放射性气体同位素制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种放射性气体同位素制造装置，能够谋求反应室内的压力下降，并减薄使带电粒子束透射的照射窗的厚度。该放射性气体同位素制造装置设为以下结构，即，具备：反应室（２０），具有使带电粒子束Ｂ向室内透射的照射窗（２１），并使靶气进行核反应；气体循环装置（３０），使从该反应室（２０）流出的气体流入到反应室（２０）内。因此，通过在循环中气体被冷却，可以冷却反应室（２０）内，并可谋求反应室（２０）内的压力下降。其结果，可以减薄照射窗（２１）的厚度，并抑制带电粒子束的能量损失，可以使ＲＩ气体的产量增加。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种放射性气体同位素制造装置，其特征在于，具备：反应室，具有使带电粒子束向室内透射的照射窗，接受透射该照射窗的带电粒子束的照射，并使靶气进行核反应；以及气体循环装置，使从上述反应室流出的气体流入到上述反应室内。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：川间哲雄，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]