坚固的流体耦合装置制造方法及图纸

一种目标材料供应装置，包括：第一流体流动部件和第二流体流动部件(1122，1126)，它们当联结在一起时限定轴向流动路径，其中轴向流动路径在目标材料流体的源和喷嘴供应装置之间；以及耦合装置，其被配置为密封在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间的接头。耦合装置包括具有限定内开口的环形形状的垫圈(1105)，当被安置和密封时该内开口是轴向流动路径的一部分。当垫圈被安置在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间从而密封通过附接第一流体流动部件和第二流体流动部件而形成的接头时，从沿着轴向流动路径穿过垫圈内开口的目标材料流体施加到垫圈的压力改善了接头处的密封的气密功能。可选地，功能插入件，例如限流件(1160)能够被安置在垫圈中。限流件(1160)能够被安置在垫圈中。限流件(1160)能够被安置在垫圈中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】坚固的流体耦合装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年7月21日提交的标题为ROBUST FLUID COUPLING APPARATUS的美国申请号63/054,410；以及2021年3月29日提交的标题为ROBUST FLUID COUPLING APPARATUS的美国申请号63/167,254，以及2020年6月30日提交的标题为ROBUST FLUID COUPLING APPARATUS的美国申请号63/216,820的优先权，所有这些通过参考整体并入本文。


[0003]所公开的主题涉及一种用于流体耦合两个流体流动部件的装置，该装置包括垫圈。

技术介绍

[0004]极紫外(EUV)光，例如波长为100纳米(nm)或更小的电磁辐射(有时也被称为软x射线)，并且包括波长为例如20nm或更小的光，在5nm和20nm之间，或在13nm和14nm之间，可以被用于光刻过程，以通过在抗蚀剂层中引发聚合反应来在衬底(例如硅晶片)中产生极小的特征。用于生成EUV光的方法包括但不限于将源材料的物理状态改变为等离子体状态。源材料包括发射谱线在EUV范围内的化合物或元素，例如氙、锂或锡。在一种通常被称为激光产生等离子体(“LPP”)的此类方法中，所需的等离子体是通过用放大的光束(可以被称为驱动激光)照射源材料(例如，以源材料的液滴、流或簇的形式)来产生的。对于此过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空室)中产生，并且使用各种类型的量测设备来进行监测。处于等离子体状态时在EUV范围内发射的诸如氙、锂或锡之类的源材料通常被称为目标材料，因为它们被驱动激光瞄准并且照射。

