浸泡蚀刻设定架算盘珠制造技术

本实用新型专利技术公开了一种浸泡蚀刻设定架算盘珠，包括工装主体和设置于工装主体至少一侧的多个凸齿，凸齿为圆锥台形结构，位于工装主体同一侧的所有凸齿为沿工装主体的长度方向依次布置。本实用新型专利技术的浸泡蚀刻设定架算盘珠，可以减小凸齿与基板的接触面积，改善基板齿位酸蚀不良和齿位板厚差，可以提高产品良率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
浸泡蚀刻设定架算盘珠


[0001]本技术属于液晶显示屏
，具体地说，本技术涉及一种浸泡蚀刻设定架算盘珠。

技术介绍

[0002]随着移动手机、平板电脑等电子消费品尺寸越来越大及轻薄化的趋势不断发展，对玻璃基板减薄的要求将日益提高，对现实生活中各类液晶显示屏要求越来越高，液晶显示屏逐渐趋向尺寸愈大、板厚愈薄的方向发展，是以为在保证合格率和产品品质的基础上拥有处理更大尺寸玻璃基板的技术实力的条件下，行业内企业的技术水平将需要随之不断提升。目前减薄行业的减薄方式主要是物理研磨和化学蚀刻，其中化学蚀刻是最主要、最重要的减薄方式。
[0003]化学蚀刻方式主要分为喷淋蚀刻和浸泡蚀刻，现有的G4.5及以上尺寸液晶面板从1.0mm薄化至0.3mm浸泡蚀刻的加工工艺侧齿齿位不良，较喷淋蚀刻高。与喷淋蚀刻受流量影响相比，浸泡蚀刻受发泡、蚀刻速率、酸液浓度、玻璃粉堆积情况等因素的影响，局部易出现较大板厚差、酸蚀不匀等问题；现有浸泡蚀刻所用的治具之一是算盘珠，其作用是对一定数量的基板进行限位，但其存在与基板接触面积大、有效限位长度长等缺陷，基板在蚀刻过程中易出现由算盘珠引起的卡空卡裂制损、基板厚度差大、局部上限的问题。
[0004]现有的浸泡蚀刻算盘珠存在如下缺陷：
[0005]缺点1：现有算盘珠的最大限位长度为10mm，工装主体为实体，会导致G4.5尺寸基板窄边框产品因工装限位区阻液、限位过长，使基板侧齿齿位位置出现齿位酸蚀不匀、齿位凹坑，不良率高达30％以上；
[0006]缺点2：有效限位区最小的算盘珠最大限位长度约为10mm，G4.5尺寸基板蚀刻后，齿位位置的板厚差非常大(达到35μm左右/片)，蚀刻过程中受发泡鼓吹、玻璃粉堆积等情况的影响会导致基板板厚局部上限或产生酸蚀不匀，后段处理不良制损风险较高；
[0007]缺点3：各型号算盘珠与基板的接触面积较大，对HF溶液的使用废液面积要求较高，增加了生产成本；而且易造成基板齿位位置出现较大板厚差和蚀刻不均，影响基板表观良率。

