一种样本分析仪和清洗方法技术

技术编号:37475911 阅读:30 留言:0更新日期:2023-05-07 09:17
本发明专利技术提供了一种样本分析仪和清洗方法,其中,样本分析仪的控制装置,用于按如下方式控制样本分析仪的反应装置、试剂供应装置和采样装置:控制试剂供应装置向反应装置供应试剂;控制反应装置排空试剂供应装置供应的试剂;控制试剂供应装置向反应装置再次供应试剂;控制采样装置向所述反应装置输送样本。能够在反应装置制备样本前,通过试剂供应装置向反应装置供应试剂,以利用试剂供应装置供应的试剂携带走反应装置中的残留液,并且也排出了可能被残留液扩散污染的试剂,从而可以避免反应装置中的残留液影响试样的测量结果,提高了测量结果的准确性。测量结果的准确性。测量结果的准确性。

【技术实现步骤摘要】
一种样本分析仪和清洗方法


[0001]本专利技术涉及样本处理
,特别涉及一种样本分析仪和清洗方法。

技术介绍

[0002]样本分析仪通常用于制备试样以对试样进行测量。然而,样本分析仪的反应装置在制备样本时,容易受到反应装置中的残留液影响,例如受到残留的清洗液影响,导致试样的测量结果不准确。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种样本分析仪和清洗方法,能够提高试样的测量结果的准确性。具体方案如下:
[0004]根据本专利技术实施例的第一方面,提供一种样本分析仪,包括:
[0005]采样装置、试剂供应装置、反应装置、试样输送装置、测量装置和控制装置;
[0006]所述采样装置,用于采集样本,并将采集到的样本输送到所述反应装置;
[0007]所述试剂供应装置,用于向所述反应装置供应试剂;
[0008]所述反应装置,用于接收所述试剂供应装置供应的试剂以及所述采样装置输送的样本以制备待测试试样;
[0009]所述试样输送装置,用于将所述待测试试样输送到所述测量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种样本分析仪,其特征在于,包括:采样装置、试剂供应装置、反应装置、试样输送装置、测量装置和控制装置;所述采样装置,用于采集样本,并将采集到的样本输送到所述反应装置;所述试剂供应装置,用于向所述反应装置供应试剂;所述反应装置,用于接收所述试剂供应装置供应的试剂以及所述采样装置输送的样本以制备待测试试样;所述试样输送装置,用于将所述待测试试样输送到所述测量装置;所述测量装置,用于对所述试样输送装置输送的待测试试样进行特定项目的测量,获得所述待测试试样的特定项目的测量结果;所述控制装置,用于按如下方式控制所述反应装置、所述试剂供应装置和所述采样装置:控制所述试剂供应装置向所述反应装置供应试剂;控制所述反应装置排空所述试剂供应装置供应的试剂;控制所述试剂供应装置向所述反应装置再次供应试剂;控制所述采样装置向所述反应装置输送样本。2.根据权利要求1所述的样本分析仪,其特征在于,所述控制装置,用于在控制所述试剂供应装置向所述反应装置供应试剂之前,控制所述反应装置执行排空动作以排出所述反应装置中的液体。3.根据权利要求1所述的样本分析仪,其特征在于,所述试剂供应装置包括第一试剂供应部件和第二试剂供应部件;所述控制装置,用于按如下方式控制所述反应装置、所述第一试剂供应部件和所述第二试剂供应部件:控制所述第一试剂供应部件向所述反应装置供应预设的第一液量的第一试剂、控制所述第二试剂供应部件向所述反应装置供应预设的第二液量的第二试剂;控制所述反应装置排空所述第一试剂供应部件供应的第一试剂和所述第二试剂供应部件供应的第二试剂。4.根据权利要求3所述的样本分析仪,其特征在于,所述控制装置,用于在所述反应装置排空所述第一试剂和所述第二试剂后,按如下方式控制所述第一试剂供应部件、所述第二试剂供应部件和所述采样装置:控制所述第一试剂供应部件向所述反应装置供应预设的第三液量的第一试剂、控制所述第二试剂供应部件向所述反应装置供应预设的第四液量的第二试剂;控制所述采样装置向所述反应装置供应样本;控制所述第二试剂供应部件向所述反应装置供应预设的第五液量的第二试剂,以由所述反应装置制备出待测试试样。5.根据权利要求3所述的样本分析仪,其特征在于,所述控制装置,用于在所述反应装置排空所述第一试剂和所述第二试剂后,按如下方式...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱春阳石汇林
申请(专利权)人:深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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