一种立面设计方法、装置及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种立面设计方法、装置及存储介质，包括以下步骤:将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域；在二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使单元网格阵列铺满所述二维绘制区域；根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸；获取设计完成的造型，设计完成的造型包括至少一个包含有偏移信息的曲面；将单元网格阵列投影到所述设计完成的造型上，得到与设计完成的造型有交集的单元网格集合；将设计完整的造型及单元网格集合按所述展开面进行合拢得到一立面；将立面中的曲面和及与所述曲面对应的单元网格按照对应的偏移信息进行偏移得到一立面单元模型。其设计的效率高且可实现精确的nurbs曲线设计。精确的nurbs曲线设计。精确的nurbs曲线设计。

【技术实现步骤摘要】
一种立面设计方法、装置及存储介质


[0001]本专利技术属于立面设计
，具体地涉及一种立面设计方法、装置及存储介质。

技术介绍

[0002]近些年随着市场和政策的变化，开发商的资金压力变大，各个项目的开发周期变得越来越短，同时，设计市场在未来会变得越来越专业化，行业内的竞争也会越来越激烈，也就意味着一方面设计周期紧张，另一方面，成果需要更高质量，所以高效化、节约化、多元化自然就成为了未来设计市场解决这一矛盾的关键点。
[0003]主流市场建模软件SkepchUp，采用手工建模的方法，建模速度慢，建模精度差，参数化程度低，虽然拥有庞大的插件库，弥补了部分功能不足的弱点，但因为其底层设计逻辑的问题，所以无法实现精确的nurbs曲线，进而满足施工精度要求。

