化合物、图案化材料、半导体器件、终端和图案化方法技术

本申请提供一种有机混金属氧簇化合物，化学通式为：(M1)

【技术实现步骤摘要】
化合物、图案化材料、半导体器件、终端和图案化方法


[0001]本申请涉及一种有机混金属氧簇化合物、包括该有机混金属氧簇化合物的图案化材料、应用该图案化材料的半导体器件、终端、以及一种基底表面图案化方法。

技术介绍

[0002]随着集成电路行业的快速发展，尤其是针对单位面积内芯片计算力提高，即对应芯片的关键尺寸越来越小，离不开图案化技术的发展。图案化工艺，通常包括以下步骤:以既定的图案为模板，透过模板照射基材表面涂覆的膜层，以使膜层形成具有被照射区域和具有未被照射区域的被照射结构；以及选择性地溶解清洗被照射结构/未被照射的结构之一，所残留的材料形成的图案与模板上的图案相同，残留的图案化材料可在刻蚀步骤上具有抗刻蚀性，选择性的保护基材不被刻蚀或被缓慢刻蚀，进而形成图形向基材转移，在基材上如硅片上形成图案，该图案来自于最初选择性曝光的图案。
[0003]在先进的应用短波长(15nm以下)的射线实现图形化的过程中，由于图案化技术光源传输效率低，要求图案化材料敏感性高，通常曝光能量要在30mJ/cm2以内。当前所存在的几种图案化材料体系包括有机高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机混金属氧簇化合物，其特征在于，化学通式为：(M1)
a(
M2)
b
(M3)
c
O
g
(L1)
x
(L2)
y
(L3)
z
；其中，M1选自Ti、Zr、Hf中的至少一种，M2选自Bi、Te、Sn、Pt、Ag、Au中的至少一种，M3选自Fe、Ni、Co、Cu中的至少一种，L1、L2、L3分别选自能与金属配位且含有O、S、Se、N、P中的至少一种作为配位原子的有机配体，a、b、g、x、y、z均为≥1的自然数；c为≥0的自然数。2.根据权利要求1所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，2≤a+b+c≤60。3.根据权利要求1或2所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，g+x+y+z≤8(a+b+c)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，5≥b/(a+c)≥0.1。5.根据权利要求1至4中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，a、b、c的比值为5：9：1。6.根据权利要求5所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，M1为Ti，M2为Bi，M3为Co和Ni中的至少一种。7.根据权利要求1至6中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，L1、L2、L3中的至少一个含有功能基团，所述功能基团选自羧酸类、醇类、酚类、腈类、炔类、醇胺类、吡啶类、吡唑类、咪唑类、哌嗪类、吡嗪类中的至少一种。8.根据权利要求1至7中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，L1、L2、L3中的至少一个含有辐射敏感性官能团，所述辐射敏感性官能团包括双键、叁键、环氧丙烷中的至少一种。9.根据权利要求1至8中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，L1、L2中一个或多个共存于同一有机配体中。10.根据权利要求1至9中任一项所述的有机混金属氧簇化合物，其特征在于，所述有机混金属氧簇化合物中的至少部分金属离子被辐射敏感性元素替代；所述辐射敏感性元素包含Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Rb、Sr、Y、Ga、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、Sn、Sb、Te、Cs、Ba、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Pb、Bi、Po中的至少一种；且替代的辐射敏感性元素不同于所述有机混金属氧簇化合物原来具有的金属元素。11.一种图案化材料，其特征在于，包括有机混金属氧簇化合物，所述有机混金属氧簇化合物的化学通式为：(M1)
a(
M2)
b
(M3)
c
O
g
(L1)
x
(L2)
y
(L3)
z
；其中，M1选自Ti、Zr、Hf中的至少一种，M2选自Bi、Te、Sn、Pt、Ag、Au中的至少一种，M3选自Fe、Ni、Co、Cu中的至少一种，L1、L2、L3分别选自与金属直接配位且含有O、S、Se、N、P中的至少一种作为配位原子的有机配体，a、b、g、x、y、z均为≥1的自然数；c为≥0的自然数。
12.根据权利要求11所述的图案化材料，其特征在于，2≤a+b+c≤60，g+x+y+z≤8(a+b+c)，5≥b/(a+c)≥0.1。13.根据权利要求11或12所述的图案化材料，其特征在于，a、b、c的比值为5：9：1，M1为Ti，M2为Bi，M3为Co和Ni中的至少一种。14.根据权利要求11至13中任一项所述的图案化材料，其特征在于，L1、L2、L3中的至少一个含有功能基团，所述功能基团选自羧酸类、醇类、酚类、腈类、炔类、醇胺类、吡啶类、吡唑类、咪唑类、哌嗪类、吡嗪类中的至少一种。15.根据权利要求11至14中任一项所述的图案化材料，其特征在于，L1、L2、L3中的至少一个含有辐射敏感性官能团，所述辐射敏感性官能团包括双键、叁键、环氧丙烷中的至少一种。16.根据权利要求11至15中任一项所述的图案化材料，其特征在于，L1、L2中一个或多个共存于同一有机配体中。17.根据权利要求11至16中任一项所述的图案化材料，其特征在于，所述有机混金属氧簇化合物中的至少部分金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，仪晓凤，王迪，丁清荣，张宇，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：