显示面板及其制造方法、以及显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示基板及其制造方法、以及显示装置。该显示基板包括：基板，以及设置于基板一侧的像素界定层和阵列排布的多个阳极；在截面图的角度下，像素界定层位于相邻阳极之间，并延伸至阳极远离基板一侧以形成底切结构；底切结构在基板上的正投影位于阳极在基板上的正投影的周边区域内；在垂直于基板的方向上，底切结构的至少部分与阳极相分隔。本申请实施例能够避免相邻发光单元之间的发光状态相互影响，从而改善显示面板的显示效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法、以及显示装置


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示面板及其制造方法、以及显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的不断发展，有机发光二极管面板(OLED，Organic Light
‑
Emitting Diode)的应用越来越广泛。其中，有源矩阵有机发光二极管面板(Active
‑
Matrix Organic Light
‑
Emitting Diode，AMOLED)由于其自主发光、色彩鲜艳以及可折叠等优点，被广泛使用于各种显示领域。例如，手机(Mobile)、笔记本电脑(Notebook)、平板电脑(Tablet)以及可穿戴设备(Wearable)等显示领域。
[0003]相关技术中，由于显示面板中相邻发光单元之间的发光状态容易相互影响，会导致显示面板的显示效果较差。

技术实现思路

[0004]本申请针对相关技术的缺点，提出一种显示面板及其制造方法、以及显示装置，用以解决相关技术存在的相邻发光单元之间的发光状态相互影响，而导致显示效果较差的问题。
[0005]第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：基板，以及设置于所述基板一侧的像素界定层和阵列排布的多个阳极；
[0006]在截面图的角度下，所述像素界定层位于相邻所述阳极之间，并延伸至所述阳极远离所述基板一侧以形成底切结构；
[0007]所述底切结构在所述基板上的正投影位于所述阳极在所述基板上的正投影的周边区域内；
[0008]在垂直于所述基板的方向上，所述底切结构的至少部分与所述阳极相分隔。
[0009]在一个可能的实现方式中，在平行于所述基板的平面内，所述底切结构呈环状；
[0010]在平行于所述基板的方向上，所述底切结构的内缘和外缘之间的距离范围为0.35微米至0.55微米。
[0011]在一个可能的实现方式中，所述像素界定层还包括与所述阳极同层设置的界定结构；在截面图的角度下，所述界定结构包括主体部，以及连接所述主体部和所述底切结构的连接部；
[0012]所述底切结构在垂直于所述基板的方向上的尺寸，与所述主体部在垂直于所述基板的方向上的尺寸相等。
[0013]在一个可能的实现方式中，所述阳极包括中心区域，以及环绕所述中心区域的周边区域；
[0014]沿所述周边区域指向所述中心区域的方向，所述底切结构在垂直于所述基板的方向上的尺寸逐渐减小。
[0015]在一个可能的实现方式中，所述底切结构包括在垂直于所述基板的方向上相对设置的顶面和底面；所述底面为凹面。
[0016]在一个可能的实现方式中，还包括位于所述阳极远离所述基板一侧的发光层；
[0017]所述发光层在所述基板上的正投影与所述底切结构在所述基板上的正投影至少部分重叠。
[0018]第二个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括如上述的显示面板。
[0019]第三个方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：
[0020]在基板一侧制备阵列排布的多个阳极，并保留位于每个所述阳极远离所述基板一侧的光刻胶结构；
[0021]在所述光刻胶结构远离所述阳极的一侧制备初始像素界定层，所述像素界定层覆盖露出于所述阳极的所述基板；
[0022]对所述初始像素界定层进行图案化处理以形成包含底切结构的像素界定层，并暴露出位于所述阳极一侧且位于相邻所述底切结构之间的所述光刻胶结构；所述底切结构在所述基板上的正投影位于所述阳极在所述基板上的正投影的周边区域内；在垂直于所述基板的方向上，所述底切结构的至少部分与所述阳极相分隔；
[0023]去除所述光刻胶结构。
[0024]在一个可能的实现方式中，所述对所述初始像素界定层进行图案化处理以形成包含底切结构的像素界定层，并暴露出位于所述阳极一侧且位于相邻所述底切结构之间的所述光刻胶结构，包括：
[0025]对所述初始像素界定层进行整面减薄处理，以去除位于所述光刻胶结构的中央区域、且远离所述阳极一侧的初始像素界定层，使得位于所述光刻胶结构的周边区域、且远离所述阳极一侧减薄后的初始像素界定层形成底切结构。
[0026]在一个可能的实现方式中，所述对所述初始像素界定层进行图案化处理以形成包含底切结构的像素界定层，并暴露出位于所述阳极一侧且位于相邻所述底切结构之间的所述光刻胶结构，包括：
[0027]制备覆盖位于所述阳极之间、以及位于所述光刻胶结构的周边区域、且远离所述阳极一侧的初始像素界定层的掩膜层；
