涂覆制品和制造方法技术

涂覆制品包括设置在衬底上的涂层。所述涂层包括与去离子水的接触角为90

【技术实现步骤摘要】
涂覆制品和制造方法


[0001]本公开总体上涉及涂覆制品和制造方法，并且更具体地，涉及与去离子水的接触角为90
°
或更大的涂覆制品及其制造方法。

技术介绍

[0002]玻璃基衬底通常用于例如显示装置(例如，液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管显示器(OLED)、等离子体显示面板(PDP)等)中。
[0003]在玻璃基衬底上提供氟化易清洁涂层是已知的。然而，此类涂层在重复使用后会表现出不良耐久性，同时接触角减小和/或摩擦系数增加，这会消除此类涂层的功能。因此，需要开发可用于涂层制品中的耐用且可提供功能例如易于清洁功能的涂层。

技术实现思路

[0004]本文中阐述与去离子水的接触角为90
°
或更多的涂覆制品。所述涂覆制品可包括衬底，所述衬底包括璃基材料和/或陶瓷基材料，这可提供良好尺寸稳定性、良好耐冲击性和/或良好耐穿刺性。包括玻璃基材料和/或陶瓷基材料的所述衬底可包括一个或多个压缩应力区域，这可进一步提供增加的耐冲击性和/或增加的耐穿刺性。
[0005]本文所述的涂覆制品的涂层可以是多孔且疏水的以减少材料(例如，指纹油、水)到涂层的表面上的转移。提供多孔涂层可降低涂层的折射率并且有益地减小材料转移到其上的可用表面积。提供多孔涂层可减小水接触角，从而使得表面更加疏水。所述涂层可包括大于0的偏度Rsk和小于3的峰度Rku，这减小了材料转移到其上的表面积。例如，所述涂层可用作易清洁涂层和/或抗指纹涂层。此外，所述涂层可以是例如耐用的，从而在重复磨损之后维持其性质。与没有所述涂层的衬底相比，提供所述涂层可增加涂覆制品的透射率和/或降低反射率。提供具有低折射率的涂层可使得所述涂层能够设置在抗反射堆叠的顶部上或作为最外层被包括在抗反射堆叠中。
[0006]本公开的方法可用于使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和/或物理气相沉积(PVD)来制造涂覆制品，这可在单步过程中产生所述涂层。方法能够形成氢化无定形碳与无定形氧化硅和/或无定形氮化硅的互穿网络，这可提供上述益处。
[0007]下文描述了本公开的一些示例性方面，应理解，各个方面的特征中的任一个可单独使用或彼此组合使用。
[0008]方面1.一种包括衬底的涂覆制品，所述衬底包括第一主表面。所述涂覆制品包括设置在所述衬底上的涂层。所述涂层包括与去离子水的接触角为90
°
或更多的表面。所述涂层的折射率小于所述衬底的折射率。所述涂层包括氢化无定形碳与无定形氧化硅的互穿网络。
[0009]方面2.如方面1所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率在约1.3至约1.4的范围内。
[0010]方面3.如方面1
‑
2中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率小于
1.37。
[0011]方面4.如方面1
‑
3中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的厚度在约0.1纳米至约200纳米的范围内。
[0012]方面5.如方面4所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述厚度在约1纳米至约50纳米的范围内。
[0013]方面6.如方面1
‑
5中任一项所述的涂覆制品，其中所述接触角在约100
°
至约140
°
的范围内。
[0014]方面7.如方面1
‑
6中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在约10纳米至约20纳米的范围内的表面粗糙度Ra。
[0015]方面8.如方面1
‑
7中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在约100纳米至约300纳米的范围内的表面粗糙度Rz。
[0016]方面9.如方面1
‑
8中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在约0至约0.3的范围内的偏度Rsk。
[0017]方面10.如方面1
‑
9中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括小于3的峰度Rku。
[0018]方面11.如方面1
‑
10中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品包括在500nm下为91％或更多的透射率。
[0019]方面12.如方面1所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品在500纳米下的所述透射率大于没有所述涂层的衬底在500纳米下的透射率。
[0020]方面13.如方面1
‑
12中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品的平均透射率在400纳米至700纳米的光学波长内平均为约91％或更多。
[0021]方面14.如方面13所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品的所述平均透射率在约92％至约95％的范围内。
[0022]方面15.如方面1
‑
14中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面的平均反射率在400纳米至700纳米的光学波长内平均为约2.0％或更少。
[0023]方面16.如方面15所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面的所述平均反射率在约0.5％至约1.5％的范围内。
[0024]方面17.如方面1
‑
16中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括在约500纳米下为约0.01cm
‑1或更少的消光系数。
[0025]方面18.如方面1
‑
17中任一项所述的涂覆制品，其中平均消光系数在400纳米至约700纳米的光学波长内平均在约0.001cm
‑1至约0.004cm
‑1的范围内。
[0026]方面19.如方面1
‑
18中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的孔隙度在约5％至约50％的范围内。
[0027]方面20.如方面1
‑
19中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面是所述涂覆制品的外表面。
[0028]方面21.如方面1
‑
20中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层接触所述衬底的所述第一主表面。
[0029]方面22.如方面1
‑
20中任一项所述的涂覆制品，其还包括设置在所述涂层与所述衬底之间的层，所述层包括氧化硅、氮化硅、氧化钛或氧化铌中的一者或多者。
[0030]方面23.如方面22所述的涂覆制品，其中所述层包括用作抗反射堆叠的多个层。
[0031]方面24.如方面23所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率比所述多个层的最外层小约0.05或更多。
[0032]方面25.如方面23所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率比所述多个层的最外层小约0.1或更多。
