暴露单元、观察装置和暴露方法制造方法及图纸

暴露单元用于使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞。暴露单元具备基体。基体具有：以露出于外部的方式在基体形成并且将细胞与缓冲液一起保留的槽、和与槽的一端连接并且储存向槽供给的缓冲液的第1储存部。槽供给的缓冲液的第1储存部。槽供给的缓冲液的第1储存部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】暴露单元、观察装置和暴露方法


[0001]本专利技术的一个方面涉及一种暴露单元、观察装置和暴露方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中记载有气液界面培养法。专利文献1所记载的气液界面培养法中，一边从支承体的背侧经由支承体供给培养液一边在支承体上培养细胞。支承体上的细胞被薄的培养液层覆盖。由于该液层极薄，所以能够使气相中的物质经由液层与细胞接触。根据这样的方法，能够评估气相中的物质对细胞施加的影响。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2002
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101897号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的技术问题
[0007]在使用上述那样的方法使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞的情况下，为了使物质经由缓冲液与细胞良好地接触，需要保持覆盖细胞的液层较薄。另一方面，为了防止细胞的干燥，需要利用缓冲液确实地覆盖细胞。即，在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，要求将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。
[0008]本专利技术的一个方面的目的在于提供一种在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，能够将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度的暴露单元、观察装置和暴露方法。
[0009]用于解决技术问题的方案
[0010]本专利技术的一个方面的暴露单元是用于使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞的暴露单元，并且具备基体，基体具有：槽，其以露出于外部的方式在基体形成，并且将细胞与缓冲液一起保留；和第1储存部，其与槽的一端连接，并且储存向槽供给的缓冲液。
[0011]在该暴露单元中，当在槽中配置细胞与缓冲液的悬浊液时，细胞与缓冲液一起保留在槽中，形成覆盖细胞的缓冲液的液层。该液层的厚度成为与槽的结构(例如尺寸、亲水性)相应的一定的厚度。因此，在该暴露单元中，能够将液层保持得较薄。此外，基体具有与槽的一端连接并且储存向槽供给的缓冲液的第1储存部。由此，能够从第1储存部向槽供给缓冲液，防止细胞干燥。因此，根据该暴露单元，能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。
[0012]也可以是，基体具备：具有形成有槽的表面的第1部件、和配置在表面上的第2部件，在第2部件上形成有第1开口和第2开口，槽经由第1开口向外部露出，第1储存部的至少一部分由第2开口构成。在这种情况下，通过槽经由第1开口向外部露出，能够容易地在槽中配置细胞与缓冲液的悬浊液。此外，通过第1储存部的至少一部分由第2开口构成，能够确保第1储存部中的缓冲液的储存量较大。
[0013]也可以在第2部件上形成有多个第1开口。在这种情况下，能够使槽的露出面积增加，能够增加暴露流量。此外，能够使配置在槽的与一个第1开口对应的部分的细胞和配置在槽的与另一个第1开口对应的部分的细胞不同，能够一次进行对于多种细胞的暴露。
[0014]基体的形成有槽的部分也可以相对于来自保留于槽中的细胞的光透明地构成。在这种情况下，能够隔着基体观察来自细胞的光。
[0015]基体也可以进一步具有与槽的另一端连接并且储存从槽排出的缓冲液的第2储存部。在这种情况下，能够利用第2储存部储存从槽排出的缓冲液。
[0016]槽的内表面的亲水性也可以高于基体的与槽相邻的部分的亲水性。在这种情况下，能够将细胞容易地保留于槽中。
[0017]槽也可以包含蜿蜒延伸的部分。在这种情况下，能够使槽的面积增加，能够使暴露流量增加。
[0018]第1储存部也可以由形成于基体的凹部构成。在这种情况下，能够简化结构。
[0019]本专利技术的一个方面的观察装置具备：暴露单元、来自保留于槽中的细胞的光通过的光学系统、和检测通过光学系统后的光的光检测器。根据该观察装置，基于上述的理由，能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。其结果，能够良好地进行观察。
