一种用于以处理介质来处理待处理材料的喷嘴装置，其中待处理材料（１０）能在传送平面中沿传送方向（１８）从喷嘴装置的入口区域（１５）传送至出口区域（１６）， 其特征在于， 至少一个喷嘴开孔（８），其以如下方式设计，即通过所述喷嘴开孔（８）的处理介质流相对于所述待处理材料（１０）的传送平面成预定角度倾斜行进，从而使所述处理介质流偏转至所述待处理材料（１０）的传送方向（１８）。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。具体地，本专利技术涉及一种浪涌式喷嘴装置，例如其可用在对非常薄的印刷电路薄膜或印刷电路板进行湿化学处理的行进系统中。
技术介绍
浪涌式喷嘴形式的喷嘴装置例如用在用于印刷电路板的湿化学处理的行进系统中，以便可对行进通过该系统的印刷电路板或印刷电路薄膜形式的待处理材料进行最快且最均匀的处理。在此情况下，通过将数个浪涌式喷嘴设置在待处理材料的行进平面之上和/或之下，使得喷嘴装置横向于待处理材料大致在其整个宽度上延伸。通过浪涌式喷嘴，处理液喷射在待处理材料的表面上或从其吸取，以由此实现对待处理材料的表面上的处理液的恒定且均匀的交换。在这方面，EP 1187515 A2中提出了大量的不同的喷嘴装置。在此情况下，在各例中基本都利用了具有不同喷嘴形状的圆形管。这些喷嘴形状例如可以是倾斜布置的槽喷嘴、一个接一个布置成很多行的圆喷嘴，或一个接一个成行排布的具有不同宽度的槽喷嘴。其中所描述的喷嘴装置具体涉及枢转式喷嘴，通过该枢转式喷嘴，在待处理材料行进通过的同时，可以实现处理液的液流方向的周期性改变。在DE 3708529 A1中，提出了使用槽喷嘴，由此，因为相应喷嘴的槽宽可变，可以调整各个处理液的流量及喷射压力。在DE 3528575 A1中，喷嘴用于在印刷电路板水平行进期间对钻孔进行清洁、活化和/或金属化，该喷嘴布置在传送平面下方并垂直于传送方向，驻波形式的液体处理介质从该喷嘴被传送至行进通过系统的各个印刷电路板的下侧面上。喷嘴设置在喷嘴壳体的上部中，喷嘴壳体由具有吸入开孔的预备腔形成，由此，借助于孔罩将预备腔与喷嘴的内部空间的上部分隔开。通过孔罩，实现了朝向喷嘴的液体处理介质的流动分配。以槽的形式位于实际喷嘴开孔的前方的喷嘴内部空间用于作为形成均匀的液体处理介质浪涌的预备腔。从EP 0280078 B1已知一种用于通过合适的处理液来清洁或化学处理工件(具体指印刷电路板)的喷嘴装置。该喷嘴装置包括下入口盒及壳体盒，由此，处理液通过下入口盒、通过壳体盒底部中的孔而被导入壳体盒的内部。壳体盒具有中央分隔壁，该中央分隔壁结合有两个穿孔水平面及位于这两个穿孔水平面上的槽，从而，处理液流至两个槽且在其上形成了两个均匀的正弦曲线浪涌轮廓，其流动通过工件，具体是流动通过印刷电路板的钻孔。由此通过文丘里效应(Venturi effect)确保了材料的密集交换。通过上述浪涌式喷嘴装置，因为在连接至处理液的入口的区域处会出现最大的处理液量，故在在该区域内的流速最大。因为在各种情况下处理液的一部分都会经由浪涌式喷嘴装置的各个喷嘴开孔流出，所以，流速会随着离开连接区域的距离的增大而减小。由此，除了静压之外，还会在喷嘴开孔处产生冲击或总压以及不稳定的流速。随之的后果是导致处理液的排出量不同。在对非常薄且/或敏感的待处理材料进行湿化学处理期间，还存在以下的危险，即在喷嘴装置的入口区域中，待处理材料会因产生在待处理材料的一个边缘上的液体浪涌而偏转脱离运动路径或传送路径。这会导致以下情况，即待处理材料沿喷嘴装置刮蹭或完全让其绊住，这将导致待处理材料的损耗或者相应处理系统内部的阻塞。在此阻塞情况下，为了清除阻塞则一定会中断生产，在多数情况下由于较长的处理时间，这会进而导致其他处理工作站的损耗。因此，本专利技术基于以下目的，即提供一种喷嘴装置及一种用于以处理液处理待处理材料——具体是非常薄的板状的待处理材料的方法，其解决了上述问题，具体而言，其避免了在喷嘴装置的入口区域内待处理材料由于处理液或其他处理介质的流动而偏转脱离传送路径。这意味着，在喷嘴装置的入口区域内，垂直于待处理材料的平面的力必须尽可能的小。
