一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开的一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，包括箱体和腔室门，腔室门用于真空工作的箱体敞口处的封盖；箱体两侧分别设置有两组同步控制腔室门上下升降运动便于箱体敞口处让位打开的盖门升降部；腔室门两侧与两组盖门升降部之间还分别设置有两组用于控制腔室门前后进给运动、对箱体敞口密封封盖的盖门密封部；通过腔室门控制装置实现清洗工作腔的自动密封开合控制，有效配合生产线的自动化生产。自动化生产。自动化生产。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置


[0001]本技术涉及等离子清洗技术，尤其涉及一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置。

技术介绍

[0002]等离子清洗蚀刻设备，其工作原理是，在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，被清洗产品的表面材料变成颗粒和气态物质并被释放出来，再通过抽真空来达到清洗产品表面处理的目的。
[0003]由于等离子清洗蚀刻设备工作腔是在真空条件下工作，其工作腔的密封显得尤为重要，现有的等离子清洗设备通常具有一端或两端敞开的工作腔，工作腔的敞开端采用可升降的腔室门封闭，但是这样的方式具有密封性不佳、容易泄漏的问题，影响清洗质量以及车间环境。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，能够自动封闭密封工作腔的敞开端，具有结构简单、控制方便，有效配合生产线的自动化生产。
[0005]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0006]一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，用于清洗工作腔的自动密封开合控制，包括箱体和腔室门，所述腔室门用于真空工作的箱体敞口处的封盖：
[0007]所述箱体两侧分别设置有两组同步控制所述腔室门上下升降运动便于箱体敞口处让位打开的盖门升降部；
[0008]所述腔室门两侧与两组盖门升降部之间还分别设置有两组用于控制所述腔室门前后进给运动、对所述箱体敞口密封封盖的盖门密封部。
[0009]优选地，每组所述盖门升降部包括直线升降滑轨组件和升降气缸驱动组件，所述腔室门两侧分别设有与直线升降滑轨组件上的滑块连接的L形支撑板；
[0010]所述升降气缸驱动组件驱动所述L形支撑板沿所述直线升降滑轨组件上直线导轨上下升降动作、并同步驱动所述腔室门上下直线升降运动。
[0011]优选地，所述腔室门两侧与所述L形支撑板之间设有两组控制腔室门前后直线进给对箱体敞口密封封盖的盖门密封部，每组所述盖门密封部包括气缸固定座和密封驱动气缸，所述密封驱动气缸通过气缸固定座安装固定于所述L形支撑板内侧面，所述密封驱动气缸的活塞端面与所述腔室门边侧端面固定连接。
[0012]优选地，所述腔室门边侧与所述L形支撑板之间还设有分别位于所述密封驱动气缸上下两侧、用于对所述腔室门前后直线进给进行导向的前后直线进给滑轨组件，该前后直线进给滑轨组件包括进给滑轨、进给滑块和滑块座，所述进给滑轨安装固定于所述L形支撑板内侧面，所述进给滑块通过滑块座竖直安装于所述腔室门边侧端面、并与所述进给滑
轨滑动配合。
[0013]优选地，所述箱体敞口外缘还套装有与所述腔室门内侧面密封配合的密封圈。
[0014]上述技术方案的有益效果是：
[0015]该等离子清洗蚀刻设备的腔室门采用自动开合的控制方式，通过腔室门控制装置实现腔室门的自动上下升降和前后进给运动，实现真空工作箱体敞口料口处的自动打开和自动关闭，便于PCB板物料的自动上下料控制，有效地与生产线的自动优化配合，提高生产效率。
【附图说明】
[0016]图1是本技术实施例一的左视立体结构示意图；
[0017]图2是本技术实施例一的右视立体结构示意图；
