【技术实现步骤摘要】
半导体工艺设备及其散热装置
[0001]本申请属于半导体工艺设备设计
,具体涉及一种半导体工艺设备及其散热装置。
技术介绍
[0002]化学气相沉积外延生长是将反应气体输送到工艺腔室,通过加热等方式,使之反应,生长原子沉积在衬底上,长出单晶层。
[0003]工艺腔室采用位于工艺腔室上方的加热模块实现加热,加热模块包括加热灯管,且位于工艺腔室上方的加热模块与工艺腔室是隔离的,加热模块中的加热灯管发出红外光照射到工艺腔室内的托盘上,使托盘温度达到工艺温度。由于工艺温度在1000℃
‑
1200℃范围,在加热过程中,加热灯管会持续的发热,加热灯管的石英罩、反射板的温度会升高。
[0004]相关技术使用风机将风吹出,进入加热模块,吹扫内部的高温部件,将部件的热量带出,并循环上述过程实现降温。由于加热灯管的发光原理为卤钨循环原理,加热灯管的石英罩的温度必须维持在600℃
‑
800℃,风机的频率越高,石英罩的温度越低,在石英罩的温度低于600℃时,会造成钨在石英罩上的冷凝,降低加热灯管的使用寿命。当风机频率过低时,石英罩的温度高于800℃,则容易造成石英罩变形而损坏,为了维持加热灯管的正常工作温度,需要不断调节风机的频率,不容易准确地控制加热灯管处于正常工作温度,导致加热灯管的使用寿命大幅度缩短。
[0005]同时,风机在低频时,其内部建立的旋转磁场不规范,所以容易发热。且由于风机位于风道内,风机自身的散热依靠内部风的循环冷却,当风机的频率较低时,风循环流量变小而导 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体工艺设备的散热装置,用于对所述半导体工艺设备的加热模块(100)进行调温,其特征在于,所述散热装置包括风机(200)、第一通风支路(300)、第二通风支路(400)和调节阀(500);所述第一通风支路(300)和所述第二通风支路(400)并联在所述风机(200)的入风口和所述风机(200)的出风口之间;所述第一通风支路(300)用于连接所述加热模块(100),以使所述第一通风支路(300)输送的换热气体穿过所述加热模块(100);所述第一通风支路(300)和所述第二通风支路(400)中的至少一者设有所述调节阀(500),且所述调节阀(500)用于调节所述第一通风支路(300)输送的换热气体和所述第二通风支路(400)输送的换热气体的流量比例。2.根据权利要求1所述的散热装置,其特征在于,所述调节阀(500)设于所述第二通风支路(400)上。3.根据权利要求1所述的散热装置,其特征在于,所述散热装置包括温度检测模块(600)和控制器(700),所述控制器(700)分别与所述调节阀(500)和温度检测模块(600)相连,所述温度检测模块(600)用于检测所述加热模块(100)的实际温度,所述控制器(700)用于根据所述实际温度,控制所述调节阀(500)切换至与所述实际温度相匹配的开度。4.根据权利要求1所述的散热装置,其特征在于,所述调节阀(500)包括电机(510)、连接杆(520)和阀板(530),所述电机(510)安装于所述第一通风支路(300)或所述第二通风支路(400),所述连接杆(520)穿过所述第一通风支路(300)或所述第二通风支路(400),且与所述阀板(530)相连,所述阀板(530)设于所述第一通风支路(300)或所述第二通风支路(400)之内,所述电机(510)通过所述连接杆(520)驱动所述阀板(530)转动,以调节所述调节阀(500)的开度。5.根据权利要求1所述的散热装置,其特征在于,所述散热装置包括第一直角弯管段(101)、第二直角弯管段(102)、第一直线管段(103)、第二直线管段(104)和第三直线管段(105);所述第一直角弯管段(101)的第一端口与所述风机(200)的所述入风口连通;所述第二直角弯管段(102)的第一端口与所述风机(200)的所述出风口连通;所述第一直角弯管段(101)的第二端口与所述第一直线管段(103)的第一端口连通,所述第一直线管段(103)的第二端口用于与所述加热模块(100)的出气口连通;所述第二直角弯管段(102)的第二端口与所述第二直线管段(104)的第一端口连通,所述第二直线管段(104)的第二端口用于与所述加热模块(10...
【专利技术属性】
技术研发人员:商家强,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。