一种清洁基站制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洁基站，属于清洁设备技术领域，包括基站主体及清洗盘，清洗盘设有清洗槽，基站主体设有防溢检测装置，所述防溢检测装置包括支架、检测电极及定位配合结构，检测电极通过支架可上下转动设置且设有检测位置和避让位置，定位配合结构作用于支架且包括两个间隔分布的定位槽及定位件，定位件与两个定位槽分别嵌合使支架维持在检测电极处于检测位置或避让位置的状态。定位配合结构采用定位件和定位槽配合的结构，定位可靠且结构简单，取消现有结构中的扭簧，有利于合理简化防溢检测装置的结构并提高防溢检测装置的组装效率。装效率。装效率。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁基站


[0001]本技术涉及清洁设备
，尤其涉及一种清洁基站。

技术介绍

[0002]现有清洁机器人的基站包括基站本体和具有清洗槽的清洗盘，清洗盘可拆卸连接与基站主体连接，基站本体枢接有防溢检测元件，该防溢检测元件和基站本体之间设有弹性件，以使防溢检测元件可在检测位置和避让位置之间翻转切换。当清洗盘安装于基站本体时，防溢检测元件转至检测位置以检测清洗槽内的水位，当清洗盘拆离于基站本体时，防溢检测元件翻转至避让位置以脱离清洗槽。但该防溢检测元件与基站本体的安装结构较为复杂，降低二者之间的安装效率。此外，由于弹性件的存在，尤其是弹性件的性能选择不合适时，防溢检测元件在翻转过程中易出现卡顿的情况，导致防溢电极的翻转不顺畅而产生防溢不可靠的问题，降低用户使用体验。

技术实现思路

[0003]为了解决上述现有技术中存在的缺点和不足，本技术提供了一种清洁基站，将防溢检测装置设置在基站主体上，通过定位配合结构限定支架的状态，从而限定检测电极的具体位置，使检测电极同时满足防溢检测要求及对拆装的清洗盘进行避让的要求。
[0004本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁基站，包括基站主体及可拆卸安装于基站主体的清洗盘，清洗盘设有清洗槽，基站主体设有用于检测清洗槽内水位的防溢检测装置，其特征在于，所述防溢检测装置包括支架、检测电极及定位配合结构，检测电极通过支架可上下转动设置且设有伸入清洗槽中的检测位置和高于清洗盘的避让位置，定位配合结构作用于支架且包括两个间隔分布的定位槽及与定位槽配合的定位件，定位件与两个定位槽分别嵌合使支架维持在检测电极处于检测位置或避让位置的状态，安装于基站主体的清洗盘触动支架使支架带动检测电极自避让位置向下转动至检测位置，拆离于基站主体的清洗盘反向触动支架使支架带动检测电极自检测位置向上转动至避让位置。2.根据权利要求1所述的一种清洁基站，其特征在于，所述防溢检测装置包括安装座，支架可上下转动的设于安装座，定位配合结构设于支架与安装座之间。3.根据权利要求2所述的一种清洁基站，其特征在于，所述支架设有与转动中心同心设置的弧形面，两个定位槽间隔设于弧形面上，定位件设于安装座上。4.根据权利要求3所述的一种清洁基站，其特征在于，所述安装座设有一端固定、另一端悬空的弹性臂，定位件设于弹性臂的悬空端。5.根据权利要求2所述的一种清洁基站，其特征在于，所述安装座设有与...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱泽春，罗成忠，李益鼎，
申请(专利权)人：九阳股份有限公司，
类型：新型
国别省市：