【技术实现步骤摘要】
一种可调控的粉末冶金装置
[0001]本专利技术属于粉末冶金
,具体是指一种可调控的粉末冶金装置。
技术介绍
[0002]粉末冶金是制取金属粉末或用金属粉末(或金属粉末与非金属粉末的混合物,以下简称粉末)作为原料,经过成形和烧结,制造金属材料、复合材料以及各种类型制品的工艺技术。粉末冶金法与生产陶瓷有相似的地方,均属于粉末烧结技术,因此,一系列粉末冶金新技术也可用于陶瓷材料的制备。由于粉末冶金技术的优点,它已成为解决新材料问题的钥匙,在新材料的发展中起着举足轻重的作用。
[0003]目前使用的成型设备在使用过程中,需要操作添加粉末,人工添加时,工作人员很难掌控上料的份量,粉末过多会造成浪费,而使用上料装置将粉末上料至压坯时,上料过程中粉末极易在上料腔内集聚并形成结块、塞状和结拱等多种结构的堵塞现象,并且上料至压坯内的粉末过多或过少的情况,均会影响零件压坯成型的效果;进行下料时,通过人工操作完成需要投入大量的人力,增加了生产成本,并且效率非常低,而通过机械手或夹爪气缸进行夹取下料,虽然相对人工下料能够提高效率,但是机械手的力度无法掌控,对于一些精度要求较高的工件,夹取过程中会存在损伤风险,降低产品的合格率;此外传动的加工方式,需要经过,下粉、压胚、下料的流程,各个设备需要等上一步加工流程结束后才能依次继续加工,大大延长了生产速度,影响加工效率。
技术实现思路
[0004]针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本专利技术提供一种可调控的粉末冶金装置,本专利技术提出了一种全新的、无接触式填粉的、 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调控的粉末冶金装置,其特征在于:包括可调控装粉机构(1)、磁吸下料机构(2)、振动压胚机构(3)、传动搭载机构(4)、随动粉末装填机构(5)、设备搭载平台(6)和控制模块(7),所述设备搭载平台(6)设于传动搭载机构(4)外侧上,所述可调控装粉机构(1)设于设备搭载平台(6)上,所述磁吸下料机构(2)设于设备搭载平台(6)上,所述振动压胚机构(3)设于设备搭载平台(6)上,所述随动粉末装填机构(5)活动设于传动搭载机构(4)上,所述控制模块(7)设于设备搭载平台(6)上;所述可调控装粉机构(1)包括旋转式粉末添加装置(101)、可调控粉末下料装置(102)和装粉底座(103),所述装粉底座(103)设于设备搭载平台(6)上,所述旋转式粉末添加装置(101)设于装粉底座(103)上,所述可调控粉末下料装置设于装粉底座(103)上,所述可调控粉末下料装置设于旋转式粉末添加装置(101)上方;所述可调控粉末下料装置(102)包括料斗底柱(120)、下粉调控系统(121)和储料室(122),所述料斗底柱(120)设于装粉底座(103)上,所述储料室(122)设于料斗底柱(120)上,所述下粉调控系统(121)设于储料室(122)底部;所述下粉调控系统(121)包括下粉搭载框架(123)、电机仓(124)、调控电机(125)、调控齿轮(126)、进料仓(127)、送料仓(128)、引导电磁极体(129)、旋转式阻料仓(130)和调控传动齿环(131),所述下粉搭载框架(123)设于储料室(122)底部,所述电机仓(124)设于下粉搭载框架(123)侧壁上,所述进料仓(127)设于下粉搭载框架(123)上,所述旋转式阻料仓(130)转动设于下粉搭载框架(123)上,所述调控电机(125)设于电机仓(124)内,所述调控齿轮(126)设于调控电机(125)的输出端上,所述送料仓(128)滑动设于进料仓(127)上,所述引导电磁极体(129)设于进料仓(127)内,所述调控传动齿环(131)设于旋转式阻料仓(130)上,所述调控传动齿环(131)与调控齿轮(126)啮合连接