超纯水供给系统、控制装置以及程序制造方法及图纸

技术编号:37611974 阅读:13 留言:0更新日期:2023-05-18 12:03
超纯水供给系统具有:流通管(210),使超纯水从超纯水制造设备(100)流向清洗装置(120);处理单元(110),设置于流通管(210)上;流通管(220),在超纯水制造设备(100)与处理单元(110)之间从流通管(210)分支出来,使超纯水流向清洗装置(120);水量控制部(310),设置于流通管(220)从流通管(210)分支的第一分支部;水量控制部(320),对从流通管(220)流向清洗装置(120)的超纯水进行控制;比较部(510),比较第一量与第二量,第一量是由处理单元(110)处理后的超纯水中含有的杂质的量,所述第二量是未被处理单元(110)处理的超纯水中含有的杂质的量;以及流路控制部(520),根据比较的结果来控制水量控制部(310、320)。320)。320)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】超纯水供给系统、控制装置以及程序


[0001]本专利技术涉及超纯水供给系统、控制装置以及程序。

技术介绍

[0002]一般而言,从超纯水制造设备向使用点(例如,半导体清洗装置内的使用场所)供给的超纯水的水质满足给定的基准。然而,还存在如下情况:以来自供给配管的离子性金属杂质的溶出等为起因,从超纯水制造设备向使用点供给的超纯水的水质不满足该基准。为了应对这样的情况,考虑了在超纯水制造设备与使用点之间设置对超纯水中含有的杂质进行去除的处理单元的技术(例如,参照专利文献1)。现有技术文献专利文献
[0003]专利文献1:国际公开第2015/045975号公报

