氖气纯度检测系统的稳定性优化方法及系统技术方案

本发明专利技术提供的氖气纯度检测系统的稳定性优化方法及系统，涉及数据处理技术领域。在本发明专利技术中，提取到多条氖气纯度检测数据；对于每一个氖气纯度检测设备，构建出该氖气纯度检测设备对应的检测子数据分布阵列；对于每一个检测子数据分布阵列，分别从该检测子数据分布阵列中标记出与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列；分别依据每一个检测子数据分布阵列与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列，分析输出每一个检测子数据分布阵列对应的氖气纯度检测设备的目标氖气纯度检测稳定数据。基于上述内容，可以在一定程度提高氖气纯度检测设备具有的稳定性能的检测可靠度。稳定性能的检测可靠度。稳定性能的检测可靠度。

【技术实现步骤摘要】
氖气纯度检测系统的稳定性优化方法及系统


[0001]本专利技术涉及数据处理
，具体而言，涉及一种氖气纯度检测系统的稳定性优化方法及系统。

技术介绍

[0002]氖气纯度检测是一个重要的环节，在氖气的各种应用中，属于基础性的环节。其中，一般是基于氖气纯度检测设备（仪器）对氖气进行纯度检测，因此，氖气纯度检测设备的检测稳定性直接影响着检测结果的可靠度，因而，需要对氖气纯度检测设备的检测稳定性进行分析确认，但是，在现有技术中，一般是将氖气纯度检测设备进行的多次检测结果进行对比，以基于其中的差异确定出稳定性，使得存在稳定性检测可靠度不高的问题。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种氖气纯度检测系统的稳定性优化方法及系统，以提高氖气纯度检测设备具有的稳定性能的检测可靠度。
[0004]为实现上述目的，本专利技术实施例采用如下技术方案：一种氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，包括：提取到氖气纯度检测系统包括的多个氖气纯度检测设备中的每一个氖气纯度检测设备对应的氖气纯度检测数据，以得到多条氖气纯度检测数据，每一条氖气纯度检测数据包括多条氖气纯度检测子数据，每一条所述氖气纯度检测子数据用于反映一个氖气检测对象一次检测的结果，一条所述氖气纯度检测数据包括的多条氖气纯度检测子数据对应于多个氖气检测对象，且每一个氖气检测对象进行多次检测，以及，所述多个氖气纯度检测设备中的每两个氖气纯度检测设备对应的多个氖气检测对象一致；对于每一个所述氖气纯度检测设备，依据该氖气纯度检测设备对应的氖气纯度检测数据包括的多条氖气纯度检测子数据对应的检测先后关系和氖气检测对象，构建出该氖气纯度检测设备对应的检测子数据分布阵列；对于每一个所述检测子数据分布阵列，分别从该检测子数据分布阵列中标记出与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列；分别依据每一个所述检测子数据分布阵列与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列，分析输出每一个所述检测子数据分布阵列对应的氖气纯度检测设备的目标氖气纯度检测稳定数据。
[0005]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述对于每一个所述检测子数据分布阵列，分别从该检测子数据分布阵列中标记出与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列的步骤，包括：将所述检测子数据分布阵列标记为第一检测子数据分布阵列，并将一个其它检测子数据分布阵列标记为对应的第二检测子数据分布阵列；将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数
据分布阵列的第一数量个第一重要阵列参数的阵列参数变化数据，所述第一重要阵列参数的阵列参数变化数据包括所述第一重要阵列参数的参数变化幅度和参数变化趋势簇；将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据，所述第二重要阵列参数的阵列参数变化数据包括所述第二重要阵列参数的参数变化幅度和参数变化趋势；基于所述第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据和所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列包括的第一重要阵列参数的阵列参数变化数据，分析输出所述第一检测子数据分布阵列中第三数量个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度，所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度基于所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列中的相关第一重要阵列参数确定，所述相关第一重要阵列参数是所述第一数量个第一重要阵列参数中的，所述相关第一重要阵列参数的参数变化趋势簇包括与所述相关第一重要阵列参数对应的第二重要阵列参数的参数变化趋势；基于所述第三数量个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度，在所述第三数量个局部分布阵列中，匹配出第一局部分布阵。
[0006]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数据分布阵列的第一数量个第一重要阵列参数的阵列参数变化数据的步骤，包括：将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数据分布阵列的第四数量个候选第一重要阵列参数的阵列参数变化数据；基于预先配置的第一参数筛选参考值，在所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，筛选出第一数量个第一重要阵列参数，所述第一数量个第一重要阵列参数的参数代表值大于或等于所述第一参数筛选参考值，所述参数代表值与所述参数变化幅度正相关；基于所述第一数量个第一重要阵列参数的候选参数变化趋势，形成所述第一数量个第一重要阵列参数的参数变化趋势簇。
[0007]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述基于预先配置的第一参数筛选参考值，在所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，筛选出第一数量个第一重要阵列参数的步骤，包括：假设所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，任意一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于预先配置的第一参数筛选参考值，以及，所述任意一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于所述任意一个候选第一重要阵列参数的周围候选第一重要阵列参数簇中的每一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度，对所述任意一个候选第一重要阵列参数进行标记处理，以标记为所述第一检测子数据分布阵列的第一重要阵列参数。
[0008]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据的步骤，包括：将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第五数量个候选第二重要阵列参数的阵列参数变化数据；
