保持装置、包括该装置的吸收物品和用于制造该装置的方法制造方法及图纸

技术编号:37473756 阅读:11 留言:0更新日期:2023-05-06 09:58
公开了一种保持装置,包括:基座(51),沿着纵向方向延伸;以及多个保持元件(50、50A),从所述基座的上表面延伸,每个保持元件具有根据第一几何尺寸的值。所述保持装置具有至少两个保持区(RA、RB、RC)和设置在这两个保持区之间并连接这两个保持区的中间区(RJ,RJ'),设置在第一保持区和第二保持区中的保持元件(50)具有根据第一几何尺寸(h)的值,所述值大于设置在所述中间区中的所述保持元件(50A)的根据第一几何尺寸的值。一几何尺寸的值。一几何尺寸的值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】保持装置、包括该装置的吸收物品和用于制造该装置的方法


[0001]本公开涉及保持系统(retainer system,保持器系统)的领域,具体地涉及闭合或防滑系统。本公开更具体地涉及具有保持元件(retainer element,保持器元件)的保持系统,具体地涉及钩

环保持系统,其保持元件可被保持在环等中。
[0002]本公开还涉及相关制造方法和设备的领域。
[0003]本公开还涉及婴儿尿布或成人失禁尿布类型的吸收物品的领域,所述吸收物品包括用于尿布的钩

环保持系统。

技术介绍

[0004]包括由基座承载的保持元件的保持系统是公知的,并且用在许多应用领域中,实际上导致要生产多种形式的保持元件,特别是钩,旨在相互配合或与诸如环的互补元件配合。
[0005]这种产品反复出现的问题涉及所施加的保持力,特别是在考虑相关保持元件的尺寸的极大减小和制造约束的情况下。
[0006]实际上,生产具有高强度的钩自然导致尺寸过大,这会影响系统的柔软度并因此影响使用者的体验,这在一些领域中、特别是在卫生领域中是极为不利的,并且还导致材料消耗增加,这在成本方面是不利的,并且在制造方面也是不利的,由于生产大块头的部件(bulky part,笨重部件)导致材料冷却时间增加,实际上增加了生产线占用时间。
[0007]文献WO2017187097公开了一种保持装置,其包括由基座承载并具有特定尺寸和几何特性的保持元件。
[0008]因此,本公开旨在通过进一步改进已知的装置来解决这些各种问题。

技术实现思路

[0009]根据第一方面,本公开涉及一种保持装置(retainer device,保持器装置),包括:
[0010]‑
基座,沿纵向方向延伸并且具有上表面和下表面,
[0011]‑
多个保持元件,从基座的上表面延伸,每个保持元件具有根据第一几何尺寸的值,
[0012]保持装置具有至少两个保持区(retainer zone,保持器区)和设置在这两个保持区之间并连接这两个保持区的中间区,设置在第一保持区与第二保持区中的保持元件具有根据第一几何尺寸的值,该值大于设置在中间区中的保持元件的根据第一几何尺寸的值。
[0013]任选地,保持区和中间区在共同带中形成带形式的长形区,长形区和共同带任选地沿着纵向方向伸长。
[0014]任选地,中间区具有至少一个部分,在该至少一个部分中基座的厚度小于基座在保持区中的厚度。
[0015]任选地,在中间区中,基座具有熔接线。
[0016]任选地,在中间区中,基座具有空隙。
[0017]任选地,在中间区中,基座的材料状态不同于其在保持区中所具有的材料状态。
[0018]任选地,在保持区中,保持元件具有基本上恒定的根据第一几何尺寸的值。
[0019]任选地,沿从第一保持区到第二保持区的方向考虑,中间区连续地具有根据第一几何尺寸的值减小的保持元件,随后是根据第一几何尺寸的值增加的保持元件。
[0020]任选地,根据第一几何尺寸的值是根据垂直于基座的剖视图(特别是垂直于基座且平行于横向方向的剖视图)来测量的。
[0021]任选地,根据第一几何尺寸的值是根据平行于基座且与保持元件相距一定距离的视图来测量的。
[0022]任选地,穿过至少一个保持元件并且沿着从第一保持区到第二保持区的方向延伸同时穿过所述第一保持区和第二保持区的任何直线与每个第一保持区和第二保持区中的至少3个保持元件(特别是至少5个保持元件)相交。
[0023]任选地,穿过至少一个保持元件并且沿着从第一保持区到第二保持区的方向延伸同时穿过所述第一保持区和第二保持区的任何直线与中间区中的至少1个保持元件(特别是至少2个保持元件)相交。可以规定,对于以上限定类型的任何直线,在每个第一保持区和第二保持区中与多达70个保持元件(甚至100个保持元件)相交,并且任选地在中间区中与多达10个保持元件(或者甚至多达30个保持元件)相交。
[0024]任选地,第一几何尺寸是保持元件的高度,对于每个保持元件,该高度是在保持元件的与基座连接的下端和保持元件的与该下端相对的上端之间测量的。
[0025]任选地,至少在保持区中,保持元件均由杆形成,杆上覆盖有从杆突出的头部,中间区的保持元件的至少一部分可任选地没有头部。
[0026]任选地,至少在保持区中,保持元件以规则和重复的图案分布。
[0027]任选地,保持元件均匀地分布,例如,以行或列的形式或以交错的方式分布。
[0028]任选地,装置还包括承载基座的基板,所述基板任选地包括非织造材料层。
[0029]任选地,由基座和保持元件形成的组件具有10至120g/m2(克每平方米)、特别地30至80g/m2、在某些情况下30至70g/m2、更特别地50至70g/m2的基重(basis weight,基本重量)。当装置包括基板时,这些基重值特别地针对包括基座和保持元件而没有基板的组件进行验证。
[0030]特别地,基座和保持元件存在于保持区中和中间区中。
[0031]特别地,中间区连接两个连续的保持区,在中间区分别与这两个保持区的每个之间没有空间。
[0032]特别地,第一几何尺寸是沿着给定方向的尺寸。如上所述,其例如是保持元件的高度。然而,其可以是除了高度之外的尺寸,例如,平行于基座的平面测量的保持元件的横向尺寸。当保持元件至少在一些部分中具有回转对称性时,第一几何尺寸可以是这些部分的直径尺寸。当然,这些尺寸可以组合。因此,除了第一几何尺寸之外,保持元件可以具有第二几何尺寸,对于该第二几何尺寸,经验证,设置在第一保持区和第二保持区中的保持元件具有根据第二几何尺寸的值,该值大于设置在中间区中的保持元件的根据第二几何尺寸的值。
[0033]中间区中的保持元件具有的几何特性相对于保持区的保持元件的相同特性劣化,以使得至少对于第一几何尺寸,中间区的保持元件具有比保持区的保持元件低的值。
[0034]然而,在某种程度上,中间区的保持元件可以有助于保持力。它们允许在由保持区构成的大区(large zone)上具有完全有效的保持元件,而在这些完全有效的区之间没有中断,然而,由于它们的第一几何尺寸的减小的值,该保持区的保持元件呈现比保持区的保持元件的质量更小的质量,这允许生产具有低基重的有效保持装置。
[0035]保持装置在(一个或多个)中间区中相对于保持区具有增加的柔性。因此对于相同数量的保持元件,与其中所有保持元件都不劣化的装置(也就是说,它们都类似于两个保持区)相比,该装置不仅更轻而且柔性更高。这种增加的柔性例如通过允许该装置更好地跟随穿戴配备有这种保持装置的物品的人的移动而提高了保持的质量。
[0036]特别地,在每个保持区中,保持元件的第一几何尺寸的值相对于最大值在确定的范围内变化,例如包括在最大值的80%与100%之间,甚至在最大值的85%与100本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种保持装置,包括:

