投影装置及其光学系统制造方法及图纸

技术编号:37664612 阅读:44 留言:0更新日期:2023-05-26 04:22
本申请公开了一种投影装置的光学系统,包括:基座;固定板以及可动板,固定板固定设置在基座的一侧,可动板设置在基座的另一侧且相对于基座可运动;扩散片,设置于可动板上,与匀光结构相对设置,用于对入射光束进行扩散处理;线圈以及磁铁,线圈固定于基座且位于固定板与可动板之间,磁铁固定在可动板,磁铁在线圈的长度方向上与线圈间隔设置;控制器,发出第一控制信号时,线圈通电并驱动磁铁在其长度方向上移动而带动可动板在其平面内运动,以使得扩散片出射的入射光束照射到匀光结构的不同区域。因此,通过线圈驱动可动板运动,使得光束照射到扩散片的不同区域进而照射到匀光结构的不同区域,提高对扩散片的利用面积,并提高消斑效果。斑效果。斑效果。

【技术实现步骤摘要】
投影装置及其光学系统


[0001]本申请涉及投影
,特别涉及一种投影装置及其光学系统。

技术介绍

[0002]激光投影显示技术,能够最真实地再现客观世界丰富、绚丽的色彩,提供震撼的表现力。在投影技术过程中,需要通过扩散片对入射光线进行扩散处理,进而将扩散后的入射光线传播到其他光学部件以最终进行投影。
[0003]现有的扩散片包括动态扩散片以及静态扩散片,现有的动态扩散片多为旋转型的扩散轮形式,虽然在一定程度上能够进行消斑,但扩散片的应用面积有限,无法进一步提高消斑效果。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种投影装置及其光学系统,提高对扩散片的利用面积,并提高消斑效果。
[0005]本申请第一方面提供一种投影装置的光学系统,包括:光源组件,用于发出入射光束;匀光结构,设置在入射光束的光路上,匀光结构用于接收入射光束进行匀光处理;扩散片组件,设置在光路上且位于光源组件与匀光结构之间,扩散片组件用于对入射光束进行扩散处理;扩散片组件包括:基座;固定板以及可动板,固定板固定设置在基座的一侧,可动板设置在基座的另本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影装置的光学系统,其特征在于,包括:光源组件,用于发出入射光束;匀光结构,设置在所述入射光束的光路上,所述匀光结构用于接收所述入射光束进行匀光处理;扩散片组件,设置在所述光路上且位于所述光源组件与所述匀光结构之间,所述扩散片组件用于对所述入射光束进行扩散处理;所述扩散片组件包括:基座;固定板以及可动板,所述固定板固定设置在所述基座的一侧,所述可动板设置在所述基座的另一侧,所述可动板相对于所述基座可运动;扩散片,设置于所述可动板上,所述扩散片与所述匀光结构相对设置,所述扩散片用于对所述入射光束进行扩散处理;线圈以及磁铁,所述线圈固定设置于所述基座且位于所述固定板与所述可动板之间,所述磁铁固定在所述可动板,所述磁铁在所述线圈的长度方向上与所述线圈间隔设置;控制器,与所述线圈连接,所述控制器发出第一控制信号时,所述线圈通电并驱动所述磁铁在所述线圈的长度方向上移动,以带动所述可动板在其平面内运动,以使得所述扩散片出射的入射光束照射到所述匀光结构的不同区域,所述控制器发出第二控制信号时,所述线圈断电。2.根据权利要求1所述的投影装置的光学系统,其特征在于,所述线圈包括第一线圈以及第二线圈,所述第一线圈沿第一方向延伸设置,所述第二线圈沿第二方向延伸设置,所述第一方向与所述第二方向垂直;所述磁铁包括第一磁铁以及第二磁铁,所述第一磁铁与所述第一线圈间隔设置,所述第二磁铁与所述第二线圈间隔设置;所述控制器发出第一控制信号时,所述第一线圈通电以通过所述第一磁铁驱动所述扩散片沿所述第一方向运动,所述第二线圈通电以通过所述第二磁铁驱动所述扩散片沿所述第二方向运动,以使得所述扩散片呈圆形运动;其中,所述扩散片运动一圈的时间为一个周期,所述第一控制信号开始对所述第一线圈驱动的时间与开始对所述第二线圈驱动的时间之间的间隔大于等于四分之一所述周期。3.根据权利要求2所述的投影装置的光学系统,其特征在于,所述第一线圈以及所述第二线圈的数量均为两个,两个所述第一线圈在所述第二方向上间隔设置,两个所述第二线圈在所述第一方向上间隔...

【专利技术属性】
技术研发人员:李巍顾晓强田有良
申请(专利权)人:青岛海信激光显示股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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