技术实现思路

[0005]在一些一般方面，一种目标材料供应装置，包括：第一流体流动部件和第二流体流动部件，该第一流体流动部件和第二流体流动部件当联结在一起时限定轴向流动路径，其中轴向流动路径在目标材料流体的源和喷嘴供应装置之间并且被配置为使目标材料流体朝向喷嘴供应装置通过；以及耦合装置，该耦合装置被配置为密封在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间的接头，该耦合装置包括具有限定内开口的环形形状的垫圈，当被安置和密封时内开口是轴向流动路径的一部分。当垫圈被安置在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间从而密封通过附接第一流体流动部件和第二流体流动部件而形成的接头时，从沿着轴向流动路径穿过垫圈内开口的目标材料流体施加到垫圈的压力改善了接头处的密封的气密功能。
[0006]实现方式可以包括以下特征中的一个或多个。例如，垫圈可以被配置为可从接头拆卸而不损坏接头。在径向平面中延伸的垫圈的至少一个表面可以被配置为在垫圈的外径向配合表面已经与相邻流体流动部件的内径向配合表面接合之后与相邻流体流动部件的
突起接合。
[0007]第一流体流动部件可以是适配器并且第二流体流动部件可以是目标材料流体储存器，该适配器被定位在目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。适配器可以由钼铼制成，并且垫圈由聚酰亚胺制成。
[0008]目标材料供应装置还可以包括被安置在垫圈的内开口内的功能插入件，该功能插入件包括作为轴向流动路径的一部分的内开口，该功能插入件内开口的直径比垫圈的内开口的直径小。功能插入件可以由与目标材料流体相容的材料制成。功能插入件可以是限流器，该限流器由钽；钨；钼；钽、钨或钼的合金；聚酰亚胺；或难熔金属制成。功能插入件可以由碳化硼或涂覆有疏锡材料的金属制成。目标材料流体可以是熔融锡。垫圈的内开口的直径可以至少与限定轴向流动路径的适配器的内开口一样大，并且可以足够小以轴向支撑在其中的功能插入件。功能插入件可以是限流器，并且其内开口的直径可以足够小以在施加超过阈值的目标材料流体的流动压力后允许目标材料流体的受限流动，可以小于轴向流动路径的直径，并且可以大于喷嘴供应装置的流动路径的最小直径。功能插入件可以是限流器，该第一流体流动部件可以是适配器，并且第二流体流动部件可以是目标材料流体储存器，适配器被定位在目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。
[0009]在其他一般方面，耦合装置被配置为密封在两个流体流动部件之间的接头，该两个流体流动部件当联结时限定流体可以穿过的轴向流动路径，该耦合装置包括：具有限定内开口的环形形状的垫圈，该内开口具有沿着垂直于轴向流动路径的径向平面截取的直径，该垫圈的内开口直径足够大以使得流体能够通过垫圈，其中垫圈内开口延伸轴向流动路径；以及支撑部件，该垫圈被布置在支撑部件中，该支撑部件具有限定内开口的环形形状，该内开口具有沿着径向平面截取的直径，该支撑部件的内开口直径大于垫圈的外直径。当垫圈被安置在两个流体流动部件之间从而密封通过附接两个流体流动部件而形成的接头时，从沿着轴向流动路径穿过垫圈内开口的流体施加到垫圈的压力改善了接头处的密封的气密功能。
[0010]实现方式可以包括以下特征中的一个或多个。例如，垫圈可以延伸两个流体流动部件之间的轴向流动路径。垫圈可以具有横截面形状，该横截面形状具有最靠近轴向流动路径的轴向范围大于最远离轴向流动路径的轴向范围。
[0011]支撑部件可以是流体流动部件中的一个或多个的一部分或单独的支撑环。支撑部件可以由比垫圈的材料更硬的材料制成。
[0012]垫圈的横截面形状可以是T形。垫圈可以由聚酰亚胺制成。垫圈可以是轴向对称的。
[0013]当流体流动部件之间的接头被拧紧时，在流体流动部件与垫圈之间沿着轴向方向形成接头密封之前，该接头密封可以最初被形成在流体流动部件中的至少一个的内径向配合表面和垫圈的外径向配合表面之间。
[0014]两个流体流动部件可以是管，它们均限定相应的内直径，该内直径限定轴向流动路径。或者，流体流动部件中的第一个可以是限定内直径的管，该内直径限定轴向流动路径，并且流体流动部件中的第二个可以是被配置为防止流体通过的流体止挡装置。第一流体流动部件可以是适配器并且第二流体流动部件可以是目标材料流体储存器，该适配器被定位在目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。适配器可以由钼铼制成并且垫圈可以由
聚酰亚胺制成。
[0015]耦合装置还可以包括被安置在垫圈的内开口内的功能插入件，该功能插入件包括作为轴向流动路径的一部分的内开口，该功能插入件内开口的直径比垫圈的内开口的直径小。功能插入件可以由与目标材料流体相容的材料制成。功能插入件可以由钽；钨；钼；钽、钨或钼的合金；难熔金属；或聚酰亚胺制成。功能插入件可以由碳化硼或涂覆有疏锡材料的金属制成。垫圈的内开口的直径可以至少与限定轴向流动路径的适配器的内开口一样大，并且足够小以轴向支撑在其中的功能插入件。功能插入件可以是限流器，并且其内开口的直径可以足够小以在施加超过阈值的目标材料流体的流动压力后允许目标材料流体的受限流动，可以小于轴向流动路径的直径，并且可以大于喷嘴供应装置的流动路径的最小直径。功能插入件可以是限流器，第一流体流动部件可以是适配器，并且第二流体流动部件可以是目标材料流体储存器，适配器被定位在目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。