技术实现思路
根据本专利技术，上述目的由具有独立权利要求1的特征的喷嘴装置以及具有独立权利要求27的特征的方法实现。在每种情况下，独立权利要求均限定了本专利技术的优选或有利的实施方式。根据本专利技术的方法及喷嘴装置所基于的基本原理由通过在待处理材料的传送方向上的分流来输送或除去处理介质而构成。由此，处理介质在喷嘴装置或处理通道的入口区域的周围区域内受到牵引，由此在处理通道内支撑待处理材料的传送。根据本专利技术的喷嘴装置用于以处理液或更概括来说用处理介质来处理作为板或头尾相连材料的待处理材料(诸如印刷电路板或印刷电路薄膜形式)，由此待处理材料可沿传送方向在传送平面中从喷嘴装置的入口区域传送至出口区域。除了处理液之外，处理介质例如还可以是气体处理介质。在此情况下，喷嘴装置包括至少一个喷嘴开孔，该喷嘴开孔以以下方式设计，即处理液的液流或处理介质流以相对于待处理材料的传送平面成预定角度倾斜流过喷嘴开孔。该角度以以下方式预定，即处理液的液流或处理介质流偏转至待处理材料的传送方向或流出已在此方向移动的喷嘴开孔。其结果是，处理液或处理介质大体从至少一个喷嘴开孔沿喷嘴装置的出口区域的方向而非沿喷嘴装置的入口区域的方向流动。由此，在喷嘴装置的处理通道中产生由喷嘴装置及待处理材料所形成的负压，由此，循环的处理介质在喷嘴装置的入口区域内受到牵引，而避免了待处理材料偏转脱离传送平面或脱离所希望的传送路径的危险。液流或处理介质流的偏转优选由通过至少一个喷嘴开孔通道所形成的至少一个喷嘴开孔实现，所述喷嘴开孔通道相对于待处理材料的传送平面成锐角延伸。在此情况下，该角优选最大为80度。但是，已经验证，0度至60度之间的角或更优选的10度至30度之间的角是特别有利的。根据本专利技术的喷嘴装置可设计为用于将处理介质喷射至待处理材料上或用于吸取处理介质。在第一种情况中，即，如果至少一个喷嘴开孔设计为针对处理介质的输送而设计，则该角对着待处理材料的传送方向开，使得处理介质流被偏转至待处理材料的传送方向。在此情况下，如果至少一个喷嘴开孔以以下方式布置在喷嘴装置大体沿传送平面延伸的壳体壁中是特别有利的，即以从所述至少一个喷嘴开孔至入口区域的距离小于从所述至少一个喷嘴开孔至出口区域的距离的方式布置。在第二种情况下，即，如果至少一个喷嘴开孔针对接收或吸取处理介质而设计，则该角沿待处理材料的传送方向打开而使得形成以下的情况，即处理介质流偏转至待处理材料的传送方向。在此情况下，如果至少一个喷嘴开孔以以下方式布置在大体沿传送平面延伸的壳体壁中是特别有利的，即以从所述至少一个喷嘴开孔至出口区域的距离小于从所述至少一个喷嘴开孔至入口区域的距离。因为喷嘴装置的不对称结构，确保了在喷嘴装置与待处理材料之间形成延伸的处理通道，在该处理通道中，处理介质沿待处理材料的传送方向流动。这确保了以处理介质对待处理材料的更有效处理。但是，将喷嘴开孔布置在入口区域或出口区域的附近并不是强制性的。优选地，喷嘴装置设计为喷嘴装置的壳体壁(优选的是布置至少一个喷嘴开孔的壳体壁)与传送平面之间的距离在入口区域与所述至少一个喷嘴开孔之间的区段内沿待处理材料的传送方向减小。由此，在该区段中，在壳体壁与传送平面之间形成沿入口区域的方向呈楔形开设的通道。优选地，喷嘴装置还设计为喷嘴装置的壳体壁与传送平面之间的距离间隔在所述至少一个喷嘴开孔与出口区域之间的区段中沿待处理材料的传送方向增加，由此在该区段中于壳体壁与传送平面之间形成沿出口区域的方向呈楔形开设的通道。优选地，形成在待处理材料的两侧上的楔形通道、具体指至此所提及的楔形通道的结合借助于本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：亨利·孔策，费迪南德·维纳，
申请(专利权)人：埃托特克德国有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。