【技术实现步骤摘要】
一种应用于高低温传函仪的红外中继系统
[0001]本专利技术属于红外系统
，更具体地，涉及一种应用于高低温传函仪的红外中继系统，适用于F数2以上的中波红外被测镜头进行高低温传函测试。
技术介绍
[0002]光学传递函数(Modulation Transfer Function，MTF)，能够定量反映光学系统孔径、光谱成分以及像差大小所引起的综合效果，可以进行精确客观的直接测量，能够有效对光学系统所成图像的质量进行综合表达，因此被公认为现代光学系统像质评价的重要指标。
[0003]光学系统工作于外部恶劣环境时，环境温度变化将引起光学系统的材料折射率变化、光学与结构件热胀冷缩，进而导致系统焦距变化、像面位移(离焦)、成像质量恶化等。这种光学系统的热不稳定性主要是由于光学材料的热稳定性较差，多数光学材料的折射率随温度变化明显。因此，对高低温条件下镜头的成像质量进行精确测试，有助于定量评价镜头的高低温成像性能。
技术实现思路
[0004]针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本专利技术提出了一种应用于高低温...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于高低温传函仪的红外中继系统，其特征在于，包括：前组成像系统、温箱保护窗口、刀口或狭缝和后组成像系统；所述前组成像系统包括第一前组透镜、第二前组透镜、第三前组透镜和第四前组透镜；所述后组成像系统包括第一后组透镜、第二后组透镜、第三后组透镜和第四后组透镜；所述温箱保护窗口包括第一温箱保护窗口和第二温箱保护窗口；物方成像光束依次经过第一温箱保护窗口、第二温箱保护窗口、第一前组透镜、第二前组透镜、第三前组透镜和第四前组透镜后一次成像，刀口或狭缝靠近物方的前表面放置在一次像点处，再经过第一后组透镜、第二后组透镜、第三后组透镜和第四后组透镜二次成像在点源探测器靶面上。2.根据权利要求1所述的红外中继系统，其特征在于，光线入射方向为物方，即为被测镜头的焦面，光线出射方向为像方，即为点源探测器靶面，第一温箱保护窗口和第二温箱保护窗口均是一片氟化钙平面窗口，第一前组透镜是一片凸面向像方的硅正透镜，第二前组透镜是一片凸面向物方的弯月形锗负透镜，第三前组透镜是一片凸面向物方的弯月形硅正透镜，第四前组透镜是一片凸面向像方的弯月形锗负透镜，刀口或狭缝均是一片蓝宝石平面玻璃，第一后组透镜是一...
【专利技术属性】
技术研发人员：柴炎，李彪，吴耀，李勇，朱广亮，张伟，
申请(专利权)人：湖北久之洋红外系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。