技术实现思路

(专利技术要解决的课题)
[0004]在对比文件1中,即使在从超纯水制造设备向使用点供给的超纯水的水质满足给定的基准的情况下,也将从超纯水制造设备供给的水在供给至使用点前由处理单元进行了处理。故而,存在未能高效地利用供给超纯水的系统这样的问题点。
[0005]本专利技术的目的在于,提供能高效地利用供给超纯水的系统的超纯水供给系统、控制装置以及程序。(用于解决课题的技术方案)
[0006]本专利技术涉及一种超纯水供给系统,具有:第一流通管,其使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置;处理单元,其设置于所述第一流通管上,对所述超纯水进行处理;第二流通管,其在所述超纯水制造设备与所述处理单元之间从所述第一流通管分支出来,使超纯水流向所述清洗装置;第一水量控制部,其设置于所述第二流通管从所述第一流通管分支的第一分支部;第二水量控制部,其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制;比较部,其比较第一量与第二量,所述第一量是由所述处理单元处理后的超纯水中含有的杂质的量,所述第二量是未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量;以及流路控制部,其根据所述比较部的比较结果,来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。
[0007]另外,本专利技术涉及一种控制装置,具有:第一水量控制部,其设置于第二流通管从第一流通管分支的第一分支部,所述第一流通管使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置,所述第二流通管在所述超纯水制造设备与设置于所述第一流通管上且对所述超纯水进行处理的处理单元之间从所述第一流通管分支出来,且使超纯水流向所述清洗装置;第二水量控制部,其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制;比较部,其比较第一量与第二量,所述第一量是经过了所述处理单元的第一点上的所述超纯水中含有的杂
质的量,所述第二量是从所述超纯水制造设备流过来且未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量;以及流路控制部,其根据所述比较部的比较结果来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。
[0008]另外,本专利技术涉及一种程序,用于使计算机执行如下过程:比较过程,比较第一量与第二量,所述第一量是经过了处理单元的第一点上的所述超纯水中含有的杂质的量,所述处理单元设置于使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置的第一流通管上,且对所述超纯水进行处理,所述第二量是从所述超纯水制造设备流过来且未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量;以及控制过程,根据所述比较的结果,来对所述第一流通管中流动的超纯水和所述第二流通管中流动的超纯水进行控制。(专利技术效果)
[0009]在本专利技术中,能高效地利用供给超纯水的系统。
附图说明
[0010]图1是表示本专利技术的超纯水供给系统的第一实施方式的图。图2是表示图1所示的第一水量控制部的内部构成的一例的图。图3是表示图1所示的第二水量控制部的内部构成的一例的图。图4是表示图1所示的流路控制部进行的阀的控制方法的一例的图。图5是用于说明图1所示的超纯水供给系统中的超纯水供给方法的一例的流程图。图6是表示图1所示的处理单元的第一内部构成例的图。图7是表示图1所示的处理单元的第二内部构成例的图。图8是表示图1所示的处理单元的第三内部构成例的图。图9是表示本专利技术的超纯水供给系统的第二实施方式的图。图10是表示图9所示的第三水量控制部的内部构成的一例的图。
具体实施方式
[0011]以下,参照附图来说明本专利技术的实施方式。(第一实施方式)
[0012]图1是表示本专利技术的超纯水供给系统的第一实施方式的图。本方式中的超纯水供给系统如图1所示,具有处理单元110、流通管210、220、230、240、水量控制部310、320、测量部410、420、比较部510以及流路控制部520。FP230193JP
[0013]处理单元110是设置于流通管210上的装置,流通管210使超纯水从超纯水制造设备100流向使用点(在本实施方式中为清洗对象物的清洗装置120)。该超纯水是在半导体器件制造工厂等中使用的水。处理单元110是从在流通管210上流过来的超纯水中去除杂质的单元。处理单元110例如使用离子交换体或者微滤膜(MF)、超滤膜(UF)等来从超纯水中去除杂质。该离子交换体具有离子去除或者离子吸附功能(例如,离子吸附膜或者整料、离子交换树脂)。离子交换体去除或者吸附的对象物是离子性金属杂质。另外,离子交换体基于静电效应还吸附微粒。处理单元110具有使已处理的超纯水的杂质的量(第一量)成为例如换算为浓度时的低于1ppt的值的结构。处理单元110可以单独具有用于这些杂质去除的过滤
器等。另外,处理单元110也可以具有用于这些杂质去除的过滤器等的组合。处理单元110内可以具有冗余结构,以能够更换所构成的过滤器等。另外,升压用的泵以及热交换器可以设置于处理单元110的前级。
[0014]作为填充于处理单元110的构件,能列举离子交换体或者微滤膜(MF)、超滤膜(UF)等。可以将这些构件分别单独使用。另外,也可以将这些构件以任意的组合进行使用。作为处理单元110的构成的具体的例子,列举
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阴离子整料
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阳离子整料
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阴离子整料与阳离子整料的组合在此,将整块状有机多孔质体称为整料。另外,可以在它们各自的前级或者后级设置离子交换树脂、离子交换树脂与微滤膜(MF)的组合、离子吸附膜、离子吸附膜与微滤膜(MF)的组合或者多个微滤膜(MF)的组合。进而,处理单元110的构成可以是
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阴离子交换树脂
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阳离子交换树脂
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阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的组合(层叠或者混床)另外,可以在它们各自的前级或者后级设置离子吸附膜、离子吸附膜与微滤膜(MF)的组合或者多个微滤膜(MF)的组合。进而,处理单元110的构成可以是
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离子吸附膜
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离子吸附膜与微滤膜(MF)的组合
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微滤膜(MF)
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超滤膜(UF)另外,可以是将上述那样的整料与离子交换树脂组合后的产物、将整料与离子吸附膜组合后的产物。
[0015]超纯水制造设备100是制造用于向清洗装置120供给的超纯水的设备。用于制造超纯水的构成可以是通常构成。超纯水制造设备100例如具备前处理系统、一次纯本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种超纯水供给系统,具有:第一流通管,其使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置;处理单元,其设置于所述第一流通管上,对所述超纯水进行处理;第二流通管,其在所述超纯水制造设备与所述处理单元之间从所述第一流通管分支出来,使超纯水流向所述清洗装置;第一水量控制部,其设置于所述第二流通管从所述第一流通管分支的第一分支部;第二水量控制部,其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制;比较部,其比较第一量与第二量,所述第一量是由所述处理单元处理后的超纯水中含有的杂质的量,所述第二量是未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量;以及流路控制部,其根据所述比较部的比较结果,来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。2.根据权利要求1所述的超纯水供给系统,其中,所述超纯水供给系统具有第二分支部,所述第二分支部分支为使超纯水从所述第二流通管向所述超纯水制造设备返回的第三流通管、以及使超纯水从所述第二流通管流向所述清洗装置的第四流通管,所述第二水量控制部设置于所述第二分支部。3.根据权利要求2所述的超纯水供给系统,其中,所述第一水量控制部具有对从所述第一流通管流向所述处理单元的水量进行调整的第一阀、以及对从所述第一流通管流向所述第二流通管的水量进行调整的第二阀,所述第二水量控制部具有对从所述第二流通管流向所述第三流通管的水量进行调整的第三阀、以及对从所述第二流通管流向所述第四流通管的水量进行调整的第四阀,所述流路控制部控制所述第一阀、所述第二阀、所述第三阀以及所述第四阀的每一个的开闭。4.根据权利要求3所述的超纯水供给系统,其中,在所述第一量少于所述第二量、且所述第一量与所述第二量的差分为给定值以上的情况下,所述流路控制部使所述第一阀、所述第二阀以及所述第三阀成为打开状态,且使所述第四阀成为关闭状态,在除此以外的情况下,所述流路控制部使所述第一阀以及所述第三阀成为关闭状态,且使所述第二阀以及所述第四阀成为打开状态。5.根据权利要求2至4中任一项所述的超纯水供给系统,其中,所述超纯水供给系统具有:第五流通管,其在对所述第一量进行测量的第一量测量点和所述第四流通管与所述第一流通管的合流点之间从所述第一流通管分支出来,使超纯水流向所述超纯水制造设备;以及第五阀,其对从所述第一流通管流向所述第五流通管的水量进行调整。6.根据权利要求1至5中任一项所述的超纯...

【专利技术属性】
技术研发人员:茑野恭平中居巧菅原广
申请(专利权)人:奥加诺株式会社
类型:发明
国别省市:

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