用于将结构精确施加到基板上的方法和设备技术

技术编号:3724725 阅读:166 留言:1更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种提供基板的方法,其中,在扫描步骤中,通过加工头的至少一个扫描装置检测已经施加于基板的结构,其中该加工头至少设置有至少一个照射装置,该照射装置在照射步骤中利用在扫描步骤中获得的信息而局部照射该施加的漆结构。另外还描述了一种实施所述方法的设备,该设备配置有可以相对于基板载体相对移动的加工头,其中该加工头包括至少一个扫描装置和至少一个照射装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在用于将结构精确施加到基板上的方法和设备
技术介绍
迄今为止,经常使用掩模来局部遮蔽用于形成结构的漆,使其免于照射。使用这些掩模是费力且昂贵的。况且,对于每一个新的结构,都需要制造出新的掩模。将结构施加于基板的另一问题是其中要使用大量的漆和溶剂。人们必须面对的另一问题是提供具有精确轮廓的结构。在各层中的结构的相对位置也是将结构精确施加于基板的重要问题。该方法的应用可以是,例如,生产电子元件的方法,如OLED、太阳能电池、显示器上的TFT结构等等。对于这些元件来说,在连续施加的很多层的材料中,其中的结构相对于彼此能够非常准确地定位是非常重要的。这里,至少2微米,优选1微米的所谓覆盖精度是理想的。
技术实现思路
本专利技术就是涉及给基板施加漆结构的方法,该方法至少解决上述多种问题。为此目的,本专利技术提供一种方法,其中,在扫描步骤中,通过加工头的至少一个扫描装置检测已经施加于基板的结构,而该加工头至少设有至少一个照射装置,该照射装置在照射步骤中利用在扫描步骤中获得的信息而局部照射该施加的漆结构。使用加工头的扫描装置,可以非常准确地检测该已经施加的结构的位置,以致可以非常精本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提供基板的方法,其中,在扫描步骤中,通过加工头的至少一个扫描装置检测已经施加于所述基板的结构,其中所述加工头设置有至少一个照射装置,所述照射装置在照射步骤中利用所述扫描步骤获得的信息而局部照射该施加的漆结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:马里纳斯弗朗西斯库斯约翰内斯埃弗斯彼得布赖尔科内利斯彼得鲁斯杜波
申请(专利权)人:OTB集团有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

网友询问留言 已有1条评论
  • 来自[北京市联通] 2015年03月29日 10:48
    单分子膜,是厚度只有一分子厚的分子膜。许多有机溶剂都能在水面上铺展,因此可以将极性有机物溶于这类溶剂中,然后滴加到水面上,待溶剂挥发之后,表面上即留下一层有机物形成的膜
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