具有改善性质的无摩擦锻造铝合金溅射靶制造技术

本申请涉及具有改善性质的无摩擦锻造铝合金溅射靶。本发明专利技术涉及包含平均晶粒尺寸为约15至55微米的锻造铝材料的溅射靶。所述铝材料具有以下性质的至少一种：具有带化因子B测定值低于约0.01的最小织构带化的均匀织构；低于0.2的织构梯度H；或以在多个方向反极图的最大强度小于3倍随机性为特征的弱(200)织构或接近随机的织构。近随机的织构。近随机的织构。

【技术实现步骤摘要】
具有改善性质的无摩擦锻造铝合金溅射靶
[0001]本申请是申请日为2016年7月26日、申请号为201680057450.1、名称为
″
具有改善性质的无摩擦锻造铝合金溅射靶
″
的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本公开涉及溅射靶、形成溅射靶的方法和形成具有均匀微观结构的溅射靶的方法。更具体地，本公开涉及具有精细(fine)均匀的微观结构和织构的铝制品和制备其的方法。

技术介绍

[0003]通过标准铸造然后是显著(significant)轧制来加工当前可获得的铝和铝合金溅射靶，然后将该靶结合至背衬板。与制造溅射靶相关联的潜在挑战包括铸造缺陷，例如不能通过轧制破坏(broken down)的羽状纹理(feather grains)、包含物、孔隙、靶表面上的光亮点和不均匀冶金术。进一步的实例包括遍布铸造坯料和靶与靶之间的不一致晶粒尺寸以及贯穿靶厚度的不均匀织构。不均匀织构可能导致形成具有不同织构和溅射性质的晶粒尺寸的局部带，这个现象称为织构带化(texture banding)。
[0004本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶，其包括：平均晶粒尺寸为15至55微米的锻造铝或铝合金材料，所述铝或铝合金材料具有以下性质：具有带化因子B测定值低于0.005的最小织构带化的均匀织构；低于0.2的织构梯度H；和以在多个方向反极图的最大强度小于3倍随机性为特征的弱(200)织构。2.权利要求1所述的溅射靶，其中所述铝或铝合金材料沿平行于靶顶面的平面和垂直于该顶面的厚度平面在多个方向具有弱(200)织构。3.权利要求1或2所述的溅射靶，其中所述铝或铝合金材料具有低于3.5倍随机性的最大极图强度。4.权利要求1所述的溅射靶，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：S菲拉斯，S孙达拉，FC阿尔福德，JJ谢菲尔，SD斯特罗瑟斯，
申请(专利权)人：霍尼韦尔国际公司，
类型：发明
国别省市：