[0016]在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种目标材料供应装置，包括：第一流体流动部件和第二流体流动部件，所述第一流体流动部件和所述第二流体流动部件当联结在一起时限定轴向流动路径，其中所述轴向流动路径在目标材料流体的源和喷嘴供应装置之间并且被配置为朝向所述喷嘴供应装置递送所述目标材料流体；以及耦合装置，所述耦合装置被配置为密封在所述第一流体流动部件和所述第二流体流动部件之间的接头，所述耦合装置包括具有限定内开口的环形形状的垫圈，当被安置和密封时所述内开口是所述轴向流动路径的一部分；其中当所述垫圈被安置在所述第一流体流动部件和所述第二流体流动部件之间以由此密封通过附接所述第一流体流动部件和所述第二流体流动部件而形成的所述接头时，从沿着所述轴向流动路径穿过所述垫圈的内开口的目标材料流体施加到所述垫圈的压力改善了所述接头处的所述密封的气密功能。2.根据权利要求1所述的目标材料供应装置，其中所述垫圈被配置为能够从所述接头拆卸而不损坏所述接头。3.根据权利要求1所述的目标材料供应装置，其中在径向平面中延伸的所述垫圈的至少一个表面被配置为：在所述垫圈的外径向配合表面已经与相邻流体流动部件的内径向配合表面接合之后，与所述相邻流体流动部件的突起接合。4.根据权利要求1所述的目标材料供应装置，其中所述第一流体流动部件是适配器，并且所述第二流体流动部件是目标材料流体储存器，所述适配器被定位在所述目标材料流体储存器和所述喷嘴供应装置之间。5.根据权利要求4所述的目标材料供应装置，其中所述适配器由钼铼制成并且所述垫圈由聚酰亚胺制成。6.根据权利要求1所述的目标材料供应装置，还包括被安置在所述垫圈的所述内开口内的功能插入件，所述功能插入件包括作为所述轴向流动路径的一部分的内开口，所述功能插入件的内开口的直径小于所述垫圈的所述内开口的直径。7.根据权利要求6所述的目标材料供应装置，其中所述功能插入件由与所述目标材料流体相容的材料制成。8.根据权利要求7所述的目标材料供应装置，其中所述功能插入件是限流器，所述限流器由钽；钨；钼；钽、钨或钼的合金；聚酰亚胺；或难熔金属制成。9.根据权利要求7所述的目标材料供应装置，其中所述功能插入件由碳化硼或涂覆有疏锡材料的金属制成。10.根据权利要求7所述的目标材料供应装置，其中所述目标材料流体是熔融锡。11.根据权利要求6所述的目标材料供应装置，其中所述垫圈的所述内开口的所述直径至少与所述适配器的限定所述轴向流动路径的所述内开口一样大，并且足够小以轴向支撑在其中的所述功能插入件。12.根据权利要求6所述的目标材料供应装置，其中所述功能插入件是限流器，并且其内开口的直径足够小以在施加的所述目标材料流体的流动压力超过阈值后允许目标材料流体的受限流动，小于所述轴向流动路径的直径，并且大于所述喷嘴供应装置的流动路径的最小直径。13.根据权利要求6所述的目标材料供应装置，其中所述功能插入件是限流器，所述第
一流体流动部件是适配器，并且所述第二流体流动部件是目标材料液体储存器，所述适配器被定位在所述目标材料液体储存器和所述喷嘴供应装置之间。14.一种耦合装置，所述耦合装置被配置为密封在两个流体流动部件之间的接头，所述两个流体流动部件当联结时限定流体能够穿过的轴向流动路径，所述耦合装置包括：垫圈，具有限定内开口的环形形状，所述内开口具有沿着垂直于所述轴向流动路径的径向平面截取的直径，所述垫圈的所述内开口直径足够大以使得流体能够通过所述垫圈，其中所述垫圈内开口延长所述轴向流动路径；以及支撑部件，所述垫圈被布置在所述支撑部件中，所述支撑部件具有限定内开口的环形形状，所述内开口具有沿着所述径向平面截取的直径，所述支撑部件的所述内开口直径大于所述垫圈的外直径；其中当所述垫圈被安置在所述两个流体流动部件之间以由此密封通过附接所述两个流体流动部件而形成的接头时，从沿着所述轴向流动路径穿过所述垫圈的内开口的流体施加到所述垫圈的压力改善了所述接头处的所述密封的气密功能。15.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述垫圈延长在所述两个流体流动部件之间的所述轴向流动路径。16.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述垫圈具有横截面形状，所述横截面形状具有最靠近所述轴向流动路径的轴向范围大于最远离所述轴向流动路径的轴向范围。17.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述支撑部件是所述流体流动部件中的一个或多个的一部分或单独的支撑环。18.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述支撑部件由比所述垫圈的材料硬的材料制成。19.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述垫圈的横截面形状为T形。20.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述垫圈由聚酰亚胺制成。21.根据权利要求14所述的耦合装置，其中当所述流体流动部件之间的所述接头被拧紧时，所述接头密封沿着所述轴向方向形成在所述流体流动部件与所述垫圈之间之前，所述接头密封最初被形成在所述流体流动部件中的至少一个的内径向配合表面和所述垫圈的外径向配合表面之间。22.根据权利要求14所述的耦合装置，其中所述垫圈是轴向对称的。23.根据权利要求14所述的耦合装置，其中：所述两个流体流动部件是管，所述管均限定相应的内直径，所述内直径限定所述轴向流动路径；或所述流体流动部件中的第一个是限定所述内直径的管，所述内直径限定所述轴向流动路径，并且所述流体流动部件中的第二个是被配置为防止流体通过的流体止挡装置。24.根据权利要求14所述的耦合装置，其中第一流体流动部件是适配器并且第二流体流动部件是目标材料流体储存器，所述适配器被定位在所述目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。25.根据权利要求24所述的耦合装置，其中所述适配器由钼铼制成，并且所述垫圈由聚酰亚胺制成。26.根据权利要求14所述的耦合装置，还包括被安置在所述垫圈的所述内开口内的功
能插入件，所述功能插入件包括作为所述轴向流动路径的一部分的内开口，所述功能插入件的内开口的直径小于所述垫圈的所述内开口的直径。27.根据权利要求26所述的耦合装置，其中所述功能插入件由与所述目标材料流体相容的材料制成。28.根据权利要求27所述的耦合装置，其中所述功能插入件由钽；钨；钼；钽、钨或钼的合金；难熔金属；或聚酰亚胺制成。29...

【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：