一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，涉及化工产品生产设备技术领域，包括防护底座和设置在防护底座上端的降温组件，降温组件一侧设置有储水组件，降温组件内部设置有制备罐组件，储水组件与降温组件之间设置有软管部件，防护底座包括凹型底座和设置在凹型底座两侧的夹持部件，降温组件包括设置在凹型底座上端的安装腔体和活动连接在凹型底座上端的腔盖，安装腔体一侧设置有通风口，这种设置中增添的混合部件可以加快制备罐组件内部的光气化反应效率，设置的防护底座可有利于装置避免在受到外力影响时，而发生晃动或倾倒的情况，提升装置的使用效率和安全性。和安全性。和安全性。

【技术实现步骤摘要】
一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置


[0001]本技术涉及化工产品生产设备
，具体为一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置。

技术介绍

[0002]异氰酸酯是一种重要的化工中间体，广泛应用于聚氨酯涂料、染料、胶粘剂、合成革、保温材料及医药领域。到目前为止，异氰酸酯主要通过有机胺光气化法制备，在装置进料中加入有机胺的液态混合物原料与气态混合物共同发生光气化反应，光气化过程反应放热，导致装置剧烈温升，光气化法目前有液相冷热两步法和气相一步法两种，然而因反应温度高，副反应增多，导致异氰酸酯生成率低，且副产物形成的焦渣还可能堵塞设备。
[0003]现有的光气化反应生产异氰酸酯装置缺少对反应过程原料的混合部件，反应效率较低，装置在高温高压下进行反应，需要在稳定的环境下工作，装置缺少稳固部件，可能会使装置在反应时受到自身或者外力的影响，而发生晃动或倾倒，而降低装置反应效率和使用安全性，另一方面光气化过程反应放热，导致装置温度升高，然而当装置反应温度过高，会导致副产物增多，导致异氰酸酯生成率降低，且副产物形成的焦渣还可能堵塞生产本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，包括防护底座(1)和设置在防护底座(1)上端的降温组件(2)，降温组件(2)一侧设置有储水组件(3)，降温组件(2)内部设置有制备罐组件(4)，储水组件(3)与降温组件(2)之间设置有软管部件(5)，其特征在于：所述防护底座(1)包括凹型底座(11)和设置在凹型底座(11)两侧的夹持部件(12)，降温组件(2)包括设置在凹型底座(11)上端的安装腔体(21)和活动连接在凹型底座(11)上端的腔盖(22)，安装腔体(21)一侧设置有通风口(23)。2.根据权利要求1所述的一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，其特征在于：所述夹持部件(12)包括与凹型底座(11)一侧螺纹连接的螺纹杆(123)，螺纹杆(123)一端设置有轴承(122)。3.根据权利要求2所述的一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，其特征在于：所述轴承(122)一端设置有固定板(121)，通风口(23)一侧设置有防尘网(25)。4.根据权利要求3所述的一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，其特征在于：所述安装腔体(21)一侧设置有雾化部件(26)，且雾化部件(26)设置有两组，两组所述的雾化部件(26)包括设置在安装腔体(21)一侧的进水口(261)，进水口(261)一侧设置有雾化喷头(262)，且雾化喷头(262)与安装腔体(21)相连通。5.根据权利要求4所述的一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，其特征在于：所述安装腔体(21)内部靠近防尘网(25)一侧设置有散热风机(27)，且散...

【专利技术属性】
技术研发人员：张晓琴，李双双，苏瑞，朱张，王震宇，朱玉昊，
申请(专利权)人：安徽广信农化股份有限公司，
类型：新型
国别省市：