溶液清洁设备制造技术

本实用新型专利技术涉及清洗技术领域，公开一种溶液清洁设备，包括溶液槽和溢流槽，其中溶液槽用于盛放溶液，待清洗的产品放置于溶液槽内进行清洗，而溢流槽设置于溶液槽内，溢流槽的槽壁上设置有多个溢流缺口，以使溶液槽内的溶液可经溢流缺口溢流至溢流槽内，而后再从溢流槽的槽底排出。溢流缺口的设置，使得溢流槽周边的液体环境形成液位差，这使得表面的液体更容易向低液位处流动，即向溢流槽内溢流，从而实现表面异物聚集于溢流槽的目的，而后再将溢流槽内的液体同异物一同从溢流槽的槽底排出，即可起到对溶液槽内的杂质进行清洁的目的。可起到对溶液槽内的杂质进行清洁的目的。可起到对溶液槽内的杂质进行清洁的目的。

【技术实现步骤摘要】
溶液清洁设备


[0001]本技术涉及清洗
，尤其涉及一种溶液清洁设备。

技术介绍

[0002]偏光片制造过程中，需要用到各类溶液对PVA膜材进行处理，而PVA膜材经过溶液处理后，会析出一些杂质污染溶液，同时处理PVA膜材的溶液有使用到硼酸，此类溶液与空气接触容易形成结晶，如果不及时处理掉，这些杂质及硼酸会附着在膜材表面带入下一个槽内，甚至嵌进膜材内而形成异物，并逐渐累积，影响产品品质，影响良率。现有专利(CN204167272U)公开一种溢流槽，其通过在槽体顶部设置吹气管道，利用吹出的高压气体将漂浮在介质上的杂质吹扫到溢流管中，以此实现对杂质的清理。但是这一结构在槽体较大的情况下需要较大的风压，一方面会导致液面波动较大，另一方面需要安装空压机并持续吹风，需要其他设备及能耗。
[0003]因此，亟需一种溶液清洁设备，以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种溶液清洁设备，能够实现对溶液上漂浮杂质的清理，同时可避免液面波动对产品生产带来的不良影响，还可减少能耗。
[0005]如上构思，本技术所采用的技术方案是：
[0006]溶液清洁设备，包括：
[0007]溶液槽，所述溶液槽用于盛放溶液；
[0008]溢流槽，所述溢流槽位于所述溶液槽内，所述溢流槽的槽壁上设置有多个溢流缺口，所述溶液槽内的溶液可经所述溢流缺口溢流至所述溢流槽内，并从所述溢流槽的槽底排出。
[0009]可选地，多个所述溢流缺口沿所述溢流槽的所述槽壁的长度方向均匀间隔设置。
[0010]可选地，所述溢流槽还包括槽体，所述槽体和所述槽壁可拆卸连接，且在竖直方向上，所述槽壁和所述槽体的相对位置可调。
[0011]可选地，所述溢流槽包括边部溢流槽，垂直所述边部溢流槽的长度方向的一侧槽壁抵接所述溶液槽。
[0012]可选地，所述溢流槽包括中部溢流槽，所述中部溢流槽的长度方向的两端分别连接所述溶液槽的侧壁。
[0013]可选地，所述溢流槽设置有多个。
[0014]可选地，所述溶液槽内还设置有进液管，所述进液管用于向所述溶液槽内补充溶液，所述进液管靠近所述溶液槽的槽底设置。
[0015]可选地，所述进液管的出口均匀设置于外周面上，溶液经所述出口流入所述溶液槽内。
[0016]可选地，所述溶液清洁设备还包括回流件，所述回流件用于连通所述溢流槽的槽
底与所述进液管的入口，所述溢流槽排出的溶液经所述回流件清洁后回流至所述溶液槽内。
[0017]可选地，所述溢流槽的槽底设置有出液口，所述出液口位于所述溢流槽的长度方向的两端，所述回流件连接于两端所述溢流槽的槽底，以支撑所述溢流槽。
[0018]本技术的有益效果为：
[0019]本技术提出的溶液清洁设备包括溶液槽和溢流槽，其中溶液槽用于盛放溶液，待清洗的产品放置于溶液槽内进行清洗，而溢流槽位于溶液槽内，溢流槽的槽壁上设置有多个溢流缺口，以使溶液槽内的溶液可经溢流缺口溢流至溢流槽内，而后再从溢流槽的槽底排出。溢流缺口的设置，使得溢流槽周边的液体环境形成液位差，这使得表面的液体更容易向低液位处流动，即向溢流槽内溢流，从而实现表面异物聚集于溢流槽的目的，而后再将溢流槽内的液体同异物一同从溢流槽的槽底排出，即可起到对溶液槽内的杂质进行清洁的目的。
