用于校正X射线图像中的准直器半影的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于校正X射线图像中的准直器半影的装置(10)。所述装置包括输入单元(20)、处理单元(30)和输出单元(40)。所述输入单元被配置为向所述处理单元提供X射线数据。所述处理单元被配置为确定对象的至少一幅经准直器校正的X射线图像。所述确定包括将强度调制掩模应用于所述X射线数据。所述强度调制掩模说明了由所述X射线采集系统的至少一个准直器叶片引起的跨X射线采集系统的探测器的强度变化，并且所述X射线采集系统被用于采集所述X射线数据。所述输出单元被配置为输出所述对象的至少一幅经准直器校正的X射线图像。对象的至少一幅经准直器校正的X射线图像。对象的至少一幅经准直器校正的X射线图像。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于校正X射线图像中的准直器半影的装置


[0001]本专利技术涉及用于校正X射线图像中的准直器半影的装置、X射线成像系统、用于校正X射线图像的准直器半影的方法、以及计算机程序单元和计算机可读介质。

技术介绍

[0002]X射线成像系统使X射线束准直以限制患者的曝光。准直器叶片被用于使暴露的视场与探测器的范围紧密匹配。为了确保患者尽可能少地暴露于未检测到的X射线，准直器叶片被定位为使得理想情况下，X射线强度在探测器边缘处或稍微在探测器区内或特别地稍微在探测器区外降至零。理想情况下，准直器边缘绝不应在探测器区之外，但是在许多情况下，当例如患者要求比探测器更小的准直时，准直器可以位于探测器区内。然而，由于X射线源并非无限小，因此观察到由准直器叶片引起的半影效应，其中，辐射强度逐渐从100％降至0％。
[0003]这样的X射线束准直在标准射线照相衰减(或透射)X射线成像系统中进行，并且也在基于干涉测量的差分相衬和暗场成像系统中进行。这样的相衬和暗场成像系统提供暗场图像、相衬图像和衰减(透射)图像。
[0004]J.Jian
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于校正X射线图像中的准直器半影的装置(10)，所述装置包括：输入单元(20)；处理单元(30)；以及输出单元(40)；其中，所述输入单元被配置为向所述处理单元提供X射线数据；其中，所述处理单元被配置为确定对象的至少一幅经准直器校正的X射线图像，其中，所述确定包括将强度调制掩模应用于所述X射线数据，其中，所述强度调制掩模说明了由所述X射线采集系统的至少一个准直器叶片引起的跨X射线采集系统的探测器的强度变化，并且其中，所述X射线采集系统被用于采集所述X射线数据；并且其中，所述输出单元被配置为输出所述对象的所述至少一幅经准直器校正的X射线图像。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述X射线采集系统是衰减图像采集系统或干涉测量图像采集系统。3.根据权利要求1
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2所述的装置，其中，所述X射线数据包括所述对象的X射线衰减图像，其中，所述X射线采集系统是衰减图像采集系统，并且其中，对所述强度调制掩模的应用包括将与所述探测器的像素相关联的所述对象的所述X射线衰减图像中的强度值乘以所述强度调制掩模中的对应强度值，并且其中，所述对象的所述至少一幅经准直器校正的X射线图像包括经准直器校正的衰减X射线图像。4.根据权利要求2
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3中的任一项所述的装置，其中，所述处理单元被配置为确定所述强度调制掩模，所述确定包括利用所述对象的所述X射线衰减图像。5.根据权利要求1
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4中的任一项所述的装置，其中，所述X射线数据包括不存在对象的X射线衰减图像，其中，所述X射线采集系统是衰减图像采集系统或干涉测量图像采集系统，并且其中，所述处理单元被配置为确定所述强度调制掩模，所述确定包括利用不存在对象的所述X射线衰减图像。6.根据权利要求4
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5中的任一项所述的装置，其中，对所述强度调制掩模的所述确定包括在所述对象的所述X射线衰减图像中或在不存在对象的所述X射线衰减图像中识别至少一个强度梯度，其中，所述至少一个强度梯度与至少准直器叶片相关联。7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述处理单元被配置为利用与所述至少一个准直器叶片相关联的所述至少一个梯度的至少一个位置来对所述经准直器校正的衰减X射线图像进行注释。8.根据权利要求6
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7中的任一项所述的装置，其中，当所述X射线采集系统是干涉测量图像采集系统时，所述对象的所述至少一幅经准直器校正的X射线图像包括经准直器校正的暗场X射线图像和/或...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：