反射率低的感光性树脂组合物以及利用其的遮光层制造技术

技术编号:37349370 阅读:20 留言:0更新日期:2023-04-22 21:47
根据本发明专利技术的一实施例,提供一种显示装置,其包括:感光性树脂组合物,其包含:树脂,其包含化学式(1)表示的重复单位、化学式(2)表示的染料、反应性不饱和化合物、颜料、引发剂及溶剂;以及图案层,其包含:所述感光性树脂组合物的聚合反应物。的聚合反应物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反射率低的感光性树脂组合物以及利用其的遮光层


[0001]本专利技术涉及一种除了以往使用的黑色及黑色组合颜料之外,还包括染料,从而有效降低反射率的感光性树脂组合物以及利用其的着色遮光层。

技术介绍

[0002]平板显示装置广泛应用液晶显示装置(LCD:Liquid crystal display device)、有机发光显示装置(OLED:Organic light emitting display device)等。其中,特别是,有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。
[0003]所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于,遮蔽入射外界光后,从面板反射的光。其弊端在于:由于弯曲特性的缺失,不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。
[0004]为了解决上述问题,以往建议采用彩色滤光片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但,该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面,具有局限性,且没有具体提供取代偏光膜的方法。
[0005]另外,着色遮光层,特别是,黑色遮光层在液晶显示装置,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性树脂组合物,其特征在于:粘结剂树脂,其包括以下化学式(1)表示的重复单位;以下化学式(2)表示的染料;颜料;反应性不饱和化合物;光引发剂;以及溶剂,化学式(1):所述化学式(1)中,1)*表示以重复单位实现键连接的部分,2)R1及R2相互独立地为:氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);芴基(fluorenyl group);羰基(carbonyl group);醚基(ether group);或C1~C
20
的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group),3)R1及R2可以分别与相邻的基团形成环,4)a及b相互独立地为0至4的整数,5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B),6)X2是C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);或其等的组合,7)R'及R"相互独立地为:氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);芴基(fluorenyl group);羰基(carbonyl group);醚基(ether group);或C1~C
20
的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group),8)R'及R"可以分别与相邻的基团形成环,9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D),10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位,其在高分子链内,化学式(C)和化学式(D)的
比率满足1:9至9:1,化学式(A):化学式(B):所述化学式(A)及化学式(B)中,11

1)*表示键合位置,11

2)X3是O、S、SO2或NR',11

3)R'是氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);芴基(fluorenyl group);羰基(carbonyl group);醚基(ether group);或C1~C
20
的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group),11

4)R3~R6相互独立地为:氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);芴基(fluorenyl group);羰基(carbonyl group);醚基(ether group);或C1~C
20
的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group),11

5)R3~R6可以分别与相邻的基团形成环,11

6)c~f相互独立地为0至4的整数,化学式(C):化学式(D):所述化学式(C)及化学式(D)中,12

1)*表示键合位置,12

2)R7~R
10
相互独立地为:氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包
含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30
的杂环基(heterocyclyl group);C6~C
30
的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group);C1~C
20
的烷基(Alkyl group);C2~C
20
的烯基(alkenyl group);C2~C
20
的炔基(alkinyl group);C1~C
20
的烃氧基(alkoxy group);C6~C
30
的芳氧基(aryloxy group);芴基(fluorenyl group);羰基(carbonyl group);醚基(ether group);或C1~C
20
的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group),12

3)Y1及Y2是化学式(E),化学式(E):所述化学式(E)中,13

1)*表示键合位置,13

2)R
11
是氢;重氢;卤素(halogen);C6~C
30
的芳基(aryl group);包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2~C
30

【专利技术属性】
技术研发人员:李昌珉高润锺裵俊金俊基赵贤相文成允
申请(专利权)人:德山新勒克斯有限公司
类型:发明
国别省市:

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