组合物以及发光元件制造技术

本发明专利技术提供一种对于制造高发光效率的发光元件而言有用的组合物、以及含有该组合物的发光元件。一种组合物，含有具有式(Y)所示的重复单元及从最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下的低分子化合物(SM1)中除去了1个以上氢原子而形成的结构单元(SM1)的高分子化合物，和最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下的低分子化合物(SM2)；将组合物中单位质量的结构单元(SM1)的含有数量设为dSM1、将组合物中单位质量的低分子化合物(SM2)的含有数量设为dSM2时，dSM1+dSM2为2.0

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】组合物以及发光元件


[0001]本专利技术涉及组合物以及发光元件。

技术介绍

[0002]有机电致发光元件等发光元件可以适用于例如显示器和照明。作为发光元件的发光层中使用的发光材料，例如在专利文献1和2中公开了含有化合物M101、化合物M103等低分子化合物和高分子化合物的组合物。【化1】现有技术文献专利文献
[0003]专利文献1：国际公开第2018/062276号专利文献2：国际公开第2018/062278号

技术实现思路

专利技术要解决的课题
[0004]在专利文献1和2记载的组合物中，低分子化合物的最低激发三重态的能级与最低激发单重态的能级之差为0.50eV以下，高分子化合物的最低激发三重态的能级与最低激发单重态的能级之差超过0.50eV。使用了这些组合物的发光元件，在发光效率上有进一步提高的余地。
[0005]因此，本专利技术的目的在于提供一种对于制造高发光效率的发光元件而言有用的组合物以及含有该组合物的发光元件。用于解决课题的手段
[0006]本专利技术提供以下[1]～[12]。[1]一种组合物，含有：高分子化合物，其具有式(Y)所示的重复单元及从最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下的低分子化合物(SM1)中除去了1个以上氢
原子而形成的结构单元(SM1)，低分子化合物(SM2)，其最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下；将所述组合物中单位质量的所述结构单元(SM1)的含有数量设为dSM1、将所述组合物中单位质量的所述低分子化合物(SM2)的含有数量设为dSM2时，dSM1+dSM2为2.0
×
10
19
(个/g)以上，并且dSM1/dSM2为0.020以上、50以下。【化2】[式中，Ar
Y1
表示可以具有取代基的亚芳基。][2]根据[1]所述的组合物，其中，所述低分子化合物(SM1)是式(T
‑
1)所示的化合物、或具有选自D组的基团的化合物。【化3】[式中，n
T1
表示0以上的整数。存在多个n
T1
时，它们可以相同也可以不同。n
T2
表示0以上的整数。Ar
T1
表示取代氨基或一价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个该取代基时，它们可以相同也可以不同，也可以相互结合与各自结合的原子一起形成环。存在多个Ar
T1
时，它们可以相同也可以不同。其中，Ar
T1
中的一价杂环基是环内含有未形成双键的氮原子、并且环内不含＝N
‑
所示基团、
‑
C(＝O)
‑
所示基团、
‑
S(＝O)
‑
所示基团及
‑
S(＝O)2‑
所示基团的一价杂环基。L
T1
表示亚烷基、亚环烷基、亚芳基、二价杂环基、氧原子或硫原子，这些基团可以具有取代基。存在多个该取代基时，它们可以相同也可以不同，也可以相互结合与各自结合的原子一起形成环。存在多个L
T1
时，它们可以相同也可以不同。Ar
T2
表示选自A组、B组和C组的基团。但是，Ar
T2
选自A组时，n
T2
为2。]A组：
‑
C(＝O)
‑
、
‑
S(＝O)
‑
及
‑
S(＝O)2‑
B组：从具有吸电子基团的芳香烃中除去了n
T2
个氢原子的基团C组：从环内含有＝N
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、从环内含有
‑
C(＝O)
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、从环内含有
‑
S(＝O)
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、以及从环内含有
‑
S(＝O)2‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团D组：从含有硼原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有磷原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有铝原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有镓原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有硅原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有砷原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、以及从含有锗原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团
[3]根据[1]或[2]所述的组合物，其中，dSM1/dSM2为0.077～0.77或1.3～13。[4]根据[1]～[3]中任一项所述的组合物，其中，所述低分子化合物(SM1)为式(D
‑
1)所示的化合物。【化4】[式中，A环、B环和C环各自独立地表示芳香烃环或芳香族杂环，这些环可以具有取代基。X表示硼原子、磷原子、P＝O、P＝S、铝原子、镓原子、砷原子、Si
‑
Rx或Ge
‑
Rx。Rx表示芳基或烷基，这些基团可以具有取代基。Y1表示N
‑
Ry、硫原子或硒原子。Y2和Y3各自独立地表示氧原子、N
‑
Ry、硫原子或硒原子。Ry表示氢原子、芳基、一价杂环基或烷基，这些基团可以具有取代基。存在多个Ry时，可以相同也可以不同。Ry可以直接或通过连接基团与所述A环、所述B环或所述C环结合。n3为0或1。n3为0时，不存在
‑
Y3‑
。][5]根据[1]～[4]中任一项所述的组合物，其中，所述高分子化合物还含有式(X)所示的结构单元(但是，与所述结构单元(SM1)不同)。【化5】[式中，a
X1
和a
X2
各自独立地表示0以上的整数。Ar
X1
和Ar
X3
各自独立地表示亚芳基或二价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个该取代基时，它们可以相同也可以不同，也可以相互结合与各自结合的原子一起形成环。Ar
X2
和Ar
X4
各自独立地表示亚芳基、二价杂环基或由至少1种亚芳基和至少1种二价杂环基直接结合的二价基团，这些基团可以具有取代基。存在多个该取代基时，它们可以相同也可以不同，也可以相互结合与各自结合的原子一起形成环。存在多个Ar
X2
和Ar
X4
时，
它们可以相同也可以不同。R
X1
、R
X2
和R
X3
