一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法及液晶盒技术

技术编号:37299976 阅读:13 留言:0更新日期:2023-04-21 22:46
本发明专利技术公开了一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法及液晶盒,该制备方法通过预先制备满足预制备液晶盒的尺寸的第一玻璃基板和第二玻璃基板,对所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板进行清洗,在清洗后的第一玻璃基板的第一区域设置固化胶,且预留至少一个材料罐装口,在清洗后的第二玻璃基板的表面喷洒直径小于3μm的支撑材料,压合第二玻璃基板和第一玻璃基板,获得间隙值小于3μm的液晶盒,实现了gap值均匀优良的体全息曝光用的cell盒的制备。备。备。

【技术实现步骤摘要】
一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法及液晶盒


[0001]本专利技术实施例涉及液晶盒的制作
,尤其涉及一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法及液晶盒。

技术介绍

[0002]随着衍射光学元件制备精度的不断提高,衍射光波导系统成为研究热点。衍射光栅作为衍射光波导的核心组成部分,在设计和生产方面具有灵活性和高效性等优势,这也表明了衍射光波导相较于几何光波导更具量产化的可行性。目前主流的衍射光栅有表面浮雕光栅和体全息光栅两种。体全息波导光栅技术通过使用光致聚合物或(Holographically formed polymer dispersed liquid crystal,HPDLC)HPDLC材料,通过双光束激光全息曝光的方式,直接在微米级光聚合物材料内干涉形成纳米级的光栅结构。体全息光栅以其制备成本低、波长和角度选择性好、光栅频率高等优势在全息显示等领域占有一席之地。
[0003]体全息光栅是将材料在真空条件下灌装在液晶盒(cell盒)里面,密封后将cell盒子转移至曝光平台上进行曝光形成光栅。在整个过程中最为重要的组成部分是cell盒。Cell盒间隙值(gap值)的稳定性决定了光栅的形成及波导片传输图像的效果。Gap值良好的cell盒可以形成稳定的光栅分布,有利于光在波导中传输。常规(Liquid Crystal Display,LCD)LCD在制备空盒的工艺流程为丝网印刷工艺,主要包括丝印边框、喷衬垫料、对位贴合、高温固化、切割成空盒。在常规LCD制备空盒体系下存在着以下急需解决的问题。
[0004]1、常规LCD制备空盒工艺只能制备gap值为3μm以上的空盒,对于3μm以下的空盒尚未有有效的制备工艺。
[0005]2、常规LCD工艺制备cell盒必须使用丝网印刷工艺,不同规格的cell盒需要定制相应的网板,增加了制作周期和成本。
[0006]3、常规LCD制备空盒工艺是使用刀轮切割,刀轮切割的玻璃崩边大、边缘粗糙,对玻璃的强度会大幅影响,需要对cell盒进行磨边处理,增加了制作cell盒的时间,以及增加cell盒制作成本。

