一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法技术

技术编号:37457721 阅读:15 留言:0更新日期:2023-05-06 09:30
本发明专利技术公开了一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,包括以下步骤:S1:选择紧凑型玉米品种;S2:依据光辐射,确定玉米最优种植密度;S3:玉米进行宽窄行种植;S4:按照玉米超高产进行种植和管理,本发明专利技术适用于玉米栽培技术领域,定量化玉米栽培密度与光辐射和产量的关系,具有定量化、高效性等优点,可操作性强,突破了由于农民测试条件不具备造成无法精准种植等问题,解决了超高产栽培农民种植玉米密度和播种量过多的盲目性。明确了超高产玉米株型特点,可为玉米育种方向提供支持,改善了透光率、提高了光能利用率和作物产量。例如春玉米穗位层透光率比常规高22%,光能利用率比常规高30.5%,产量提高了38%。产量提高了38%。产量提高了38%。

【技术实现步骤摘要】
一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法


[0001]本专利技术属于玉米栽培
,具体是一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法。

技术介绍

[0002]玉米作为三大粮食作物中产量水平最高的作物,在保障粮食安全中占有重要对位,但当前玉米产量水平仍然较低,如何提高其产量水平依然是今后研究的重点问题。太阳辐射与作物产量密切相关,增加密度是提高玉米产量水平的重要途径,我国不同区域辐射资源存在很大差异,如何匹配种植密度和辐射资源并选择合适的品种,进而优化资源利用效率,对超高产栽培具有重要意义。
[0003]中国专利技术专利CN105766283A、CN103518504A等公开了玉米高产的栽培方法,但上述专利主要是针对玉米超高产栽培方法,例如超高产栽培整地、施肥、播种、苗期管理以及中后期管理技术,而不能根据玉米的株型、种植密度等确定超高产栽培光辐射高效利用,从而达到超高产的目的。如何高效地利用光资源是提高玉米产量的重要保障。
[0004]目前,本领域对上述问题并未提供系统化的解决方案,未能将光辐射资源与玉米株型、种植密度进行综合考虑,导致玉米产量提升潜能缺少理论和技术依据,因此,亟需一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法。
[0006]为实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:
[0007]一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,包括以下步骤:
[0008]S1:选择紧凑型玉米品种;
[0009]S2:依据光辐射,确定玉米最优种植密度;
[0010]S3:玉米进行宽窄行种植;
[0011]S4:按照玉米超高产进行种植和管理。
[0012]优选的,所述玉米为夏玉米或春玉米。
[0013]优选的,所述步骤S2中,玉米超高产的光辐射和密度的关系为:
[0014]y=0.09895x

32.49其中,x为玉米生育期内累积光辐射,y为最优种植密度。
[0015]优选的,所述步骤S3中,玉米进行宽窄行种植,宽行0.7m,窄行0.4m。
[0016]优选的,所述玉米叶片为紧凑型,玉米株高312

325cm,最大单株叶面积6267

6724cm2,玉米穗位与株高比例为34.7

36.1%。
[0017]优选的,所述穗下位玉米叶片角度为30.5
°
~32.4
°
,穗上位玉米叶片角度为15
°
~17.6
°

[0018]优选的,所述穗下位叶面积空间密度为0.05

0.06cm2/cm3,穗上位叶面积空间密度
为0.13

0.16cm2/cm3。
[0019]优选的,所述步骤S4中,玉米超高产进行种植和管理的特征为:
[0020]田间使用滴灌水肥一体化方式进行灌水施肥,播种后第一天进行第一次灌溉,灌溉量为15mm,60天后每隔9

