【技术实现步骤摘要】
一种柔性材料的纳米通道及其母模的制备方法
[0001]本专利技术涉及纳米流体器件领域,特别涉及一种柔性材料的纳米通道及其母模的制备方法。
技术介绍
[0002]纳流控是研究流体在纳米孔或者纳米通道中运动机制及应用的新兴领域。纳流控与传统的微流控相比,基于纳米孔和纳米通道的微小尺寸,这些特点使得器件出现一些只有在纳米尺度才出现的传输特性,例如大的表面积和体积比导致毛细现象的出现和扩散限制反应以及纳米通道中的表面电荷和离子强烈地相互作用使得双电荷层发生重叠,出现表面电荷主导纳米通道中的离子传输。基于这些纳米通道独有的特性,纳流控在生物、能源,海水提纯等领域展现巨大的应用前景。
[0003]纳米通道作为纳流控器件的关键部件,针对不同的材质,需要提出特定的制备工艺,其中制备的材料主要分为两大类:一类是刚性材料,例如玻璃,单晶硅,多晶硅等,另一类是柔性材料,例如PDMS、PMMA和PET等。其中柔性材料具有透光性好,抗腐蚀性强,柔性好,价格低廉等优点,同时也存在不耐高温以及导热性差的不足。沿用针对刚性材料的纳米通道制备工艺,目 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种柔性材料的纳米通道的母模的制备方法,其特征在于,包括:在硅基衬底上形成光刻胶;对光刻胶进行曝光和显影,在光刻胶中形成预设版图的沟道,所述沟道贯穿所述光刻胶至硅基衬底;然后在所述光刻胶上方形成硬掩膜层,所述硬掩膜层填充所述沟道;之后剥离去除光刻胶,最后在所述硬掩膜层的遮挡下刻蚀硅基衬底。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硬掩膜层包括堆叠的铬层和金层。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硅基衬底包括硅层和氧化硅层,所述光刻胶形成于所述氧化硅层表面。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光刻胶采用正电子光刻胶ZEP520;所述剥离去除光刻胶的方法是:在NMP电子束去胶液浸泡。5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述铬层厚度为10~15nm,所述金层厚度为100~...
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