;所述旋转式粉末添加装置(101)包括旋转搭载框架(104)、旋转轴(105)、送粉伸缩臂(106)、六联推臂(107)、旋转电机(108)、旋转输出齿轮(109)、旋转外齿(110)、传动盘(111)、转动盘(112)、送粉搭载框架(113)、磁吸送粉系统(114)和半程限位转轮(115),所述旋转搭载框架(104)设于装粉底座(103)上,所述旋转电机(108)设于装粉底座(103)上,所述旋转输出齿轮(109)设于旋转电机(108)的输出端上,所述旋转轴(105)转动设于旋转搭载框架(104)上,所述转动盘(112)转动设于旋转轴(105)上,所述旋转外齿(110)设于传动盘(111)上,所述旋转外齿(110)与旋转输出齿轮(109)啮合连接,所述半程限位转轮(115)转动设于旋转搭载框架(104)上,所述送粉伸缩臂(106)的固定端设于旋转搭载框架(104)上,所述六联推臂(107)设于送粉伸缩臂(106)的伸缩端上,所述传动盘(111)转动设于半程限位转轮(115)上,所述送粉搭载框架(113)的一侧设于传动盘(111)上,所述送粉搭载框架(113)的另一侧设于转动盘(112)上,所述磁吸送粉系统(114)设于送粉搭载框架(113)上。2.根据权利要求1所述的一种可调控的粉末冶金装置,其特征在于:所述传动搭载机构(4)包括平台搭载底座(401)、外径传动齿环(402)、水平支撑辊(403)、传动转轮(404)、上层限位臂(405)、轨道底座(406)、限位变径框架(407)、无动力限位齿轮(408)、转动输出齿轮(409)和转动电机(410),所述平台搭载底座(401)设于设备搭载平台(6)内侧,所述外径传动齿环(402)设于平台搭载底座(401)上,所述水平支撑辊(403)转动设于平台搭载底座(401)上,所述传动转轮(404)活动设于水平支撑辊(403)上,所述上层限位臂(405)设于平台搭载底座(401)上,所述上层限位臂(405)上转动设有上层限位轮(413),所述上层限位轮(413)的圆周侧壁与传动转轮(404)的凹槽滚动贴合,所述轨道底座(406)设于平台搭载底座(401)上,所述限位变径框架(407)设于轨道底座(406)上,所述无动力限位齿轮(408)转
动设于平台搭载底座(401)上,所述转动电机(410)设于平台搭载底座(401)内,所述转动输出齿轮(409)设于转动电机(410)上,所述传动转轮(404)内侧设有传动内齿圈(412),所述传动转轮(404)外侧设有传动外齿圈(411),所述无动力限位齿轮(408)与传动内齿圈(412)啮合连接,所述转动输出齿轮(409)与传动内齿圈(412)啮合连接。3.根据权利要求2所述的一种可调控的粉末冶金装置,其特征在于:所述限位变径框架(407)上设有限位圆壁(418),所述限位变径框架(407)上设有变径轨道(417),所述限位变径框架(407)上设有远位区(414),所述限位变径框架(407)上设有中位区(415),所述限位变径框架(407)上设有近位区(416),所述远位区(414)正对于磁吸下料机构(2),所述中位区(415)正对于可调控装粉机构(1),所述近位区(416)正对于振动压胚机构(3)。4.根据权利要求3所述的一种可调控的粉末冶金装置,其特征在于:所述随动粉末装填机构(5)包括上层限位装置(501)、中部连接臂(502)、下层限位活动装置(503)、变轨随动调整装置(504)和磁吸储料装置(505),所述下层限位活动装置(503)...
【专利技术属性】
技术研发人员:尤天兵,李军,戴德标,谈尚文,赵友宝,
申请(专利权)人:扬州久能新材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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