光波分复用解复用器及其制作方法技术

本发明专利技术公开了光波分复用解复用器及其制作方法，属于波分复用技术领域，让波分复用器结构紧凑，产品稳定性好，损耗低，结构尺寸小，产品稳定性好，损耗低，偏正不敏感且隔离度大，包括波导芯片和两组光纤阵列，波导芯片包括衬底、下包层、芯层和上包层，在芯层设有若干条波导光路，这若干条波导光路之间呈“W”状布置；波导光路由直波导光路和弯曲波导光路组成来实现光信号在波导芯片上的传输；弯曲波导光路的转弯点分布在波导芯片的左右两端面上；并且位于波导芯片内任意两条相邻的波导光路之间的夹角均为锐角。夹角均为锐角。夹角均为锐角。

【技术实现步骤摘要】
光波分复用解复用器及其制作方法


[0001]本专利技术涉及波分复用
，尤其涉及一种光波分复用解复用器及其制作方法。

技术介绍

[0002]波分复用(WDM)技术主要是将发送端的多路光信号组合起来(复用)，并耦合到同一根光纤中进行同时传输；在接收端再将组合的光信号分开(解复用)，恢复原信号送至不同的客户终端。将波分复用/解复用器分别置于光纤的两端来实现不同光信号的耦合与分离。
[0003]根据应用领域的不同，目前常用的波分复用器大致可以分为干涉膜滤波器(TFF)型、光纤光栅型、阵列波导光栅(AWG)型和熔融拉锥耦合型波分复用器。其中，干涉膜滤波技术及阵列波导光栅技术近年来发展较为成熟，商用的波分复用器主要也是采用干涉膜滤波技术及阵列波导技术来设计。波分复用/解复用器的重要性能指标包括中心波长(λ0)、插入损耗、信道隔离度和通带宽度等。
[0004]基于TFF的波分复用器：技术较成熟，具有温度稳定性好、插入损耗较低、偏振不敏感、信道隔离度高、信道间隔可以不规则设置、系统升级容易等优点，适合信道数量不多的波分复用系统。目前薄膜滤本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光波分复用解复用器，包括波导芯片和两组光纤阵列，波导芯片包括衬底、下包层、芯层和上包层，其特征在于，在芯层设有若干条波导光路，这若干条波导光路之间呈“W”状布置；波导光路由直波导光路和弯曲波导光路组成来实现光信号在波导芯片上的传输；弯曲波导光路的转弯点分布在波导芯片的左右两端面上；并且位于波导芯片内任意两条相邻的波导光路之间的夹角均为锐角；在每组光纤阵列一端的每条光纤上分别设有干涉滤波薄膜，每组光纤阵列的一端分别正对设置在波导芯片左右两个端面上，并且每组光纤阵列上的每条光纤的干涉滤波薄膜与弯曲波导光路的弯曲点一对一对接布置。2.根据权利要求1所述的光波分复用解复用器，其特征在于，位于波导芯片同一侧的任意两个相邻转弯点之间的间距可根据不同要求进行调整。3.根据权利要求1所述的光波分复用解复用器，其特征在于，位于波导芯片同一侧的任意两个相邻转弯点之间的间距或者是127微米，或者是250微米，或者是127微米、250微米的整数倍。4.根据权利要求1所述的光波分复用解复用器，其特征在于，在干涉滤波薄膜处的每根光纤上分别设有自聚焦透镜的光信号调节器。5.根据权利要求1所述的光波分复用解复用器，其特征在于，光信号调节器包括固定光纤的支架，自聚焦透镜设置在支架上。6.光波分复用解复用器的制作方法，所述的制作方法如下：步骤一、制作波导芯片；S1，选择合适的衬底材料作为基板，采用半导体清洗工艺对基板进行清洗，保证基板的洁净度；S2，制作下包层；选择折射率较低的材料在衬底基板上沉积纯薄膜作...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘勇，张丽丹，陈一博，
申请(专利权)人：江苏海湾半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：