技术实现思路

[0004]为了解决现有方法设计效率低且无法满足精确的nurbs曲线的问题，本专利技术提供一种立面设计方法、装置及存储介质，其效率高且可实现精确的nurbs曲线设计。
[0005]本专利技术的目的通过以下技术方案来实现：
[0006]本专利技术第一方面提供一种立面设计方法，包括以下步骤:
[0007]将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域；
[0008]在所述二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使所述单元网格阵列铺满所述二维绘制区域；
[0009]根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸；
[0010]获取设计完成的造型，所述设计完成的造型包括至少一个包含有偏移信息的曲面；
[0011]将所述单元网格阵列投影到所述设计完成的造型上，得到与所述设计完成的造型有交集的单元网格集合；
[0012]将所述设计完整的造型及单元网格集合按所述展开面进行合拢得到一立面；将所述立面中的曲面和及与所述曲面对应的单元网格按照对应的偏移信息进行偏移得到一立面单元模型。
[0013]在一种可能的设计中，所述在所述二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使所述单元网格阵列铺满所述二维绘制区域，包括：
[0014]获取单元网格；
[0015]计算铺满所述二维码绘制区域所需要的单元网格的数量，所述单元网格的数量包括纵向数量N1和横向数量N2；
[0016]以所述二维码绘制区域的中心为中心，按照纵向数量N1和横向数量N2绘制单元网格阵列。
[0017]在一种可能的设计中，所述计算铺满所述二维码绘制区域所需要的单元网格的数量，包括：
[0018]确定所述单元网格在所述二维绘制区域对应的长度D及宽度L；
[0019]根据所述单元网格在所述二维绘制区域对应的长度D及宽度L、二维绘制区域的长度W和高度H计算n1、n2，其中，n1＝[H/L]，n2＝[W/D]，[]表示取整；
[0020]根据n1、n2确定出纵向数量N1和横向数量N2，其中，纵向数量N1＝n1+P1，N2＝n2+P2，P1、P2为大于等于3的整数。
[0021]在一种可能的设计中，所述将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域，之后还包括：
[0022]根据幕墙轮廓线的构成形式将其分解为直线段和弧线段；
[0023]将所述直线段和弧线段的长度依次对应到展开面上，得到区域属性，所述区域属性包括直线区间和弧线区间。
[0024]在一种可能的设计中，所述根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸，包括：
[0025]获取至少一条干扰曲线；
[0026]计算所述二维绘制区域中每个单元网格的几何中心与所述干扰曲线的最短距离，得到至少一个最短距离；
[0027]确定所述至少一个最短距离中的最大值并根据该最大值对所述至少一个最短距离中的每个最短距离进行归一化处理，得到至少一个归一化值；
[0028]根据所述归一化值确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸。
[0029]在一种可能的设计中，所述得到一立面单元模型之后还包括：
[0030]删除与所述设计完整的造型无交集的单元网格，得到与所述设计完整的造型对应的单元网格；
[0031]统计所述与设计完整的造型对应的单元网格的数量及与设计完整的造型对应的单元网格中开孔的网格数量；
[0032]根据所述与设计完整的造型对应的单元网格的数量及与设计完整的造型对应的单元网格中开孔的网格数量计算开孔率。
[0033]在一种可能的设计中，所述得到一立面单元模型之后还包括：
[0034]获取一平面；
[0035]根据所述平面与所述立面单元模型相交算法，得到与该平面对应的轮廓线。
[0036]本专利技术第二方面提供一种立面设计装置，包括依次通信连接的存储器和控制器，所述存储器上存储有计算机程序，所述控制器用于读取所述计算机程序，执行第一方面及其任一种可能的设计中所述的一种立面设计方法。
[0037]本专利技术第三方面提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有指令，当所述指令在计算机上运行时，执行第一方面及其任一种可能的设计中所述的一种立面设计方法。
[0038]本专利技术与现有技术相比，至少具有以下优点和有益效果：
[0039]采用本方案的方法，通过将三维的涉设计面转换为二维，设计完成后再转换为立
面，其可快速实现精确的nurbs曲线设计和立面设计，效率高。
附图说明
[0040]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]图1为本专利技术的方法流程图；
[0042]图2为本专利技术一实例中绘制得到的菱形网格单元阵列示意图；
[0043]图3为一实例中得到的二维绘制区域图；
[0044]图4为一造型设计的实例图；
[0045]图5为一对曲面进行偏移的示例图；
[0046]图6为一对曲面进行偏移再进行挤出的示例图；
[0047]图7为单元网格投影至曲面上的一效果图；
[0048]图8为一实例中得到的立面单元模型效果图。
具体实施方式
[0049]为使本专利技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本专利技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施方式的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0050]因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施方式。基于本专利技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立面设计方法，其特征在于，包括以下步骤:将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域；在所述二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使所述单元网格阵列铺满所述二维绘制区域；根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸；获取设计完成的造型，所述设计完成的造型包括至少一个包含有偏移信息的曲面；将所述单元网格阵列投影到所述设计完成的造型上，得到与所述设计完成的造型有交集的单元网格集合；将所述设计完整的造型及单元网格集合按所述展开面进行合拢得到一立面；将所述立面中的曲面和及与所述曲面对应的单元网格按照对应的偏移信息进行偏移得到一立面单元模型。2.根据权利要求1所述的一种立面设计方法，其特征在于：所述在所述二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使所述单元网格阵列铺满所述二维绘制区域，包括：获取单元网格；计算铺满所述二维码绘制区域所需要的单元网格的数量，所述单元网格的数量包括纵向数量N1和横向数量N2；以所述二维码绘制区域的中心为中心，按照纵向数量N1和横向数量N2绘制单元网格阵列。3.根据权利要求2所述的一种立面设计方法，其特征在于：所述计算铺满所述二维码绘制区域所需要的单元网格的数量，包括：确定所述单元网格在所述二维绘制区域对应的长度D及宽度L；根据所述单元网格在所述二维绘制区域对应的长度D及宽度L、二维绘制区域的长度W和高度H计算n1、n2，其中，n1＝[H/L]，n2＝[W/D]，[]表示取整；根据n1、n2确定出纵向数量N1和横向数量N2，其中，纵向数量N1＝n1+P1，N2＝n2+P2，P1、P2为大于等于3的整数。4.根据权利要求1所述的一种立面设计方法，其特征在于：所述将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域，之后还包括：根据幕墙轮廓线的构成形式将其分解为...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐弛，杨恒，傅朗，幸志鹏，黎亮，张菁，
申请(专利权)人：基准方中建筑设计股份有限公司，
类型：发明
国别省市：