附图说明
[0020]图1是本技术实施例提供的溶液清洁设备的结构示意图；
[0021]图2是本技术实施例提供的溢流槽第一视角的结构示意图；
[0022]图3是本技术实施例提供的溢流槽第二视角的结构示意图；
[0023]图4是本技术实施例提供的溢流槽第三视角的结构示意图。
[0024]图中：
[0025]1、溢流槽；11、槽壁；111、溢流缺口；12、槽体；121、出液口；
[0026]2、溶液槽；
[0027]3、回流件。
具体实施方式
[0028]为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部。
[0029]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0030]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0031]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
[0032]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0033]偏光片制造的核心工序即是PVA(聚乙烯醇)延伸复合工序，整个生产过程是PVA先进行碘染色，再延伸后与双层TAC(三醋酸纤维素)膜进行复合，最后干燥收卷。因为工艺的需求，PVA延伸工序涉及到澎润、染色、洗净、延伸等工序，需要用到各类溶液对PVA膜材进行处理，以得到带偏振作用的偏光素子，最后再与TAC膜等材料贴合，形成偏光片基膜。而PVA膜材在经过溶液处理后，会析出一些杂质污染溶液，同时处理PVA膜材的溶液有使用到硼酸，此类溶液与空气接触容易形成结晶，如果不及时处理掉，这些杂质及硼酸会附着在膜材表面被带入下一个槽中，甚至嵌进膜材形成异物，并逐渐累积，影响产品品质。本实施例提供的溶液清洁设备，即可对上述处理过PVA膜材的溶液表面的异物进行清理，且这一清理过程得益于溶液在使用过程中的流动，而无须再借助外部设备，不仅可避免液面波动对产品生产带来的不良影响，还可减少能耗。
[0034]如图1至图4所示，该溶液清洁设备包括溶液槽2和溢流槽1，其中溶液槽2用于盛放溶液，待清洗的产品放置于溶液槽2内进行清洗，而溢流槽1设置于溶液槽2内，溢流槽1的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.溶液清洁设备，其特征在于，包括：溶液槽(2)，所述溶液槽(2)用于盛放溶液；溢流槽(1)，所述溢流槽(1)位于所述溶液槽(2)内，所述溢流槽(1)的槽壁(11)上设置有多个溢流缺口(111)，所述溶液槽(2)内的溶液可经所述溢流缺口(111)溢流至所述溢流槽(1)内，并从所述溢流槽(1)的槽底排出。2.根据权利要求1所述的溶液清洁设备，其特征在于，多个所述溢流缺口(111)沿所述溢流槽(1)的所述槽壁(11)的长度方向均匀间隔设置。3.根据权利要求1所述的溶液清洁设备，其特征在于，所述溢流槽(1)还包括槽体(12)，所述槽体(12)和所述槽壁(11)可拆卸连接，且在竖直方向上，所述槽壁(11)和所述槽体(12)的相对位置可调。4.根据权利要求1所述的溶液清洁设备，其特征在于，所述溢流槽(1)包括边部溢流槽，垂直所述边部溢流槽的长度方向的一侧槽壁(11)抵接所述溶液槽(2)。5.根据权利要求1所述的溶液清洁设备，其特征在于，所述溢流槽(1)包括中部溢流槽，所述中部溢流槽的长...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏海燕，陈恒，曹水，何铁柱，曹昌龙，
申请(专利权)人：深圳市三利谱光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：