10天进行充足灌溉,灌溉量为每次58mm,生长季总灌溉量为540mm;
[0021]播种前,基肥施用150kg N/公顷,225kg P2O5/公顷,75kg K2O/公顷,生长季通过滴灌方式追施300kg N/公顷。
[0022]综上所述,由于采用了上述技术方案,本专利技术的有益效果是:
[0023]本专利技术中,定量化玉米栽培密度与光辐射和产量的关系,具有定量化、高效性等优点,可操作性强,突破了玉米种植由于农民测试条件不具备造成无法精准种植等问题,解决了超高产栽培农民种植玉米密度和播种量过多的的盲目性。
[0024]本专利技术中,明确了超高产玉米株型特点,可为玉米育种方向提供支持,改善了透光率、提高了光能利用率和作物产量。例如春玉米穗位层透光率比常规高22%,光能利用率比常规高30.5%,产量提高了38%。
附图说明
[0025]图1是本专利技术的流程图;
[0026]图2是本专利技术超高产和普通品种形态特征指标图。
具体实施方式
[0027]以下结合附图1

2,进一步说明本专利技术一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法的具体实施方式。本专利技术一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法不限于以下实施例的描述。
[0028]实施例1:
[0029]本实施例给出一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法的具体实施方式,如图1所示,包括以下步骤:
[0030]S1:选择紧凑型玉米品种;
[0031]S2:依据光辐射,确定玉米最优种植密度;
[0032]S3:玉米进行宽窄行种植;
[0033]S4:按照玉米超高产进行种植和管理。
[0034]进一步的,玉米为夏玉米或春玉米。
[0035]进一步的,步骤S2中,玉米超高产的光辐射和密度的关系为:
[0036]y=0.09895x

32.49其中,x为玉米生育期内累积光辐射,y为最优种植密度。
[0037]进一步的,步骤S3中,玉米进行宽窄行种植,宽行0.7m,窄行0.4m。
[0038]进一步的,玉米叶片为紧凑型,玉米株高312cm,最大单株叶面积6267cm2,玉米穗位与株高比例为34.7%。
[0039]进一步的,穗下位玉米叶片角度为30.5
°
,穗上位玉米叶片角度为15
°

[0040]进一步的,穗下位叶面积空间密度为0.05cm2/cm3,穗上位叶面积空间密度为0.13cm2/cm3。
[0041]进一步的,步骤S4中,玉米超高产进行种植和管理的特征为:
[0042]田间使用滴灌水肥一体化方式进行灌水施肥,播种后第一天进行第一次灌溉,灌溉量为15mm,60天后每隔9

10天进行充足灌溉,灌溉量为每次58mm,生长季总灌溉量为540mm;
[0043]播种前,基肥施用150kg N/公顷,225kg P2O5/公顷,75kg K2O/公顷,生长季通过滴灌方式追施300kg N/公顷。
[0044]实施例2:
[0045]本实施例给出一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法的具体实施方式,如图1所示,其他步骤与实施例1相似,进一步的,玉米叶片为紧凑型,玉米株高321cm,最大单株叶面积6481cm2,玉米穗位与株高比例为35.7%。
[0046]进一步的,穗下位玉米叶片角度为31.5
°
,穗上位玉米叶片角度为16.6
°

[0047]进一步的,穗下位叶面积空间密度为0.055cm2/cm3,穗上位叶面积空间密度为0.15cm2/cm3。
[0048]实施例3:
[本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:选择紧凑型玉米品种;S2:依据光辐射,确定玉米最优种植密度;S3:玉米进行宽窄行种植;S4:按照玉米超高产进行种植和管理。2.如权利要求1所述的一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,其特征在于:所述玉米为夏玉米或春玉米。3.如权利要求1所述的一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,其特征在于:所述步骤S2中,玉米超高产的光辐射和密度的关系为:y=0.09895x

32.49其中,x为玉米生育期内累积光辐射,y为最优种植密度。4.如权利要求1所述的一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,其特征在于:所述步骤S3中,玉米进行宽窄行种植,宽行0.7m,窄行0.4m。5.如权利要求1所述的一种光辐射资源优化匹配的玉米超高产栽培方法,其特征在于:所述玉米叶片为紧凑型,玉米株高312

325cm,最大单株叶面积6267

6724cm2,玉米穗位与株高比例为34.7

36.1%。6.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯鹏刘广周杨云山李少昆
申请(专利权)人:中国农业科学院作物科学研究所
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1