一种二维光学调整架制造技术

本发明专利技术公开了一种二维光学调整架，包括基板、底座、第一旋转块以及第二旋转块；底座固定在基板上；第一旋转块通过第一圆柱轴安装在底座顶部并可相对底座在水平方向转动；第二旋转块通过第二圆柱轴安装在第一旋转块前端并可相对第一旋转块绕水平轴线旋转；第二旋转块前端设有楔面。本发明专利技术通过两个旋转块的转动配合，结合第二旋转块上的楔角，可以将固定在楔面上的光学元件的法线调节到某个空间立体角的任意位置，实现有效的二维调整，并且调节范围大、固定方便，适用于非实验环境。适用于非实验环境。适用于非实验环境。

【技术实现步骤摘要】
一种二维光学调整架


[0001]本专利技术涉及一种二维光学调整架，通过两个旋转块的转动配合，结合第二旋转块上的楔角，可实现非实验环境下，固定在楔面上的光学元件有效的大范围二维调整。

技术介绍

[0002]在光学系统中，光学元件需要按照一定空间位置进行放置，从而实现一定的功能。通常在光学系统中对光学元件的空间位置要求较高，在装配过程中光学元件的安装总会存在一定的偏差，因此需要进一步对光学元件进行调整。一般光学元件安装在光学调整架上，使用光学调整架进行水平和俯仰的二维调整，以实现光学系统的功能。
[0003]目前，光学调整架大多是由连接光学元件的活动板、固定板、起支撑作用的钢珠、用于活动板相对于固定板调整的螺杆、起拉伸作用的弹簧等构成，这种结构的光学调整架的抗震能力差，调节范围小，主要应用于实验环境。
[0004]为避免在振动环境中光学调整架螺杆、弹簧等受力松动位移，影响光学系统长期使用的稳定性。同时现阶段的光学调整架一般体积较大，不能满足应用于尺寸小、结构紧凑的光学系统上的要求，给一些非实验环境带来了诸多不便。
[0005]因此，提高光学元件在非实验室环境中工作的稳定性非常重要。

