一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法技术

本发明专利技术属于微纳光学材料制备技术领域，具体涉及一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法。所述方法首先在平片基底表面均匀地涂一层紫外固化光学胶，利用具有均匀凹槽的压印模板压印出微纳准连续膜结构，然后沉积一层贵金属膜最后通过退火煅烧获得了非密排贵金属纳米颗粒有序点阵。贵金属纳米颗粒形貌为球形，颗粒尺度均匀，颗粒尺寸和周期可调且有序性高，能够在室温、环境气氛条件下长时间保存。该制备技术快速简便、经济高效，特别适合非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的大面积(>4英寸)、低成本制备，适合工业化的大规模生产应用。适合工业化的大规模生产应用。适合工业化的大规模生产应用。

【技术实现步骤摘要】
一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法


[0001]本专利技术属于微纳光学材料制备
，具体涉及一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其免刻蚀、低成本、批量制备方法。

技术介绍

[0002]以纳米尺度的物质结构单元为基础，按照一定规律排列而成的非密排有序点阵，在光电器件和先进制造领域具有重大意义。尤其，由贵金属(Au，Ag等)纳米单元构成的非密排有序点阵，在光场激发下，不仅可产生局域表面等离激元共振(LSPR)，而且可产生一种全新的等离激元表面晶格共振耦合(SLR)等效应，被广泛应用于光学传感、表面增强拉曼散射(SERS)、光电器件、光催化等领域。因此，实现贵金属非密排有序点阵的高质量制备，不仅是研究其新型光学性能的关键材料基础，而且对其实际应用推广具有重要意义。
[0003]目前贵金属纳米结构非密排点阵的制备方法主要有：荫罩压印模板法和胶体晶体原位煅烧法。传统的荫罩压印模板法，其原理是：利用具有缕空结构阵列为掩膜，结合磁控溅射沉积，在平片基底上直接沉积金属，去除掩膜后即可获得高质量非密排结构阵列。该方法具有阵列结构可控，周期精准本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、将平片基底经过处理，得到清洁和亲水的表面；S2、在经上述处理的平片基底表面均匀地涂一层固化光学胶，厚度为2
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100μm；S3、取压印模板，该压印模板的表面设置有非贯穿、有序点阵排布的凹槽，将设置有凹槽的一面覆盖在固化光学胶上压印，然后将固化光学胶经固化处理形成准连续膜结构，去掉压印模板；S4、在形成准连续膜结构的固化光学胶的表面沉积一层厚为2
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50nm的贵金属膜；S5、将沉积贵金属膜的平片基底放入马弗炉中进行退火煅烧处理，煅烧温度为500
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1500℃，时间为0.5
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10h，结束后自然降温，即制得非密排贵金属纳米颗粒有序点阵。2.根据权利要求1所述的非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，步骤S1中所述平片基底的材质为硅片或石英或蓝宝石。3.根据权利要求1所述的非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，步骤S1中所述平片基底通过在等离子体清洗机中采用O2清洗，获得清洁和亲水表面。4.根据权利要求1所述的非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述固化光学胶为紫外固化光学胶，置于紫外灯下进行固化处理；或者，所述固化光学胶为热固化胶，在加热条件下进行固化处理。5.根据权利要求1或4所述的非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述固化光学胶通过喷涂或者旋涂的方式涂在平片基底的表面，所述旋涂的转速为1000
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘迪龙，陈志明，曹安，李越，
申请(专利权)人：中国科学院合肥物质科学研究院，
类型：发明
国别省市：