一种防止氢脆的纳米复合薄膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种防止氢脆的纳米复合薄膜及其制备方法与应用，涉及纳米薄膜技术领域，该薄膜包括：CdNi层、二氧化硅层、NiCrAlSi层和氧化铝层；CdNi层包括以下质量分数的元素：Cd 20%~30%和Ni 70%~80%；NiCrAlSi层包括以下质量分数的元素：Cr 20%~30%、Ni 55%~65%、Al 8%~10%、Si 1%~5%。本发明专利技术通过对CdNi层和NiCrAlSi层中各元素的质量含量进行控制，从而进一步增强了纳米复合薄膜的防氢脆效果，从而制得了防氢脆性能优异的纳米复合薄膜。制得了防氢脆性能优异的纳米复合薄膜。制得了防氢脆性能优异的纳米复合薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种防止氢脆的纳米复合薄膜及其制备方法与应用


[0001]本专利技术属于纳米薄膜
，具体是一种防止氢脆的纳米复合薄膜及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]相关技术中压力传感器通常采用不锈钢或合金钢等合金材料制作弹性体或介质过程元件；上述合金材料应用于富氢环境时、合金材料由于吸氢或氢渗而造成机械性能严重退化、发生脆断的现象（即氢脆）。
[0003]从机械性能上看，氢脆有以下表现：氢对金属材料的屈服强度和极限强度影响不大，但使延伸率是断面收缩率严重下降，疲劳寿命明显缩短，冲击韧性值显著降低。在低于断裂强度拉伸应力的持续作用下，材料经过一段时期后会突然脆断。
[0004]相关技术中一般通过对合金材料的成分进行调控，从而实现提升合金材料的防氢脆性能；相关技术中还通过在合金材料表面形成纳米薄膜，从而提升合金材料防氢脆性能，但相关技术中纳米薄膜的结构相对复杂，且防氢脆效果较差。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种防止氢脆的纳米复合薄膜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题和缺陷的至少一个方面。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止氢脆的纳米复合薄膜，其特征在于，由下至上依次包括：CdNi层、二氧化硅层、NiCrAlSi层和氧化铝层；所述CdNi层包括以下质量分数的元素：Cd 20%~30%和Ni 70%~80%；所述NiCrAlSi层包括以下质量分数的元素：Cr 20%~30%、Ni 55%~65%、Al 8%~10%、Si 1%~5%。2.根据权利要求1所述的防止氢脆的纳米复合薄膜，其特征在于，所述CdNi层的厚度为10nm~20nm。3.根据权利要求1所述的防止氢脆的纳米复合薄膜，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为100nm~200nm。4.根据权利要求1所述的防止氢脆的纳米复合薄膜，其特征在于，所述NiCrAlSi层的厚度为50nm~60nm。5.根据权利要求1所述的防止氢脆的纳米复合薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐承义，
申请(专利权)人：松诺盟科技有限公司，
类型：发明
国别省市：