技术实现思路

[0007]有鉴于此,本专利技术实施例提供一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法及液晶盒,采用本申请提供的制备方法可以获得间隙值小于3μm的液晶盒,具有制备周期短、成本低的优势。
[0008]第一方面,本专利技术实施例提供了一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法,该方法包括:
[0009]制备第一玻璃基板和第二玻璃基板;所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的尺寸满足预制备液晶盒的尺寸;
[0010]清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;
[0011]在清洗后的所述第一玻璃基板的第一区域设置固化胶,且在所述固化胶上预留至
少一个材料罐装口;其中,所述第一玻璃基板包括第一区域和第二区域,所述第一区域围绕所述第二区域;
[0012]在清洗后的所述第二玻璃基板的表面喷洒支撑材料;所述支撑材料的直径小于3μm;
[0013]压合所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板,获得液晶盒;所述液晶盒的最大间隙值小于3μm,所述最大间隙值指的是压合后所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板之间的最大距离。
[0014]可选的,制备第一玻璃基板和第二玻璃基板,包括:
[0015]确定预制备液晶盒的尺寸,根据所述预制备液晶盒的尺寸,采用激光切割机切割玻璃,获得第一玻璃基板和第二玻璃基板。
[0016]可选的,清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板,包括:
[0017]执行第一道清洗流程,在第一清洗槽中设置第一清洗剂,控制所述第一清洗剂的温度,超声清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;
[0018]执行第二道清洗流程,在第二清洗槽中设置第二清洗剂,控制所述第二清洗剂的温度,超声清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;
[0019]执行喷淋流程,将清洗后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在喷淋槽中喷淋;
[0020]执行漂洗流程,将喷淋后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在超纯水槽中漂洗;
[0021]执行慢拉流程,将漂洗后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在慢拉槽中慢拉;
[0022]执行烘干流程,将慢拉后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在烘干槽中烘干。
[0023]可选的,执行第一道清洗流程,在第一清洗槽中设置第一清洗剂,控制所述第一清洗剂的温度,超声清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板之前,还包括:
[0024]制备第一清洗剂和第二清洗剂。
[0025]可选的,在执行喷淋流程之前,还包括:
[0026]重复执行所述第二道清洗流程至少3次。
[0027]可选的,在清洗后的所述第一玻璃基板的的第一区域设置固化胶,包括:
[0028]采用自动点胶机在清洗后的所述第一玻璃基板的第一区域上设置固化胶,预留至少一个材料罐装口。
[0029]可选的,压合所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板,获得液晶盒,包括:
[0030]采用纳米压印机压合所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板,获得液晶盒。
[0031]可选的,在清洗后的所述第二玻璃基板的表面喷洒支撑材料之前,还包括:
[0032]配置分散液;所述分散液包括支撑材料。
[0033]第二方面,本专利技术实施例还提供了一种基于体全息曝光用的液晶盒,采用第一方面提供的制备方法获得。基于体全息曝光用的液晶盒包括压合的第一玻璃基板和第二玻璃基板;所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板之间包括支撑材料,所述支撑材料的直径小于3μm;所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的边缘包括固定胶,所述固定胶预留至少一
个材料罐装口。
[0034]可选的,所述支撑材料包括苯乙烯、二氧化硅和金属中的至少一种,所述支撑材料的结构包括球体,密度范围为50粒/mm2~100粒/mm2。
[0035]本专利技术实施例提供的基于体全息曝光用液晶盒的制备方法,通过预先制备满足预制备液晶盒的尺寸的第一玻璃基板和第二玻璃基板,对所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板进行清洗,在清洗后的第一玻璃基板的第一区域设置固化胶,且预留至少一个材料罐装口,在清洗后的第二玻璃基板的表面喷洒直径小于3μm的支撑材料,压合第二玻璃基板和第一玻璃基板,获得间隙值小于3μm的液晶盒,实现了gap值均匀优良的体全息曝光用的cell盒的制备。
附图说明
[0036]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显。
[0037]图1是本申请提供的基于体全息曝光用的液晶盒的制备方法示意图;
[0038]图2是本申请提供的基于体全息曝光用的液晶盒的压合过程示意图;
[0039]图3是本申请提供的基于体全息曝光用的液晶盒的示意图;
[0040]图4是本申请提供的制备方法中一种清洗方法的流程图。
具本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于体全息曝光用液晶盒的制备方法,其特征在于,包括:制备第一玻璃基板和第二玻璃基板;所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的尺寸满足预制备液晶盒的尺寸;清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;在清洗后的所述第一玻璃基板的第一区域设置固化胶,且预留至少一个材料罐装口;其中,所述第一玻璃基板包括第一区域和第二区域,所述第一区域围绕所述第二区域;在清洗后的所述第二玻璃基板的表面喷洒支撑材料;所述支撑材料的直径小于3μm;压合所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板,获得液晶盒;所述液晶盒的最大间隙值小于3μm,所述最大间隙值指的是压合后所述第二玻璃基板和所述第一玻璃基板之间的最大距离。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,制备第一玻璃基板和第二玻璃基板,包括:确定预制备液晶盒的尺寸,根据所述预制备液晶盒的尺寸,采用激光切割机切割玻璃,获得第一玻璃基板和第二玻璃基板。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板,包括:执行第一道清洗流程,在第一清洗槽中设置第一清洗剂,控制所述第一清洗剂的温度,超声清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;执行第二道清洗流程,在第二清洗槽中设置第二清洗剂,控制所述第二清洗剂的温度,超声清洗所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板;执行喷淋流程,将清洗后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在喷淋槽中喷淋;执行漂洗流程,将喷淋后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在超纯水槽中漂洗;执行慢拉流程,将漂洗后的所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板放置在慢拉槽中慢拉;执行烘干流程,将慢拉后的...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯威何益多史瑞李晓军
申请(专利权)人:广纳四维广东光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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