【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种曝光方法及光掩模组件，特别涉及一种光掩模对位曝光 方法及光掩模组件。
技术介绍
在液晶显示面板中，利用薄膜晶体管基板上的像素电极与彩色滤光片基 板中的共同电极配合，输入不同的电压，可以在像素电极与彩色滤光片基板 间产生不同的电场，可驱动液晶分子产生各种不同转向角度，以显示所要表 现的画面。薄膜晶体管基板的制造方式通过光掩模工艺，经过镀膜、光致抗 蚀剂涂布、曝光、显影、蚀刻及光致抗蚀剂移除等步骤，以在基板上形成所 需电路图案。请参照图l所示，其中位于基板2表面的箭头，为已知技术中进行曝光 工艺时，曝光扫描的方向示意图。基板2为玻璃基板，用以制作多个尺寸较 小的薄膜晶体管基板21，因此利用面积大于等于薄膜晶体管基板21的光掩 模1,即可完成一个薄膜晶体管基板21的曝光工艺。由此，利用光掩模1 经过一次曝光(如图1中的空心箭头方向，其表示曝光扫描方向)即可完成 一个薄膜晶体管基板21的图案的曝光操作。另外，若基板2的面积大于光 掩模时，则通过承载基板2的承载台(图中未显示)及光掩模1的移动来进 行多次曝光(如图1中的实心箭头方向，其表示多个薄膜晶体管...
【技术保护点】
一种光掩模对位曝光方法，包含： 利用第一光掩模的第一图案区对于基板的光致抗蚀剂层进行曝光，以形成至少一第一曝光区； 利用第二光掩模的第二图案区对于该光致抗蚀剂层进行曝光，以形成第二曝光区；以及 利用该第二光掩模的第三图案区 对于该光致抗蚀剂层进行曝光，以形成第三曝光区， 其中，该第一曝光区位于该第二曝光区与该第三曝光区之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄正邦，萧智梅，
申请(专利权)人：奇美电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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