真空压供给系统技术方案

真空压供给系统(10)具有：第一真空压供给通路(12)，其用于向使用真空压来保持物体(26)的保持部(18)供给来自真空源(16)的所述真空压；罐(20)，其储存真空压；第二真空压供给通路(14)，其从所述第一真空压供给通路的中途分支而与所述罐连接；以及第一电磁阀(24b)，其设置于所述第二真空压供给通路上。于所述第二真空压供给通路上。于所述第二真空压供给通路上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空压供给系统


[0001]本专利技术涉及真空压供给系统。

技术介绍

[0002]在日本特开2014
‑
50940号公报中公开了通过吸附工件来保持工件的机械手。机械手具有吸气孔以及与该吸气孔连通的真空路径。通过经由真空路径供给至吸气孔的真空压来吸附工件，由此保持工件。

技术实现思路

[0003]但是，在日本特开2014
‑
50940号公报所记载的机械手中，若来自真空泵的真空压的供给中断，则工件从机械手落下。结果，可能导致工件的损伤。
[0004]本专利技术的目的在于提供一种能够使用真空压稳定地保持物体的真空压供给系统。
[0005]一方式的真空压供给系统具有：第一真空压供给通路，其用于向使用真空压来保持物体的保持部供给来自真空源的所述真空压；罐，其储存真空压；第二真空压供给通路，其从所述第一真空压供给通路的中途分支而与所述罐连接；以及第一电磁阀，其设置于所述第二真空压供给通路上。
[0006]根据本专利技术，能够提供一种能够使用真空压稳定地保持物体的真空压供给系统。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空压供给系统(10)，其特征在于，具有：第一真空压供给通路(12)，其用于向使用真空压保持物体(26)的保持部(18)供给来自真空源(16)的所述真空压；罐(20)，其储存真空压；第二真空压供给通路(14)，其从所述第一真空压供给通路的中途分支而与所述罐连接；以及第一电磁阀(24b)，其设置于所述第二真空压供给通路上。2.根据权利要求1所述的真空压供给系统，其特征在于，所述真空压供给系统具有：第二电磁阀(24c)，其设置于所述第二真空压供给通路的分支点(B)与所述保持部之间的所述第一真空压供给通路上；以及填充控制部(36)，其预先打开所述第二电磁阀，在向所述罐填充所述真空压的情况下进行关闭所述第二电磁阀的控制，并且进行打开所述第一电磁阀的控制。3.根据权利要求1或2所述的真空压供给系统，其特征在于，所述真空压供给系统具有：压力传感器(22a)，其设置于所述第一真空压供给通路上，检测所述真空压的大小；以及预备真空压控制部(36)，其预先关闭所述第一电磁阀，在由所述压力传感器检测出的所述真空压的大小为正常范围外的情况下，进行打开所述第一电磁阀的控制。4.根据权利要求3所述的真空压供给系统，其特征在于，所述压力传感器设置在所述第二真空压供给通路的分支点与所述保持部之间的所述第一真空压供给通路上。5.根据权利要求4所述的真空压供给系统，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村牧人，室田真弘，
申请(专利权)人：发那科株式会社，
类型：发明
国别省市：