各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或一价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个该取代基时，它们可以相同也可以不同，也可以相互结合与各自结合的原子一起形成环。存在多个R
X2
和R<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种组合物，含有：高分子化合物，其具有式(Y)所示的重复单元及从最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下的低分子化合物SM1中除去了1个以上氢原子而形成的结构单元SM1，以及低分子化合物SM2，其最低三重激发态的能级与最低单重激发态的能级之差的绝对值为0.50eV以下；将所述组合物中单位质量的所述结构单元SM1的含有数量设为dSM1、将所述组合物中单位质量的所述低分子化合物SM2的含有数量设为dSM2时，dSM1+dSM2为2.0
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个/g以上，并且dSM1/dSM2为0.020以上、50以下；【化1】式中，Ar
Y1
表示具有或不具有取代基的亚芳基。2.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述低分子化合物SM1是式(T
‑
1)所示的化合物，或具有选自D组的基团的化合物；【化2】式中，n
T1
表示0以上的整数，存在多个n
T1
时，它们相同或不同；n
T2
表示0以上的整数；Ar
T1
表示取代氨基或一价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环；存在多个Ar
T1
时，它们相同或不同；其中，Ar
T1
中的一价杂环基是环内含有未形成双键的氮原子、并且环内不含＝N
‑
所示基团、
‑
C(＝O)
‑
所示基团、
‑
S(＝O)
‑
所示基团及
‑
S(＝O)2‑
所示基团的一价杂环基；L
T1
表示亚烷基、亚环烷基、亚芳基、二价杂环基、氧原子或硫原子，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环，存在多个L
T1
时，它们相同或不同；Ar
T2
表示选自A组、B组和C组的基团，其中，Ar
T2
选自A组时，n
T2
为2；A组：
‑
C(＝O)
‑
、
‑
S(＝O)
‑
及
‑
S(＝O)2‑
B组：从具有吸电子基团的芳香烃中除去了n
T2
个氢原子的基团C组：从环内含有＝N
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、从环内含有
‑
C(＝O)
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、从环内含有
‑
S(＝O)
‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团、以及从环内含有
‑
S(＝O)2‑
所示基团的杂环化合物中除去了n
T2
个氢原子的基团D组：从含有硼原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有磷原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有铝原子的杂环化合物中除去了1个以上氢
原子的基团、从含有镓原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有硅原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、从含有砷原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团、以及从含有锗原子的杂环化合物中除去了1个以上氢原子的基团。3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，dSM1/dSM2为0.077～0.77或1.3～13。4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，所述低分子化合物SM1为式(D
‑
1)所示的化合物；【化3】式中，A环、B环和C环各自独立地表示芳香烃环或芳香族杂环，这些环具有或不具有取代基；X表示硼原子、磷原子、P＝O、P＝S、铝原子、镓原子、砷原子、Si
‑
Rx或Ge
‑
Rx；Rx表示芳基或烷基，这些基团具有或不具有取代基；Y1表示N
‑
Ry、硫原子或硒原子；Y2和Y3各自独立地表示氧原子、N
‑
Ry、硫原子或硒原子；Ry表示氢原子、芳基、一价杂环基或烷基，这些基团具有或不具有取代基；存在多个Ry时，相同或不同，Ry直接或通过连接基团与所述A环、所述B环或所述C环结合或不结合；n3为0或1，n3为0时，不存在
‑
Y3‑
。5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，所述高分子化合物进一步含有不同于所述结构单元SM1的式(X)所示的结构单元；【化4】式中，a
X1
和a
X2
各自独立地表示0以上的整数；Ar
X1
和Ar
X3
各自独立地表示亚芳基或二价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环；
Ar
X2
和Ar
X4
各自独立地表示亚芳基、二价杂环基或由至少1种亚芳基和至少1种二价杂环基直接结合的二价基团，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环，存在多个Ar
X2
和Ar
X4
时，它们相同或不同；R
X1
、R
X2
和R
X3
各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或一价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环；存在多个R
X2
和R
X3
时，它们相同或不同。6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，所述低分子化合物SM2为式(T
‑
11)所示的化合物，或具有选自G组的基团的化合物；【化5】式中，n
T3
表示0以上的整数，存在多个n
T3
时，它们相同或不同；n
T4
表示1以上的整数；Ar
T3
表示取代氨基或一价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环；存在多个Ar
T3
时，它们相同或不同；其中，Ar
T3
中的一价杂环基是环内含有未形成双键的氮原子、并且环内不含＝N
‑
所示基团、
‑
C(＝O)
‑
所示基团、
‑
S(＝O)
‑
所示基团及
‑
S(＝O)2‑
所示基团的一价杂环基；L
T2
表示亚烷基、亚环烷基、亚芳基、二价杂环基、氧原子或硫原子，这些基团具有或不具有取代基，存在多个该取代基时，它们相同或不同，或者相互结合与各自结合的原子一起形成环；存在多个L
T2
时，它们相同或不同；Ar
T4
表示选自A组、E组和F组的基团，其中，Ar
T4
为选自A组的基团时，n
T4
为2；A组：
‑
C(＝O)
‑
、
...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本龙二，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：