使用激光束形成通孔的方法技术

本发明专利技术提供了一种使用激光束形成通孔的方法。所述方法包括：通过照射具有预定频率的激光束，在第一金属层中形成第一孔；降低具有相同频率的激光束的能量密度；和通过照射具有相同频率的激光束，在介电层形成对应于第一孔的第二孔。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种使用激光束在多层基片中形成通孔的方法，所述多层基片具有：第一金属层；在第一金属层下方形成的介电层；和在介电层下方形成的第二金属层，所述方法包括以下步骤：通过照射具有预定频率的激光束，在第一金属层中形成第一孔；降低具有相同 频率的激光束的能量密度；和通过照射具有相同频率的激光束，在介电层形成与第一孔对应的第二孔。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：成天也，曹光佑，金圣勋，柳忠基，
申请(专利权)人：EO技术株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]