基座(51),沿着纵向方向(MD)延伸并且具有上表面(511)和下表面(512),

多个保持元件(50、50A),从所述基座的上表面延伸,每个保持元件具有根据第一几何尺寸的值,其特征在于:所述保持装置具有至少两个保持区(RA、RB、RC)和设置在两个保持区之间并连接这两个保持区的中间区(RJ,RJ'),设置在第一保持区和第二保持区中的保持元件(50)具有根据第一几何尺寸(h)的值,所述值大于设置在所述中间区中的所述保持元件(50A)的根据第一几何尺寸的值。2.根据权利要求1所述的保持装置,其中,所述保持区(RA、RB、RC)和所述中间区(RJ、RJ')在共同带(R)中形成带形式的长形区,所述长形区和所述共同带任选地沿着所述纵向方向(MD)伸长。3.根据权利要求1或2所述的保持装置,其中,所述中间区(RJ、RJ')具有至少一个部分,在所述至少一个部分中所述基座(51)具有的厚度小于所述基座在所述保持区(RA、RB、RC)中的厚度(eb)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的保持装置,其中,在所述中间区(RJ、RJ')中,所述基座(51)具有空隙(50B)。5.根据权利要求1至4中任一项所述的保持装置,其中,在所述保持区(RA、RB、RC)中,所述保持元件(51)具有基本上恒定的根据第一几何尺寸(h)的值。6.根据权利要求1至5中任一项所述的保持装置,其中,沿从所述第一保持区(RA)到所述第二保持区(RB)的方向考虑,所述中间区(RJ)连续地具有根据第一几何尺寸的值减小的保持元件(50A),随后是根据第一几何尺寸的值增加的保持元件。7.根据权利要求1至6中任一项所述的保持装置,其中,穿过至少一个保持元件(50、50A)并且沿着从所述第一保持区(RA)到所述第二保持区(RB)的方向延伸同时穿过所述第一保持区和所述第二保持区的任何直线与每个所述第一保持区和第二保持区中的至少3个保持元件、特别是至少5个保持元件相交,并且任选地,与所述中间区中的至少1个保持元件、特别是至少2个保持元件相交。8.根据权利要求1至7中任一项所述的保持装置,其中,所述第一几何尺寸是所述保持元件(50、50A)的高度,对于每个保持元件,所述高度是在所述保持元件的与所述基座(51)连接的下端和所述保持元件的与所述下端相对的上端之间测量的。9.根据权利要求1至8中任一项所述的保持装置,其中,至少在所述保持区(RA、RB、RC)中,每个所述保持元件(50)均由杆(52)形成,所述杆覆盖有从所述杆突出的头部(53),所述中间区...

【专利技术属性】
技术研发人员:L
申请(专利权)人:埃普利克斯公司
类型:发明
国别省市:

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