层叠体制造技术

层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。通过规定的第一试验而测得的防污层的第一积分强度比为0.78以下。防污层的第一积分强度比为0.78以下。防污层的第一积分强度比为0.78以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体


[0001]本专利技术涉及层叠体，详细而言，涉及具备防污层的层叠体。

技术介绍

[0002]以往，从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学薄膜等光学部件的表面的观点出发，已知的是形成防污层。
[0003]作为这种具备防污层的光学薄膜，提出了例如依次具备薄膜基材、防反射层和防污层的防反射薄膜(例如参照专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2020
‑
52221号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]另一方面，若拭去附着于防污层的污物，则存在防污层的防污性降低的不良情况。
[0009]本专利技术提供即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低的层叠体。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]本专利技术[1]是一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，前述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，所述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过下述第一试验而测得的所述防污层的第一积分强度比为0.78以下，第一试验：针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射(in
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plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(第一面内衍射积分强度)；另外，针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定，测定源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的积分强度(第二面内衍射积分强度)；根据所得第一面内衍射积分强度和第二面内衍射积分强度，计算第一面内衍射积分强度相对于第二面内衍射积分强度的第一积分强度比(第一面内衍射积分强度/第二面内衍射积分强度)。2.根据权利要求1所述的层叠体，其通过下述第二试验而测得的所述防污层的第二积分强度比为50以下，第二试验：针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out
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of
‑
plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(面外衍射积分强度)；根据面外衍射积分强...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本幸大，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：