一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机，所述方法包括开启砧板消毒机内的固定紫外灯，基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据；基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯。本发明专利技术提供的方法能够在砧板消毒机被砧板或其他餐具遮挡的情况下，对紫外线照射死角进行针对性消毒，提高紫外线覆盖面积，改善消毒除菌的效果，充分保障食品安全，保护使用者的健康。用者的健康。用者的健康。

【技术实现步骤摘要】
一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机


[0001]本申请涉及消毒设备
，特别涉及一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机。

技术介绍

[0002]随着人们的生活水平不断提高，消费者对食品安全的关注度也越来越高。砧板等厨房器具由于频繁接触生熟食材并容易处于潮湿状态，容易滋生细菌。砧板消毒机可以对砧板等厨房器具进行消毒，消毒方式可以包括紫外线照射的方法，然而紫外线照射消毒的方式难以避免消毒死角的存在，灭菌效果不佳。

技术实现思路

[0003]为解决现有的砧板消毒机紫外照射存在死角的问题，本申请提供一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机，能够提高砧板消毒机的杀菌消毒效果，保障食品安全和用户健康。
[0004]一方面，提供了一种砧板消毒机控制方法，所述方法包括：
[0005]开启砧板消毒机内的固定紫外灯，基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据；
[0006]基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯。
[0007]在一些实施例中，所述基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据，包括：
[0008]获取各个紫外传感器的预存的位置坐标及无遮挡时的理想紫外强度；
[0009]获取各个紫外传感器的实际紫外强度；
[0010]基于所述理想紫外强度和所述实际紫外强度，计算各个紫外传感器的强度偏差值。
[0011]在一些实施例中，所述基于所述理想紫外强度和所述实际紫外强度，计算各个紫外传感器的强度偏差值包括：
[0012]基于强度偏差计算式计算各个紫外传感器的强度偏差值；
[0013]所述强度偏差值计算式包括：
[0014]所述强度偏差值计算式包括：
[0015][0016]其中，I
p(n)
为第n个紫外传感器的强度偏差度，I
o(n)
为第n个紫外传感器的理想紫外强度，I
A(n)
为第n个紫外传感器的实际紫外强度。
[0017]在一些实施例中，所述基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯包括：
[0018]获取第一侧面上目标传感器的位置坐标；所述第一侧面为所述砧板消毒机的任一
内侧面，所述目标传感器为符合第一预设条件的传感器，所述第一预设条件包括照射强度小于预设阈值；
[0019]基于所述目标传感器的位置坐标，计算遮挡位置；
[0020]开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯照射所述遮挡位置。
[0021]在一些实施例中，所述基于所述目标传感器的位置坐标，确定遮挡位置包括：
[0022]基于三个符合第一预设条件的传感器位置，计算所述遮挡位置。
[0023]在一些实施例中，所述开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯照射所述遮挡位置，包括：
[0024]获取目标传感器在开启所述旋转紫外灯照射后的反馈紫外强度；
[0025]若所述反馈紫外强度小于预设第一阈值，则提高所述旋转紫外灯的照射强度；
[0026]若所述反馈紫外强度大于预设第一阈值，则降低所述旋转紫外灯的照射强度。
[0027]另一方面，提供了一种砧板消毒机控制装置，所述装置包括：
[0028]分布数据获取模块，用于开启砧板消毒机内的固定紫外灯，基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据；
[0029]旋转紫外灯控制模块，用于基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯。
[0030]在一些实施例中，分布数据获取模块具体用于：
[0031]获取各个紫外传感器的预存的位置坐标及无遮挡时的理想紫外强度；
[0032]获取各个紫外传感器的实际紫外强度；
[0033]基于所述理想紫外强度和所述实际紫外强度，计算各个紫外传感器的强度偏差值。
[0034]在一些实施例中，分布数据获取模块具体用于：
[0035]基于强度偏差计算式计算各个紫外传感器的强度偏差值；
[0036]所述强度偏差值计算式包括：
[0037]所述强度偏差值计算式包括：
[0038][0039]其中，I