[0028]利用所述掩膜层对所述初始像素界定层进行刻蚀处理，以去除位于所述光刻胶结构的中央区域、且远离所述阳极一侧的初始像素界定层，使得位于所述光刻胶结构的周边区域、且远离所述阳极一侧的初始像素界定层形成底切结构。
[0029]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0030]由于本申请中像素界定层延伸至阳极远离基板一侧以形成底切结构，底切结构在基板上的正投影位于阳极在基板上的正投影的周边区域内，也就是说，底切结构环绕阳极上方，使得后续工艺形成的发光叠层中的公共层(公共层即发光叠层中的整面膜层，多个发光单元共用该公共层)在底切结构处断开，避免因公共层连接相邻的发光单元、导致相邻发光单元之间形成弱沟道现象，而造成相邻发光单元之间的发光状态相互影响的问题，从而改善显示面板的显示效果。
[0031]而且，由于在垂直于基板的方向上，底切结构的至少部分与阳极相分隔，即阳极的周边区域并未被底切结构覆盖，使得在后续工艺中阳极的周边区域表面仍能形成发光层，
能够避免因底切结构覆盖于阳极的周边区域、而造成阳极表面用于形成发光层的面积减小的问题，能够保证较大的发光层的面积，从而有利于提高显示面板的显示亮度。
[0032]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0033]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0034]图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图；
[0035]图2为本申请实施例提供的像素界定层和阳极的结构示意图；
[0036]图3为本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程图；
[0037]图4为本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，在基板一侧制备阵列排布的多个阳极，并保留位于每个阳极远离基板一侧的光刻胶结构后，得到的膜层结构的结构示意图；
[0038]图5为本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，在光刻胶结构远离阳极的一侧制备初始像素界定层，像素界定层覆盖露出于阳极的基板后，得到的膜层结构的结构示意图；
[0039]图6为本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，对像素界定层进行图案化处理以形成底切结构，并暴露出位于阳极一侧且位于相邻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：基板，以及设置于所述基板一侧的像素界定层和阵列排布的多个阳极；在截面图的角度下，所述像素界定层位于相邻所述阳极之间，并延伸至所述阳极远离所述基板一侧以形成底切结构；所述底切结构在所述基板上的正投影位于所述阳极在所述基板上的正投影的周边区域内；在垂直于所述基板的方向上，所述底切结构的至少部分与所述阳极相分隔。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在平行于所述基板的平面内，所述底切结构呈环状；在平行于所述基板的方向上，所述底切结构的内缘和外缘之间的距离范围为0.35微米至0.55微米。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素界定层还包括与所述阳极同层设置的界定结构；在截面图的角度下，所述界定结构包括主体部，以及连接所述主体部和所述底切结构的连接部；所述底切结构在垂直于所述基板的方向上的尺寸，与所述主体部在垂直于所述基板的方向上的尺寸相等。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阳极包括中心区域，以及环绕所述中心区域的周边区域；沿所述周边区域指向所述中心区域的方向，所述底切结构在垂直于所述基板的方向上的尺寸逐渐减小。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述底切结构包括在垂直于所述基板的方向上相对设置的顶面和底面；所述底面为凹面。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述阳极远离所述基板一侧的发光层；所述发光层在所述基板上的正投影与所述底切结构在所述基板上的正投影至少部分重叠。7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1
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6中任一所述的显示面板。8.一种如权利要求1至6中任一所述显示面板的制造方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李秋婕，侯唯玮，李栓柱，王文涛，史大为，巩伟兴，
申请(专利权)人：重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：