【技术实现步骤摘要】
高光渲染方法、装置、电子设备及存储介质
[0001]本专利技术涉及渲染
，尤其涉及一种高光渲染方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
[0002]为了渲染出渲染颗粒状高光反射(glitter)材质效果，可以由美术人员制作一张高精细的法线贴图，然后按照光照模型的算法，使用高精细的法线贴图中的数据作为法线，计算光照反射从而达到glitter效果，但是这种方式存在制作成本较高且不能复用的缺点。
[0003]为了解决上述缺点，现有方案通过美术人员编写染色器采样噪声贴图来制作所需法线分部函数，然后把游戏摄像机射线向量数据作为参数传入法线分部函数得到每个像素对应的法线数据，最后根据每个像素对应的法线数据计算光照模型的光照反射，但这种方式也存在光照模型计算复杂度高，性能开销大的缺点。
技术实现思路
[0004]本专利技术提供了一种高光渲染方法、装置、电子设备及存储介质，用于通过哈希函数来模拟光照模型的计算结果，从而减少性能开销。
[0005]本专利技术实施例的第一方面提供一种高光渲染方法，包括：获...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高光渲染方法，其特征在于，包括：获取摄像机坐标和待渲染模型的UV坐标；根据所述摄像机坐标和所述待渲染模型的UV坐标生成每个像素点的视线向量；根据所述待渲染模型的UV坐标和预置的哈希函数生成哈希高光函数，所述哈希高光函数用于指示单元格的高光效果，其中，所述单元格包括多个像素点；根据所述哈希高光函数、所述每个像素点的视线向量和所述待渲染模型的UV坐标对所述待渲染模型进行渲染，得到高光效果的初始模型。2.根据权利要求1所述的高光渲染方法，其特征在于，所述根据所述哈希高光函数、所述每个像素点的视线向量和所述待渲染模型的UV坐标对所述待渲染模型进行渲染，得到高光效果的初始模型，包括：根据所述每个像素点的视线向量、所述哈希高光函数、所述待渲染模型的UV坐标与预设的UV缩放值，生成第一计算结果，所述UV缩放值用于控制颗粒状高光的形状大小；根据第一计算结果对所述待渲染模型进行渲染，生成高光效果的初始模型。3.根据权利要求1所述的高光渲染方法，其特征在于，所述根据所述哈希高光函数、所述每个像素点的视线向量和所述待渲染模型的UV坐标对所述待渲染模型进行渲染，得到高光效果的初始模型，包括：根据所述每个像素点的视线向量、所述哈希高光函数、所述待渲染模型的UV坐标与预设的UV缩放值，生成第一计算结果，所述UV缩放值用于控制颗粒状高光的形状大小；根据所述每个像素点的视线向量、所述哈希高光函数、所述待渲染模型的UV坐标、预设的UV偏移值与预设的UV缩放值，生成第二计算结果；根据第一计算结果和第二计算结果对所述待渲染模型进行渲染，生成高光效果的初始模型。4.根据权利要求3所述的高光渲染方法，其特征在于，所述根据所述每个像素点的视线向量、所述哈希高光函数、所述待渲染模型的UV坐标与预设的UV缩放值，生成第一计算结果，包括：将所述待渲染模型的UV坐标与预设的UV缩放值相乘，得到第一缩放UV坐标；将所述每个像素点的视线向量和所述第一缩放UV坐标输入第一哈希高光函数，得到第一计算结果。5.根据权利要求3所述的高光渲染方法，其特征在于，所述根据所述每个像素点的视线向量、所述哈希高光函数、所述待渲染模型的UV坐标、预设的UV偏移值与预设的UV缩放值，生成第二计算结果，包括：将所述待渲染模型的UV坐标与预设的UV偏移值相加，得到偏移UV坐标；将所述偏移UV坐标与预设的UV缩放值相乘，得到第二缩放UV坐标；将所述每个像素点的视线向量和所述第二缩放UV坐标输入第二哈希高光函数，得到第二计算结果。6.根据权利要求3所述的高光渲染方法，其特征在于，所述根据第一计算结果和第二计算结果对所述待渲染模型进行渲染，生成高光效果的初始模型，包括：将所述第一计算结果和所述第二计算结果相乘，得到第一乘积；根据所述第一乘积对所述待渲染模型进行渲染，得到高光效果的初始模型。
7.根据权利要求1所述的高光渲染方法，其特征在于，在所述根据所述哈希高光函数、所述每个像素点的视线向量和所述待渲染模型的UV坐标对所述待渲染模型进行渲染，得到高光效果的初始模型之后，还包括：调整所述高光效果的初始模型中高光亮度和高光颜色...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈天成，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：
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