真空装置和基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空装置和基板处理装置，该真空装置能够抑制保养维修费的增加，其具备：能够使被处理基板（Ｇ）处于真空状态下，气密地构成的容器主体（５０）；设置在容器主体（５０），使被处理基板（Ｇ）出入的开口部（５１）；对开口部（５１）进行开闭的阀体（６１）；和密封板（７０），其以包围开口部（５１）的方式形成为框状，在容器主体侧表面（７１ａ）和与该容器主体侧表面（７１ａ）相对的阀体侧表面（７１ｂ）的两者上具有框状密封部件（７２ａ、７２ｂ），该密封板（７０）装卸自如地安装在开口部（５１）的周围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空装置和基板处理装置，特别涉及气密地密封真空装置的内部的密封部。
技术介绍
在以液晶显示器(LCD)为代表的平板显示器(FPD)的制造过程中，对FPD用基板 进行蚀刻或成膜等的规定处理。作为实施这样的处理的基板处理装置，已知有具备多个处 理室的多腔室类型的基板处理装置(例如，专利文献1)。 多腔室类型的基板处理装置具有搬送室，该搬送室设置有搬送FPD用基板(被处 理基板)的搬送装置，在该搬送室的周围具有处理室、交换未处理的基板和处理后的基板 的负载锁定室(基板交换室)等。这些搬送室、处理室和负载锁定室是真空装置，这些真空 装置使用排气机构进行排气，由此使内部处于规定的减压状态下。 真空装置具有气密地构成的容器主体，在该容器主体上设置有用于使被处理基板 出入的开口部。开口部使用闸阀进行开闭。当通过闸阀开闭开口部时，容器主体的内部被 气密地密封，使容器主体的内部的压力减压至规定的压力，能够在大气状态和减压状态的 相互之间进行变换。闸阀的构造例被记载在上述专利文献1中。 如专利文献1所记载的那样，闸阀具有阀体，阀体密合在容器主体的开口部周围， 由此开口部周围被密封。作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空装置，其特征在于，具备：能够使被处理基板处于真空状态下，气密地构成的容器主体；设置在所述容器主体，使所述被处理基板出入的开口部；对所述开口部进行开闭的阀体；和密封板，其以包围所述开口部的方式形成为框状，在容器主体侧表面和与该容器主体侧表面相对的阀体侧表面的两者上具有框状密封部件，该密封板装卸自如地安装在所述开口部的周围。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：锅山裕树，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]