氟二胺单体或权利要求2
‑
4任一项所述的方法制得的新型含氟二胺单体在制备聚酰亚胺中的应用。6.一种含蒽光敏聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将式I所示的含氟二胺单体与式III所示的脂环二酐单体在溶剂A中混合溶解，加入异喹啉作为催化剂，反应生成包含式IV结构单元的含氟聚酰亚胺聚合物；2)将包含式IV结构单元的含氟聚酰亚胺聚合物与9
‑
蒽甲醇在溶剂B中混合溶解，在缩合剂和活化剂的存在下，反应生成包含式V结构单元的含蒽光敏聚酰亚胺；
7.根据权利要求6所述的含蒽光敏聚酰亚胺的制备方法，其特征在于，步骤1)中，式I所示的含氟二胺单体与式III所示的脂环二酐单体的用量以摩尔比计，为1:(1
...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘亮，曾伟，王磊，
申请(专利权)人：万华化学集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：