对接面密封结构以及军用方舱制造技术

本发明专利技术公开一种对接面密封结构以及军用方舱，其中所述对接面密封结构包括第一密封座和第二密封座以及密封结构，所述第一密封座和第二密封座相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和第二密封座能够相对活动，所述密封结构形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座，以在所述第一安装座和所述第二安装座产生一定的相对位移时仍能保证所述安装间隙的密封。述安装间隙的密封。述安装间隙的密封。

【技术实现步骤摘要】
对接面密封结构以及军用方舱


[0001]本专利技术涉及密封装置
，特别涉及一种对接面密封结构以及军用方舱。

技术介绍

[0002]军用方舱顶盖大多采用单侧开盖的方式，单侧开盖方式密封部位少，操作性高，实用性强，但对于长度大于10米，宽度大于3米的大型舱盖，采用单侧开盖对方舱支撑部位的强度要求过高，实现成本高，实用性大幅下降，这种情况下，需要采用双侧开盖的方式，双侧开盖解决了强度要求过高的问题，每一侧的顶盖的面积大大下降，而在军用方舱移动的过程中，因为路况等外部因素，双侧开盖的方式在对接面处常常会存在有一定的相对位移，而如何保证在此情况下双侧开盖的对接部位的密封性能，成为了亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是提供一种对接面密封结构，旨在解决双侧开启顶盖的军用方舱的顶盖对接面在产生相对位移时如何保证有效密封的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提出的对接面密封结构包括：
[0005]第一密封座和第二密封座，相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和所述第二密封座能够相对活动；以及，
[0006]密封结构，形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座。
[0007]可选地，所述磁吸结构包括相互吸引的第一磁吸部和第二磁吸部，所述第一磁吸部设于所述第二密封座，所述第二磁吸部设于所述密封部背向所述第一密封座的侧端，用以磁吸挤压所述密封部形变，以适应所述第一密封座和所述第二密封座之间的相对活动。
[0008]可选地，还包括限位保护结构，所述限位保护结构设于所述密封部与所述第一密封座之间，用于在所述第一密封座和所述第二密封座活动背离时，限制所述第二磁吸部移动。
[0009]可选地，所述限位保护结构包括：
[0010]限位座，自所述第一密封座向所述安装间隙内延伸设置，所述限位座内形成有活动槽，所述活动槽的两侧壁于其口部向内折弯形成限位口；
[0011]限位块，活动设于所述活动槽内，并可活动至抵接限位于所述限位口处；以及，
[0012]牵引绳，其两端分别连接所述限位块和所述第二磁吸部。
[0013]可选地，所述密封部包括“C”型密封条。
[0014]可选地，所述第一密封座和所述第二密封座之间还形成有与所述安装间隙相连的第一间隙；
[0015]所述密封结构还包括遮盖结构，所述遮盖结构包括：
[0016]遮盖部，自所述第二密封座的上端向所述第一密封座的上端延伸设置，以遮盖于所述第一间隙上方；以及，
[0017]支撑部，所述支撑部的一端自所述第一密封座上端向上延伸设置，以在所述第一密封座和所述第二密封座活动靠近时抵顶所述遮盖部。
[0018]可选地，所述支撑部的另一端自所述第一间隙向下延伸，以延伸至所述安装间隙的底部并于该处折弯形成排水槽。
[0019]可选地，所述支撑部邻近所述遮盖部的一端的端部包覆有密封件，用于密封所述遮盖部与所述支撑部之间的间隙。
[0020]本专利技术还提出一种军用方舱，包括：
[0021]舱体，具有分别位于两侧且能够相对开合的两个顶盖；以及，
[0022]对接面密封结构，包括第一密封座和第二密封座，相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和所述第二密封座能够相对活动；
[0023]密封结构，形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座，所述第一密封座和所述第二密封座分别安装于一个所述顶盖上，以相对开合。
[0024]可选地，所述第一密封座和所述第二密封座均包括L型材，以在纵向上的截面上形成横向延伸的所述安装间隙以及沿上下向延伸的所述第一间隙。
[0025]在本专利技术的技术方案中，在第一密封座和第二密封座之间的安装间隙内设有密封部，并且所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构使所述密封部联接所述第二密封座，在所述第一密封座和所述第二密封座产生小范围内的相对位移时，所述密封部会产生形变，依旧保持与所述第二密封座的联接，即能在所述第一密封座和所述第二密封座之间产生一定的相对位移时，所述密封结构仍能保证所述安装间隙的密封。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0027]图1为本专利技术对接面密封结构的一实施例的结构示意图；
[0028]图2为本专利技术军用方舱的又一实施例的结构示意图。
[0029]附图标号说明：
[0030][0031][0032]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0033]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0034]需要说明，本专利技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0035]另外，在本专利技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。
[0036]军用方舱顶盖大多采用单侧开盖的方式，单侧开盖方式密封部位少，操作性高，实用性强，但对于长度大于10米，宽度大于3米的大型舱盖，采用单侧开盖对方舱支撑部位的强度要求过高，实现成本高，实用性大幅下降，这种情况下，需要采用双侧开盖的方式，双侧开盖解决了强度要求过高的问题，每一侧的顶盖的面积大大下降，而在军用方舱移动的过程中，因为路况等外部因素，双侧开盖的方式在对接面处常常会存在有一定的相对位移，而如何保证在此情况下双侧开盖的对接部位的密封性能，成为了亟待解决的问题。
[0037]为解决上述问题，本专利技术提出一种对接面密封结构，图1为本专利技术的一个实施例，
图2为本专利技术的军用方舱的又一实施例。
[0038]在本专利技术实施例中(下文称本实施例)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对接面密封结构，其特征在于，包括：第一密封座和第二密封座，相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和所述第二密封座能够相对活动；以及，密封结构，形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座。2.如权利要求1所述的对接面密封结构，其特征在于，所述磁吸结构包括相互吸引的第一磁吸部和第二磁吸部，所述第一磁吸部设于所述第二密封座，所述第二磁吸部设于所述密封部背向所述第一密封座的侧端，用以磁吸挤压所述密封部形变，以适应所述第一密封座和所述第二密封座之间的相对活动。3.如权利要求2所述的对接面密封结构，其特征在于，还包括限位保护结构，所述限位保护结构设于所述密封部与所述第一密封座之间，用于在所述第一密封座和所述第二密封座活动背离时，限制所述第二磁吸部移动。4.如权利要求3所述的对接面密封结构，其特征在于，所述限位保护结构包括：限位座，自所述第一密封座向所述安装间隙内延伸设置，所述限位座内形成有活动槽，所述活动槽的两侧壁于其口部向内折弯形成限位口；限位块，活动设于所述活动槽内，并可活动至抵接限位于所述限位口处；以及，牵引绳，其两端分别连接所述限位块和所述第二磁吸部。5.如权利要求1所述的对接面密封结构，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈瑶，刘琦，丁庚，胡俊，
申请(专利权)人：航天科工武汉磁电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：