基于预先配置的第二参数筛选参考值，在所述第五数量个候选第二重要阵列参数中，筛选出第二数量个第二重要阵列参数，所述第二数量个第二重要阵列参数的参数代表值大于或等于所述第二参数筛选参考值，所述参数代表值与所述参数变化幅度正相关；将所述第二数量个第二重要阵列参数的参数变化趋势进行调整，形成所述第二检测子数据分布阵列的第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据。
[0009]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述基于预先配置的第二参数筛选参考值，在所述第五数量个候选第二重要阵列参数中，筛选出第二数量个第二重要阵列参数的步骤，包括：假设所述第五数量个候选第二重要阵列参数中，任意一个候选第二重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于预先配置的第二参数筛选参考值，以及，所述任意一个候选第二重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于所述任意一个候选第二重要阵列参数的周围第二重要阵列参数集合中的每一个候选第二重要阵列参数的参数变化幅度，对所述任意一个候选第二重要阵列参数进行标记处理，以标记为所述第二检测子数据分布阵列的第二重要阵列参数。
[0010]在一些优选的实施例中，在上述氖气纯度检测系统的稳定性优化方法中，所述基于所述第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，其特征在于，包括：提取到氖气纯度检测系统包括的多个氖气纯度检测设备中的每一个氖气纯度检测设备对应的氖气纯度检测数据，以得到多条氖气纯度检测数据，每一条氖气纯度检测数据包括多条氖气纯度检测子数据，每一条所述氖气纯度检测子数据用于反映一个氖气检测对象一次检测的结果，一条所述氖气纯度检测数据包括的多条氖气纯度检测子数据对应于多个氖气检测对象，且每一个氖气检测对象进行多次检测，以及，所述多个氖气纯度检测设备中的每两个氖气纯度检测设备对应的多个氖气检测对象一致；对于每一个所述氖气纯度检测设备，依据该氖气纯度检测设备对应的氖气纯度检测数据包括的多条氖气纯度检测子数据对应的检测先后关系和氖气检测对象，构建出该氖气纯度检测设备对应的检测子数据分布阵列；对于每一个所述检测子数据分布阵列，分别从该检测子数据分布阵列中标记出与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列；分别依据每一个所述检测子数据分布阵列与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列，分析输出每一个所述检测子数据分布阵列对应的氖气纯度检测设备的目标氖气纯度检测稳定数据。2.如权利要求1所述的氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，其特征在于，所述对于每一个所述检测子数据分布阵列，分别从该检测子数据分布阵列中标记出与每一个其它检测子数据分布阵列匹配的第一局部分布阵列的步骤，包括：将所述检测子数据分布阵列标记为第一检测子数据分布阵列，并将一个其它检测子数据分布阵列标记为对应的第二检测子数据分布阵列；将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数据分布阵列的第一数量个第一重要阵列参数的阵列参数变化数据，所述第一重要阵列参数的阵列参数变化数据包括所述第一重要阵列参数的参数变化幅度和参数变化趋势簇；将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据，所述第二重要阵列参数的阵列参数变化数据包括所述第二重要阵列参数的参数变化幅度和参数变化趋势；基于所述第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据和所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列包括的第一重要阵列参数的阵列参数变化数据，分析输出所述第一检测子数据分布阵列中第三数量个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度，所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度基于所述第一检测子数据分布阵列中的每一个局部分布阵列中的相关第一重要阵列参数确定，所述相关第一重要阵列参数是所述第一数量个第一重要阵列参数中的，所述相关第一重要阵列参数的参数变化趋势簇包括与所述相关第一重要阵列参数对应的第二重要阵列参数的参数变化趋势；基于所述第三数量个局部分布阵列对应的局部阵列匹配度，在所述第三数量个局部分布阵列中，匹配出第一局部分布阵列。3.如权利要求2所述的氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，其特征在于，所述将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数据分布阵列的第一数量个第一重要阵列参数的阵列参数变化数据的步骤，包括：
将所述第一检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第一检测子数据分布阵列的第四数量个候选第一重要阵列参数的阵列参数变化数据；基于预先配置的第一参数筛选参考值，在所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，筛选出第一数量个第一重要阵列参数，所述第一数量个第一重要阵列参数的参数代表值大于或等于所述第一参数筛选参考值，所述参数代表值与所述参数变化幅度正相关；基于所述第一数量个第一重要阵列参数的候选参数变化趋势，形成所述第一数量个第一重要阵列参数的参数变化趋势簇。4.如权利要求3所述的氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，其特征在于，所述基于预先配置的第一参数筛选参考值，在所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，筛选出第一数量个第一重要阵列参数的步骤，包括：假设所述第四数量个候选第一重要阵列参数中，任意一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于预先配置的第一参数筛选参考值，以及，所述任意一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度大于或等于所述任意一个候选第一重要阵列参数的周围候选第一重要阵列参数簇中的每一个候选第一重要阵列参数的参数变化幅度，对所述任意一个候选第一重要阵列参数进行标记处理，以标记为所述第一检测子数据分布阵列的第一重要阵列参数。5.如权利要求2所述的氖气纯度检测系统的稳定性优化方法，其特征在于，所述将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第二数量个第二重要阵列参数的阵列参数变化数据的步骤，包括：将所述第二检测子数据分布阵列进行阵列参数分析处理，输出所述第二检测子数据分布阵列的第五数量个候选第二重要阵列参数的阵列参数变化数据；基于预先配...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚施健，郑经纬，陈国富，彭王生，吴增艳，翁新增，吕巧丽，蒋美锐，缪振华，
申请(专利权)人：博纯材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：