装饰基底的方法技术

本发明专利技术涉及一种装饰基底(1)的方法，其包括相继的下列步骤：提供基底(1)；在基底(1)的表面上沉积牺牲材料层(2)；将牺牲材料层(2)结构化以在这种牺牲材料层(2)中创建许多空洞(4)以形成装饰或技术图案(12)；除了在提供图案(12)的位置外，清除牺牲材料层(2)。清除牺牲材料层(2)。清除牺牲材料层(2)。

【技术实现步骤摘要】
装饰基底的方法


[0001]本专利技术涉及一种装饰基底的方法。特别地，本专利技术涉及一种能够在抛光基底，特别是手表的表盘上，更通常在钟表的任何外部元件，如表圈、表壳中心(middle)、底盖(back)、表带连接(link of a bracelet)或镜面(crystal)上制造亚光或缎面装饰的方法。本专利技术也适用于任何类型的首饰品，特别是手镯(bracelets)。

技术介绍

[0002]目前用于使基底，如手表表盘的一些区域具有与基底表面的其余部分不同的视觉外观的一种技术在于使这些区域例如暴露于激光束的作用，然后将这些区域金属化。金属化操作难以实施，特别是因为借助激光束蚀刻的待金属化区域通常具有小尺寸，因此难以在这些区域上精确地沉积金属化层。实际上，金属化层有时超出已在其上沉积这些金属化的借助激光束处理过的基底区域的尺寸，并侵占相邻区域。相反，金属化层有时也可能没有完全覆盖应该被金属化的基底区域，以致这些区域在金属化层下方仍然可见。在这两种情况下，以这种方式处理的基底的最终外观都不令人满意，并且这些基底的无法忽视的部件应该被丢弃。这种技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种装饰基底(1)的方法，其包括相继的下列步骤：
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提供基底(1)；
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在基底(1)的表面上沉积牺牲材料层(2)；
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将牺牲材料层(2)结构化以在该牺牲材料层(2)中创建许多空洞(4)以形成装饰或技术图案(12；20)；
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除了在提供图案(12；20)的位置外，清除牺牲材料层(2)。2.根据权利要求1的装饰方法，其特征在于在牺牲材料层(2)的结构化以在其中创建空洞(4)之后和在除了在提供图案(12；20)的位置外在基底(1)的整个表面上清除牺牲材料层(2)之前，在牺牲材料层(2)上沉积至少一个附加精整层(8)。3.根据权利要求2的装饰方法，其特征在于所述附加精整层(8)借助一种或多种金属材料或这些金属材料的氧化物、氮化物、碳化物或碳氮氧化物制造。4.根据权利要求3的装饰方法，其特征在于用于制造所述附加精整层(8)的金属材料选自铬、锆、金、钛和铝。5.根据权利要求1至4之一的装饰方法，其特征在于所述空洞(4)具有不同深度。6.根据权利要求1至5之一的装饰方法，其特征在于在牺牲材料层(2)中创建的空洞(4)的至少一些穿过该牺牲材料层(2)直至基底(1)。7.根据权利要求1至6之一的装饰方法，其特征在于通过物理气相沉积、通过化学气相沉积或当基底(1)导电时通过电镀在基底(1)的表面沉积牺牲材料层(2)。8.根据权利要求1至7之一的装饰方法，其特征在于所述牺牲材料层(2)借助一种或多种金属材料或这种或这些金属材料的氧化物、氮化物、碳化物或碳氮氧化物制造。9.根据权利要求8的装饰方法，其特征在于所述金属材料选自铬、锆、钛和铝。10.根据权利要求8和9之一的装饰方法，其特征在于所述牺牲材料层(2)具有在100nm至10μm之间的厚度。11.根据权利要求10的装饰方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：柯马杜股份有限公司，
类型：发明
国别省市：