p(n)
为第n个紫外传感器的强度偏差度，I
o(n)
为第n个紫外传感器的理想紫外强度，I
A(n)
为第n个紫外传感器的实际紫外强度。
[0040]在一些实施例中，旋转紫外灯控制模块具体用于：
[0041]获取第一侧面上目标传感器的位置坐标；所述第一侧面为所述砧板消毒机的任一内侧面，所述目标传感器为符合第一预设条件的传感器，所述第一预设条件包括照射强度小于预设阈值；
[0042]基于所述目标传感器的位置坐标，计算遮挡位置；
[0043]开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯照射所述遮挡位置。
[0044]在一些实施例中，旋转紫外灯控制模块具体用于：
[0045]基于三个符合第一预设条件的传感器位置，计算所述遮挡位置。
[0046]在一些实施例中，旋转紫外灯控制模块具体用于：
[0047]获取目标传感器在开启所述旋转紫外灯照射后的反馈紫外强度；
[0048]若所述反馈紫外强度小于预设第一阈值，则提高所述旋转紫外灯的照射强度；
[0049]若所述反馈紫外强度大于预设第一阈值，则降低所述旋转紫外灯的照射强度。
[0050]另一方面，提供了一种计算机设备，计算机设备包括处理器和存储器，存储器中存储有至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，处理器可加载并执行至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，以实现上述申请实施例中提供的砧板消毒机控制方法。
[0051]另一方面，提供了一种计算机可读存储介质，可读存储介质中存储有至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，处理器可加载并执行至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，以实现上述本申请实施例中提供的砧板消毒机控制方法。
[0052]另一方面，提供了一种砧板消毒机，包括如上所述的计算机设备。
[0053]另一方面，提供了一种计算机程序产品或计算机程序，该计算机程序产权或计算机程序包括计算机程序指令，该计算机程序指令存储于计算机可读存储介质中。处理器从计算机可读存储介质读取该计算机指令，并执行还计算机指令，使得该计算机设备执行上述实施例中任一所述的砧板消毒机控制方法。
[0054]本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：本专利技术实施例提供了一种砧板消毒机控制方法、装置及砧板消毒机，所述方法包括开启砧板消毒机内的固定紫外灯，基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据；基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯。本专利技术实施例提供的方法能够在砧板消毒机被砧板或其他餐具遮挡的情况下，对紫外线照射死角进行针对性消毒，提高紫外线覆盖面积，改善消毒除菌的效果，充分保障食品安全，保护使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种砧板消毒机控制方法，其特征在于，所述方法包括：开启砧板消毒机内的固定紫外灯，基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据；基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于紫外传感器获取所述砧板消毒机内的紫外照射分布数据，包括：获取各个紫外传感器的预存的位置坐标及无遮挡时的理想紫外强度；获取各个紫外传感器的实际紫外强度；基于所述理想紫外强度和所述实际紫外强度，计算各个紫外传感器的强度偏差值。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述理想紫外强度和所述实际紫外强度，计算各个紫外传感器的强度偏差值包括：基于强度偏差计算式计算各个紫外传感器的强度偏差值；所述强度偏差值计算式包括：其中，I
p(n)
为第n个紫外传感器的强度偏差度，I
o(n)
为第n个紫外传感器的理想紫外强度，I
A(n)
为第n个紫外传感器的实际紫外强度。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述紫外照射分布数据开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯包括：获取第一侧面上目标传感器的位置坐标；所述第一侧面为所述砧板消毒机的任一内侧面，所述目标传感器为符合第一预设条件的传感器，所述第一预设条件包括照射强度小于预设阈值；基于所述目标传感器的位置坐标，计算遮挡位置；开启并调整所述砧板消毒机内的旋转紫外灯照射所述遮挡位置。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：郗浩然，吴海磊，巨姗，张秋俊，冯俊杰，高岩，
申请(专利权)人：珠海格力电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：