一种荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石的光学pH传感器及其制备方法技术

技术编号:3747822 阅读:190 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了属于光学pH传感器制备技术领域的一种荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石的光学pH传感器及其制备方法。该传感器由导电材料和表面镀覆的荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石薄膜组成。其制备方法:首先制备水滑石前体胶体溶液,然后进行离子交换得到荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石胶体溶液,最后采用电泳沉积法在导电基底镀覆成膜。本发明专利技术的优点在于:水滑石为发光分子提供了一种稳定、限域的环境,电泳沉积方法使膜的厚度在纳米到微米级可控,得到的高取向薄膜使传感器具有良好的pH响应。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学pH传感器制备
,特别涉及一种荧光素和庚烷磺酸钠共 插层水滑石的光学PH传感器及其制备方法。
技术介绍
光学传感器由于其在水运业,血液测试,毒物分析及生物
的广泛应用,目 前已受到广大研究者的关注。而荧光指示团的固定是光学pH传感器获得稳定寿命和信号 至关重要的因素。大多数光学PH指示团被固定在一种适合的,质子可渗透的溶胶凝胶聚合 基质中。然而,聚合物本身所具有的相对高热、光不稳定性,毒性等限制了这种材料在实际 中的应用。因此,寻找一种稳定性高、生物相容性好的基质是非常重要的。 目前,由于发光分子与无机材料结合的复合发光材料具有更优异于两者的性能, 已有相当的研究集中于此复合材料。其中无机层状的阴离子材料-水滑石是一种二维层状 材料,由于其具有多因素可调变性,高光、热稳定性及好的生物相容性得到了广泛的应用。 发光分子插入到水滑石层间显示了独特的优异性能(l)水滑石为发光分子提供了一个限 域、稳定的环境,这是制备固态染料器件的必要条件;(2)发光分子与水滑石的相互作用, 如静电吸引、氢键等,避免了发光分子之间的相互作用而产生的聚集,从而降低了发光分子 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石的光学pH传感器,其特征在于,该传感器由导电材料和表面镀覆的荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石薄膜组成,其中荧光素和庚烷磺酸钠共插层水滑石的分子式为:(M↓[1])↓[x](M↓[2])↓[1-x](FLU)↓[y](HES)↓[z](OH)↓[2].mH↓[2]O,x=0.5-0.8,10↑[-5]≤y/z≤10↑[-2],m=0.3-1.5为层间结晶水分子数;HES为庚烷磺酸钠,FLU为荧光素。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:卫敏史文颖陆军段雪
申请(专利权)人:北京化工大学
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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