[0033]方面26.如方面1
‑
25中任一项所述的涂覆制品，其中在所述涂层的所述表面根据ISO 9211
‑
4:2012用粗棉布磨损10,000个循环之后，所述涂层的所述接触角为约70
°
或更多。
[003本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂覆制品，其包括：衬底，所述衬底包括第一主表面；以及涂层，所述涂层设置在所述衬底上，所述涂层包括与去离子水的接触角为90
°
或更多的表面，所述涂层的折射率小于所述衬底的折射率，并且所述涂层包括氢化无定形碳与无定形氧化硅的互穿网络。2.如权利要求1所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率在约1.3至约1.4的范围内。3.如权利要求1
‑
2中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率小于1.37。4.如权利要求1
‑
3中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的厚度在约0.1纳米至约200纳米的范围内。5.如权利要求4所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述厚度在约1纳米至约50纳米的范围内。6.如权利要求1
‑
5中任一项所述的涂覆制品，其中所述接触角在约100
°
至约140
°
的范围内。7.如权利要求1
‑
6中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在约10纳米至约20纳米的范围内的表面粗糙度Ra。8.如权利要求1
‑
7中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在约100纳米至约300纳米的范围内的表面粗糙度Rz。9.如权利要求1
‑
8中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括在0至约0.3的范围内的偏度Rsk。10.如权利要求1
‑
9中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面包括小于3的峰度Rku。11.如权利要求1
‑
10中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品包括在500nm下为91％或更多的透射率。12.如权利要求11所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品在500纳米下的所述透射率大于没有所述涂层的衬底在500纳米下的透射率。13.如权利要求1
‑
12中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品的平均透射率在400纳米至700纳米的光学波长内平均为约91％或更多。14.如权利要求13所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品的所述平均透射率在约92％至约95％的范围内。15.如权利要求1
‑
14中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面的平均反射率在400纳米至700纳米的光学波长内平均为约2.0％或更少。16.如权利要求15所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面的所述平均反射率在约0.5％至约1.5％的范围内。17.如权利要求1
‑
16中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括在约500纳米下为约0.01cm
‑1或更少的消光系数。18.如权利要求1
‑
17中任一项所述的涂覆制品，其中平均消光系数在400纳米至约700纳米的光学波长内平均在约0.001cm
‑1至约0.004cm
‑1的范围内。19.如权利要求1
‑
18中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的孔隙度在约5％至约
50％的范围内。20.如权利要求1
‑
19中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述表面是所述涂覆制品的外表面。21.如权利要求1
‑
20中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层接触所述衬底的所述第一主表面。22.如权利要求1
‑
20中任一项所述的涂覆制品，其还包括设置在所述涂层与所述衬底之间的层，所述层包括氧化硅、氮化硅、氧化钛或氧化铌中的一者或多者。23.如权利要求22所述的涂覆制品，其中所述层包括用作抗反射堆叠的多个层。24.如权利要求23所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率比所述多个层的最外层小约0.05或更多。25.如权利要求23所述的涂覆制品，其中所述涂层的所述折射率比所述多个层的最外层小约0.1或更多。26.如权利要求1
‑
25中任一项所述的涂覆制品，其中在所述涂层的所述表面根据ISO 9211
‑
4:2012用粗棉布磨损10,000个循环之后，所述涂层的所述接触角为约70
°
或更多。27.如权利要求1
‑
26中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品包括在约0至约
‑
6的范围内的CIE b*值。28.如权利要求27所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品包括在约0至约
‑
6的范围内的CIE a*值。29.如权利要求1
‑
28中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层是无氟的。30.如权利要求1
‑
29中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层是无氮的。31.如权利要求1
‑
29中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括无定形氮化硅。32.如权利要求1
‑
31中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括约0.7至约2的硅碳原子比。33.如权利要求1
‑
32中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括约2至约5的氧碳原子比。34.如权利要求1
‑
33中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层包括约0.3或更少的动摩擦系数。35.如权利要求1
‑
34中任一项所述的涂覆制品，其中所述衬底包括玻璃基材料或陶瓷基材料。36.如权利要求35所述的涂覆制品，其中所述衬底是显示器的覆盖透镜，并且所述涂层用作易清洁涂层。37.如权利要求35所述的涂覆制品，其中所述显示器是车辆内部系统的部件。38.一种形成涂覆制品的方法，其包括：对前体使用等离子体增强化学气相沉积而在...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海星，欧阳煦，孙亚伟，
申请(专利权)人：康宁公司，
类型：发明
国别省市：