检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质，面密度设备包括放射源和与放射源间隔设置的电离室，检测方法包括：在面密度设备工作过程中，获取放射源的第一当前位姿和电离室的第二当前位姿；根据第一当前位姿确认放射源的第一位姿偏差；根据第二当前位姿确认电离室的第二位姿偏差；根据第一位姿偏差和第二位姿偏差确定放射源相对于电离室是否发生位姿改变。本申请实施方式的检测方法中，先分别获取放射源和电离室的当前位姿，再根据当前位姿确认放射源相对于电离室是否发生位姿改变，从而可以在放射源相对于电离室发生位姿改变时执行相应的措施，以提高面密度设备的测量结果的准确度。备的测量结果的准确度。备的测量结果的准确度。

【技术实现步骤摘要】
检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质


[0001]本申请涉及测试
，尤其涉及一种检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质。

技术介绍

[0002]面密度设备是一种检测片状物体的厚度和/或密度的设备。面密度设备一般包括放射源和电离室，在面密度设备工作时，被检物体设置在放射源和电离室之间，放射源向被测物体发射射线，射线经过被测物体后进入电离室，电离室根据射线的衰减程度确定被测物体的厚度和/或密度。然而，在面密度设备的使用时间过长时，放射源和电离室之间的相对位置可能发生改变，造成测量结果不准确。

技术实现思路

[0003]本申请实施方式提供了一种检测方法、面密度设备、检测装置和存储介质，能够至少部分解决在面密度设备的使用时间过长时，放射源和电离室之间的相对位置可能发生改变，造成测量结果不准确的技术问题。
[0004]本申请实施方式面密度设备的检测方法中，所述面密度设备包括放射源和与所述放射源间隔设置的电离室，所述检测方法包括：
[0005]在所述面密度设备工作过程中，获取所述放射源的第一当前位姿和所述电离室的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种面密度设备的检测方法，其特征在于，所述面密度设备包括放射源和与所述放射源间隔设置的电离室，所述检测方法包括：在所述面密度设备工作过程中，获取所述放射源的第一当前位姿和所述电离室的第二当前位姿；根据所述第一当前位姿确认所述放射源的第一位姿偏差；根据所述第二当前位姿确认所述电离室的第二位姿偏差；根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变。2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述获取所述放射源的第一当前位姿和所述电离室的第二当前位姿，包括：获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿。3.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿，包括：获取所述放射源在第一方向上的第一当前位置，所述第一方向与所述放射源的运动方向相同；获取所述电离室在第一方向上的第二当前位置，所述第一当前位姿包括所述第一当前位置，所述第二当前位姿包括所述第二当前位置；根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室在所述第一方向上发生位姿改变。4.根据权利要求3所述的检测方法，其特征在于，所述获取所述放射源在第一方向上的第一当前位置，包括：获取所述放射源两个不同部位在所述第一方向上的第一当前位置；根据两个所述第一当前位置确定所述放射源的第一扭转量，所述第一当前位姿包括所述第一扭转量；所述获取所述电离室在第一方向上的第二当前位置，包括；获取所述电离室两个不同部位在第一方向上的第二当前位置；根据两个所述第二当前位置确定所述电离室的第二扭转量，所述第二当前位姿包括所述第二扭转量；根据所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差确定所述放射源相对于所述电离室是否发生位姿改变，包括：在所述第一位姿偏差和所述第二位姿偏差的偏差程度不同时，确定所述放射源相对于所述电离室发生扭转位姿改变。5.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，获取所述放射源和所述电离室在至少一个方向上的当前位置以确定所述第一当前位姿和所述第二当前位姿，包括：获取所述放射源在第二方向上的第三当前位置，所述第二方向与所述放射源的运动方向垂直，所述第二方向与所述放射源和所述电离室的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王强军，张敬东，展冰洋，真志辉，陈维刚，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：