技术实现思路

[0008]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提供一种浸泡蚀刻设定架算盘珠，目的是提高产品良率。
[0009]为了实现上述目的，本技术采取的技术方案为：浸泡蚀刻设定架算盘珠，包括工装主体和设置于工装主体至少一侧的多个凸齿，凸齿为圆锥台形结构，位于工装主体同一侧的所有凸齿为沿工装主体的长度方向依次布置。
[0010]所述工装主体的相对两侧均设置所述凸齿。
[0011]所述工装主体的中部镂空，工装主体的中心孔中设置支撑柱，支撑柱与工装主体
连接。
[0012]所述支撑柱设置多个且所有支撑柱为沿所述工装主体的长度方向依次布置。
[0013]所述支撑柱的长度为54
‑
56mm。
[0014]所述支撑柱的长度为55mm。
[0015]本技术的浸泡蚀刻设定架算盘珠，可以减小凸齿与基板的接触面积，改善基板齿位酸蚀不良和齿位板厚差，可以提高产品良率。
附图说明
[0016]本说明书包括以下附图，所示内容分别是：
[0017]图1是第一种浸泡蚀刻设定架算盘珠的主视图；
[0018]图2是第一种浸泡蚀刻设定架算盘珠的侧视图；
[0019]图3是第一种浸泡蚀刻设定架算盘珠的俯视图；
[0020]图4是第二种浸泡蚀刻设定架算盘珠的主视图；
[0021]图5是第二种浸泡蚀刻设定架算盘珠的侧视图；
[0022]图6是第二种浸泡蚀刻设定架算盘珠的俯视图；
[0023]图中标记为：1、工装主体；2、凸齿。
具体实施方式
[0024]下面对照附图，通过对实施例的描述，对本技术的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本技术的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施。
[0025]如图1至图6所示，本技术提供了一种浸泡蚀刻设定架算盘珠，包括工装主体1和设置于工装主体1至少一侧的多个凸齿2，凸齿2为圆锥台形结构，位于工装主体1同一侧的所有凸齿2为沿工装主体1的长度方向依次布置且为等距分布。使用时，凸齿2对玻璃基板起到限位作用，玻璃基板嵌入相邻两个凸齿2之间，凸齿2的外圆面与玻璃基板相接触。
[0026]具体地说，如图1至图3所示，工装主体1的相对两侧均设置有凸齿2，且工装主体1的相对两侧均设置有同等数量的凸齿2。圆锥台形凸齿2的设置，保留了原有喷淋夹具及浸泡算盘珠的优势，不仅保证了算盘珠对玻璃基板的限位效果，同时还减小了对玻璃基板的接触面积。而且这种形成的浸泡蚀刻设定架算盘珠，能有效减小工装阻液，对酸液废液面积要求相对较低，能够提高酸液的利用率，降低生产成本。
[0027]作为变形实施方案，如图4所示，工装主体1的其中一侧设置有凸齿2。
[0028]如图1和图4所示，凸齿2具有一个大径端和一个小径端，凸齿2的大径端和小径端为凸齿2的轴向上的相对两端，大径端的直径大于小径端的直径，凸齿2的大径端与工装主体1固定连接，凸齿2的小径端位于工装主体1的外部。
[0029]在本实施例中，凸齿2的大径端的直径为7.5mm，凸齿2的小径端的直径为4.19mm，凸齿2的长度为7mm。
[0030]如图1和图4所示，工装主体1的中部镂空，减小阻液，工装主体1的中心孔中设置支撑柱，支撑柱与工装主体1连接。支撑柱设置多个，所有支撑柱为沿工装主体1的长度方向依次布置且为等距分布。支撑柱与工装主体1固定连接，各个支撑柱分别位于工装主体1上相
邻的两个通孔之间，该通孔为沿工装主体1的厚度方向贯穿设置。
[0031]作为优选的，支撑柱的长度为54
‑
56mm。
[0032]在本实施例中，如图1所示，支撑柱的长度为55mm，算盘珠的总宽度为75mm，支撑柱的长度方向与算盘珠的宽度方向相平行，支撑柱的长度方向与凸齿2的轴线相平行，支撑柱共设置四个。
[0033]以上结合附图对本技术进行了示例性描述。显然，本技术具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本技术的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.浸泡蚀刻设定架算盘珠，其特征在于：包括工装主体和设置于工装主体至少一侧的多个凸齿，凸齿为圆锥台形结构，位于工装主体同一侧的所有凸齿为沿工装主体的长度方向依次布置。2.根据权利要求1所述的浸泡蚀刻设定架算盘珠，其特征在于：所述工装主体的相对两侧均设置所述凸齿。3.根据权利要求1或2所述的浸泡蚀刻设定架算盘珠，其特征在于：所述工装主体的中部镂空，工装主体的中心孔中设置支...

【专利技术属性】
技术研发人员：阳云霜，
申请(专利权)人：重庆永信科技有限公司，
类型：新型
国别省市：