[0018]图3是本技术实施例一的部分结构爆炸示意图；
[0019]图4是本技术实施例二的立体结构示意图；
[0020]图5是本技术实施例二的部分结构爆炸示意图；
[0021]附图标记：
[0022]1、箱体；2、腔室门；3、腔室门升降部；30、直线升降滑轨组件；31、升降气缸驱动组件；32、L形支撑板；4、盖门密封部；40、气缸固定座；41、密封驱动气缸；410、活塞端面；42、前后直线进给滑轨组件；420、进给滑轨；421、进给滑块；423、滑块座；5、密封圈。
【具体实施方式】
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
[0024]现结合附图对本技术实施例进行说明。
[0025]实施例一
[0026]一种等离子清洗蚀刻设备的腔室门2控制装置，如图1至图3所示，用于清洗蚀刻工作腔的自动密封开合控制，包括箱体1和腔室门2，腔室门2用于真空工作的箱体1敞口处的封盖；在箱体1两侧分别设置有两组同步控制腔室门2上下升降运动便于箱体1敞口处让位打开的盖门升降部3；在腔室门2两侧与两组盖门升降部3之间还分别设置有两组用于控制门板前后进给运动、对箱体1敞口密封封盖的盖门密封部4。
[0027]继续如图1至图3所示，每组盖门升降部3包括直线升降滑轨组件30和升降气缸驱动组件31，腔室门2两侧分别设有与直线升降滑轨组件30上的滑块连接的L形支撑板32；升降气缸驱动组件31驱动L形支撑板32沿直线升降滑轨组件30上直线导轨上下升降动作、并同步驱动腔室门2上下直线升降运动。其中，两组盖门密封部4分别设置于腔室门2两侧与L形支撑板32之间来控制腔室门2前后直线进给对箱体1敞口密封封盖，每组盖门密封部4包括气缸固定座40和密封驱动气缸41，密封驱动气缸41通过气缸固定座40安装固定于L形支
撑板32内侧面，密封驱动气缸41的活塞端面410与腔室门2边侧端面固定连接。
[0028]实施例二
[0029]如图4和图5所示，该实施例与实施例一的不同之处在于，在腔室门2边侧与L形支撑板32之间还设有分别位于密封驱动气缸41上下两侧、用于对腔室门2前后直线进给进行导向的前后直线进给滑轨组件42，该前后直线进给滑轨组件42包括进给滑轨420、进给滑块421和滑块座423，进给滑轨420安装固定于L形支撑板32内侧面，进给滑块421通过滑块座424竖直安装于腔室门2边侧端面、并与进给滑轨420滑动配合。
[0030]而且，在箱体1敞口外缘还套装有与腔室门2内侧面密封配合的密封圈5。
[0031]以上两个实施例中，腔室门采用自动开合的控制方式，实现腔室门的自动上下升降和前后进给运动，实现真空工作箱体敞口料口处的自动打开和自动关闭，便于PCB板物料的自动上下料控制，有效提高生产效率，便于自动化控制。
[0032]以上所述实施例只是为本技术的较佳实施例，并非以此限制本技术的实施范围，凡依本技术之形状、构造及原理所作的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，用于清洗工作腔的自动密封开合控制，其特征在于，包括箱体和腔室门，所述腔室门用于真空工作的箱体敞口处的封盖；所述箱体两侧分别设置有两组同步控制所述腔室门上下升降运动便于箱体敞口处让位打开的盖门升降部；所述腔室门两侧与两组盖门升降部之间还分别设置有两组用于控制所述腔室门前后进给运动、对所述箱体敞口密封封盖的盖门密封部。2.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，其特征在于：每组所述腔室门升降部包括直线升降滑轨组件和升降气缸驱动组件，所述腔室门两侧分别设有与直线升降滑轨组件上的滑块连接的L形支撑板；所述升降气缸驱动组件驱动所述L形支撑板沿所述直线升降滑轨组件上直线导轨上下升降动作、并同步驱动所述腔室门上下直线升降运动。3.根据权利要求2所述的一种等离子蚀刻清洗机的腔体门控制装置，其特征在于：所述腔室门两侧与所述L...

【专利技术属性】
技术研发人员：李志强，赵义党，廖文晗，
申请(专利权)人：珠海恒格微电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：