线圈部件及其制造方法技术

本发明专利技术的技术问题在于，在具有线圈部被埋入磁性素体的结构的线圈部件中，防止产生于磁性素体的空隙。本发明专利技术的线圈部件(1)具备：线圈部(2)、从线圈轴方向覆盖线圈部(2)的磁性体层(M1)、以及位于线圈部(2)的内径区域的磁性体层(M2)。磁性体层(M1)和磁性体层(M2)经由设置于线圈部(2)中所含的层间绝缘膜(90)的开口部(90A)接触。开口部(90A)具有随着远离磁性体层(M1)和磁性体层(M2)的界面而直径扩大的形状。由此，不易在被埋入开口部(90A)的磁性体层(M1)产生空隙。(M1)产生空隙。(M1)产生空隙。

【技术实现步骤摘要】
线圈部件及其制造方法


[0001]本专利技术涉及线圈部件及其制造方法，尤其涉及具有线圈部被埋入磁性素体的结构的线圈部件及其制造方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中，公开有具有线圈部被埋入磁性素体的结构的线圈部件。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017
‑
11185号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的问题
[0007]但是，在专利文献1中公开的结构中存在如下问题，在磁性素体中的、从线圈轴方向覆盖线圈部的第一磁性体层和被埋入线圈部的内径区域的第二磁性体层的界面容易产生空隙(void)。这种问题在通过不同的工序形成磁性素体中的、从线圈轴方向覆盖线圈部的第一磁性体层和被埋入线圈部的内径区域的第二磁性体层的情况下特别显著。
[0008]因此，本专利技术的目的在于，在具有线圈部被埋入磁性素体的结构的线圈部件中，防止产生于磁性素体的空隙。
[0009]用于解决问题的技术手段
[0010]本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种线圈部件，其特征在于，具备：线圈部，其具有分别包括线圈图案的多个导体层经由多个层间绝缘膜沿线圈轴方向层叠的结构；第一磁性体层，其从所述线圈轴方向覆盖所述线圈部；以及第二磁性体层，其位于所述线圈部的内径区域，所述多个层间绝缘膜包含最接近所述第一磁性体层的第一层间绝缘膜，所述第一磁性体层和所述第二磁性体层，经由设置于所述第一层间绝缘膜的开口部而接触，所述开口部具有随着远离所述第一磁性体层和所述第二磁性体层的界面而直径扩大的形状。2.根据权利要求1所述的线圈部件，其特征在于，所述多个层间绝缘膜还包含：与所述第一层间绝缘膜不同的多个第二层间绝缘膜，所述第一层间绝缘膜的膜厚比所述第二层间绝缘膜的膜厚厚。3.根据权利要求2所述的线圈部件，其特征在于，还具备：第一及第二端子电极，所述多个导体层包含：最接近所述第一磁性体层的第一导体层，所述第一导体层包含：与所述第一端子电极连接的导体图案、和与所述第二端子电极连接的导体图案。4.根据权利要求2所述的线圈部件，其特征在于，所述第一层间绝缘膜中所含的填料的平均粒径小于所述第二层间绝缘膜中所含的填料的平均粒径。5.根据权利要求1～4中任一项所述的线圈部件，其特征在于，所述开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木将典，竹内拓也，西川朋永，高桥延也，藤井直明，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：