【技术实现步骤摘要】
水墨特效渲染方法、装置、存储介质与电子设备
[0001]本公开涉及图像处理
,尤其涉及一种水墨特效渲染方法、水墨特效渲染装置、计算机可读存储介质与电子设备。
技术介绍
[0002]特效渲染可以丰富图像的呈现效果。在众多的渲染特效中,水墨特效,可以表现出似像非像的物象特征,进而使人产生丰富的遐想。
[0003]相关技术中,在制作水墨特效时,通常使用高端流体软件中的流体动力学和粒子系统来实现水墨特效,例如C4D,Houdini等软件。但是采用这些高端流体软件制作水墨特效时,需要进行复杂的流体解算,制作难度较大,导致水墨特效的制作效率较低。
[0004]需要说明的是,在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
[0005]本公开提供了一种水墨特效渲染方法、水墨特效渲染装置、计算机可读存储介质与电子设备,进而至少在一定程度上克服相关技术中水墨特效制作效率较低的问题。
[0006]本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本公开的实践而习得。
[0007]根据本公开的第一方面,提供一种水墨特效渲染方法,所述方法包括:在第一固态层上添加目标素材,得到素材图层;将噪波纹理映射至所述素材图层上,得到晕染素材图层;基于所述晕染素材图层,生成晕染边缘强化图层;基于所述晕染边缘强化图层和所述晕染素材图层,合成所述目标素材对应的水墨晕染效果图。
[0008]根据本公开 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种水墨特效渲染方法,其特征在于,所述方法包括:在第一固态层上添加目标素材,得到素材图层;将噪波纹理映射至所述素材图层上,得到晕染素材图层;基于所述晕染素材图层,生成晕染边缘强化图层;基于所述晕染边缘强化图层和所述晕染素材图层,合成所述目标素材对应的水墨晕染效果图。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将噪波纹理映射至所述素材图层上,得到晕染素材图层,包括:在第二固态层上制作噪波纹理图,并将所述噪波纹理图对应的噪波纹理映射至所述素材图层上,得到晕染素材图层。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将噪波纹理映射至所述素材图层上,得到晕染素材图层,包括:基于预设模糊半径,确定所述素材图层对应的晕染范围;将噪波纹理映射至所述素材图层对应的晕染范围中,得到晕染素材图层。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述晕染素材图层,生成晕染边缘强化图层,包括:将所述晕染素材图层进行复制,得到晕染复制图层;基于所述晕染复制图层,生成晕染边缘强化图层。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述晕染复制图层,生成晕染边缘强化图层,包括:在所述晕染复制图层下添加白色图层,得到白色背景的晕染复制图层;在所述白色背景的晕染复制图层上采用相乘模式添加第三固态层,并进行晕染边缘查找,得到晕染边缘图层;将所述晕染边缘图层对应的颜色通道进行调整,以使所述晕染边缘图层的背景为黑色,所述晕染边缘图层中的晕染纹理为白色;去除所述晕染边缘图层中的黑色背景,并将所述晕染边缘图层中的晕染纹理调整为黑色,以得到晕染边缘强化图层。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述晕染边缘强化图层和所述晕染素材图层,合成所述目标素材对应的水墨晕染效果图,包括:将所述晕染边缘强化图层采用相乘模式与所述晕染素材图层进行叠加,得到晕染图层;对所述晕染图层的晕染纹理进行调整,得到所述目标素材对应的水墨晕染效果图。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述对所述晕染图层的晕染纹理进行调整,得到所述目标素材对应的水墨晕染效果图,包括:获取细节纹理图,所述细节纹理图为黑白色;基于所述细节纹理图对应的图案纹理,生成第一待处理细节纹理图层和第二待处理细节纹理图层,所述第一待处理细节纹理图层和所述第二待处理细节纹理图层的黑白通道相反;将所述第一待处理细节纹理图层中的白色部分以及所述第二待处理细节纹理图层中
的白色部分分别扣掉,得到第一细节纹理图层和第二细节纹理图层;基于所述第一细节纹理图层、所述第二细节纹理图层和所述晕染图层,合成所述目标素材对应的水墨晕染效果图。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述基于所述细节纹理图对应的图案纹理,生成第一待处理细节纹理图层和第二待处...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶柏岑,
申请(专利权)人:网易杭州网络有限公司,
类型:发明
国别省市:
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