[0020]本专利技术的一个方面的暴露单元是用于使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞的暴露单元，并且具备基体，基体的表面具有亲水性区域和亲水性比亲水性区域低的疏水性区域，通过基体的表面划分为亲水性区域和疏水性区域，亲水性区域具有将细胞与缓冲液一起保留的细胞保持部、和与细胞保持部连接并且储存向细胞保持部供给的缓冲液的储存部。
[0021]在该暴露单元中，当在细胞保持部中配置细胞与缓冲液的悬浊液时，细胞与缓冲液一起保留在细胞保持部，形成覆盖细胞的缓冲液的液层。该液层的厚度成为与细胞保持部的结构(例如尺寸、亲水性)相应的一定的厚度。因此，在该暴露单元中，能够将液层保持得较薄。此外，亲水性区域具有与细胞保持部连接并且储存向细胞保持部供给的缓冲液的储存部。由此，能够从储存部向细胞保持部供给缓冲液，并且能够防止细胞干燥。因此，根据该暴露单元，能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。
[0022]本专利技术的一个方面的暴露方法是使用上述暴露单元，在细胞与缓冲液一起保留于槽中且向槽供给的缓冲液储存于第1储存部的状态下，使气相中的物质暴露于保留在槽中的细胞。根据该暴露方法，基于上述的理由，能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。
[0023]本专利技术的一个方面的暴露方法是使用上述暴露单元，在细胞与缓冲液一起保留于细胞保持部中且向细胞保持部供给的缓冲液储存于储存部的状态下，使气相中的物质暴露于保留在细胞保持部的细胞。根据该暴露方法，基于上述的理由，能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度。
[0024]专利技术的效果
[0025]根据本专利技术的一个方面，能够提供一种能够在使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞时，将覆盖细胞的缓冲液的液层保持在适当的厚度的暴露单元、观察装置和暴露方法。
附图说明
[0026]图1是实施方式的暴露单元的立体图。
[0027]图2是暴露单元的分解立体图。
[0028]图3的(a)是玻璃基板的俯视图，图3的(b)是沿(a)所示的B
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B线的截面图。
[0029]图4的(a)是表示灌注缓冲液的情形的立体图，图4的(b)是沿(a)所示的B
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B线的截面图。
[0030]图5的(a)～(c)是表示播种细胞的情形的截面图。
[0031]图6是表示供给缓冲液的情形的截面图。
[0032]图7的(a)和(b)是表示在暴露单元上配置有气体试样室的状态的图。
[0033]图8是表示荧光观察时的情形的图。
[0034]图9是表示气味分子与细胞接触的情形的截面图。
[0035]图10是第1变形例的暴露单元的分解立体图。
[0036]图11的(a)是第1变形例的玻璃基板的俯视图，图11的(b)是第1变形例的橡胶片的俯视图。
[0037]图12的(a)是第2变形例的玻璃基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种暴露单元，其中，所述暴露单元用于使气相中的物质暴露于缓冲液中的细胞，并且具备基体，所述基体具有：槽，其以露出于外部的方式在所述基体形成，并且将所述细胞与所述缓冲液一起保留；和第1储存部，其与所述槽的一端连接，并且储存向所述槽供给的所述缓冲液。2.如权利要求1所述的暴露单元，其中，所述基体具备：具有形成有所述槽的表面的第1部件、和配置在所述表面上的第2部件，在所述第2部件上形成有第1开口和第2开口，所述槽经由所述第1开口向外部露出，所述第1储存部的至少一部分由所述第2开口构成。3.如权利要求2所述的暴露单元，其中，在所述第2部件上形成有多个所述第1开口。4.如权利要求1～3中的任一项所述的暴露单元，其中，所述基体的形成有所述槽的部分相对于来自保留于所述槽中的所述细胞的光透明地构成。5.如权利要求1～4中的任一项所述的暴露单元，其中，所述基体还具备与所述槽的另一端连接并且储存从所述槽排出的所述缓冲液的第2储存部。6.如权利要求1～5中的任一项所述的暴露单元，其中，所述槽的内表面的亲水性比所述基体的与所述槽相邻的部分的亲水性高。7.如权利要求1～6中的任一项所述的暴露单元，其中，所述槽包含蜿蜒延伸的部分。8.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村祐史，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：