技术实现思路

[0006]为了解决现有技术存在的上述问题，本专利技术提供一种二维光学调整架，通过两个旋转块的转动配合，结合第二旋转块上的楔角，可以将固定在楔面上的光学元件的法线调节到某个空间立体角的任意位置，实现有效的二维调整，并且调节范围大、固定方便，适用于非实验环境。
[0007]本专利技术的技术解决方案如下：
[0008]一种二维光学调整架，包括基板、底座、第一旋转块以及第二旋转块；底座固定在基板上；第一旋转块通过第一圆柱轴安装在底座顶部并可相对底座在水平方向转动；第二旋转块通过第二圆柱轴安装在第一旋转块前端并可相对第一旋转块绕水平轴线旋转；第二旋转块前端设有楔面。
[0009]进一步地，所述基板上设有螺纹孔，所述底座上设有与基板上的螺纹位置对应的长圆孔，用于连接底座与基板。
[0010]进一步地，所述底座顶面设有竖向的底座圆孔，用于安装第一旋转块的第一圆柱轴。
[0011]更进一步地，所述底座侧面设有底座点胶孔，用于向底座圆孔与第一圆柱轴之间点胶。
[0012]进一步地，所述第一旋转块上设有旋转块圆孔，用于安装第二旋转块的第二圆柱轴。
[0013]更进一步地，所述第一旋转块上还设有旋转块点胶孔，用于向旋转块圆孔与第二
圆柱轴之间点胶。
[0014]更进一步地，所述第一旋转块上还设有第一装配孔，用于配合工具实现第一旋转块转动。
[0015]进一步地，所述第二旋转块的楔面具有一定楔角。
[0016]更进一步地，所述第二旋转块上设有第二装配孔，用于配合工具实现第二旋转块转动。
[0017]本专利技术的技术效果如下：
[0018]1、本专利技术通过双旋转块和楔角的结构设计，可实现光线的水平和俯仰的二维调整。
[0019]2、本专利技术可实现宽范围至2π空间的二维调整。
[0020]3、本专利技术由于是转动调节，而不是一般侧面的旋钮调节，可实现在比较紧凑的光路中，更为方便的调节。
[0021]4、本专利技术由于是双旋转调节，旋转圆柱轴(或细牙螺纹柱)和圆孔(或细牙螺纹孔)采用过渡配合(或细牙螺纹配合)，同时圆柱轴(或细牙螺纹柱)可以涂胶水，再结合顶丝或点胶固定，从而提高了抗震能力。
附图说明
[0022]图1是本专利技术一种二维光学调整架整体装配图。
[0023]图2是所述基板示意图。
[0024]图3是所述底座示意图。
[0025]图4是所述第一旋转块示意图。
[0026]图5是所述第二旋转块示意图。
[0027]图中：
[0028]1‑
基板；2
‑
底座；3
‑
第一旋转块；4
‑
第二旋转块；
[0029]1‑1‑
螺纹孔；
[0030]2‑1‑
长圆孔；2
‑2‑
底座圆孔；2
‑3‑
底座点胶孔；
[0031]3‑1‑
第一圆柱轴；3
‑2‑
旋转块点胶孔；3
‑3‑
旋转块圆孔；3
‑4‑
第一装配孔；4
‑1‑
第二圆柱轴；4
‑2‑
楔面；4
‑3‑
第二装配孔。
具体实施方式
[0032]下面结合附图和实施例，对本专利技术作进一步说明。
[0033]如图1至图5所示，一种二维光学调整架，包括基板1、底座2、第一旋转块3以及第二旋转块4；底座2固定在基板1上；第一旋转块3通过第一圆柱轴3
‑
1安装在底座2顶部并可相对底座2在水平方向转动；第二旋转块4通过第二圆柱轴4
‑
1安装在第一旋转块3前端并可相对第一旋转块3绕水平轴线旋转；第二旋转块4前端设有楔面4
‑
2。
[0034]进一步地，所述基板1上设有螺纹孔1
‑
1，所述底座2上设有与基板1上的螺纹1
‑
1位置对应的长圆孔2
‑
1，用于连接底座与基板。
[0035]进一步地，所述底座2顶面设有竖向的底座圆孔2
‑
2，用于安装第一旋转块3的第一圆柱轴3
‑
1。
[0036]更进一步地，所述底座2侧面设有底座点胶孔2
‑
3，用于向底座圆孔2
‑
2与第一圆柱轴3
‑
1之间点胶。
[0037]进一步地，所述第一旋转块3上设有旋转块圆孔3
‑
3，用于安装第二旋转块4的第二圆柱轴4
‑
1。
[0038]更进一步地，所述第一旋转块3上还设有旋转块点胶孔3
‑
2，用于向旋转块圆孔3
‑
3与第二圆柱轴4
‑
1之间点胶。
[0039]更进一步地，所述第一旋转块3上还设有第一装配孔3
‑
4，用于配合工具实现第一旋转块3转动。
[0040]进一步地，所述第二旋转块4的楔面4
‑
2具有一定楔角。
[0041]更进一步地，所述第二旋转块4上设有第二装配孔4
‑
3，用于配合工具实现第二旋转块转动。
[0042]以下给出本专利技术一种二维光学调整架的设计步骤：
[0043]第一步：基板设计，其功能是用于固定底座。
[0044]基板可以结合具体光学系统实现，其上留有一定数量的螺纹孔。
[0045]第二步：底座设计，其功能是将自身固定在基板上，同时安装第一旋转块。
[0046]为实现自身固定在基板上，其上有安装孔位(长圆孔)，用于固定在基板的标准螺纹孔上。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二维光学调整架，其特征在于，包括基板、底座、第一旋转块以及第二旋转块；底座固定在基板上；第一旋转块通过第一圆柱轴安装在底座顶部并可相对底座在水平方向转动；第二旋转块通过第二圆柱轴安装在第一旋转块前端并可相对第一旋转块绕水平轴线旋转；第二旋转块前端设有楔面。2.如权利要求1所述的一种二维光学调整架，其特征在于，所述基板上设有螺纹孔，所述底座上设有与基板上的螺纹位置对应的长圆孔，用于连接底座与基板。3.如权利要求1所述的一种二维光学调整架，其特征在于，所述底座顶面设有竖向的底座圆孔，用于安装第一旋转块的第一圆柱轴。4.如权利要求3所述的一种二维光学调整架，其特征在于，所述底座侧面设有底座点胶孔，用于向底...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛竣文，张霁旸，陈奇，李丽娟，任姣姣，顾健，张丹丹，牟达，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：